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用化学气相沉积方法在石墨表面沉积钨涂层的研究 被引量:8
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作者 刘高建 杜继红 +1 位作者 李争显 周慧 《稀有金属快报》 CSCD 2005年第3期28-30,共3页
研究了在一定温度的石墨基体表面上用化学气相沉积钨涂层的方法。通过调节氢气、氯气的气流量,控制流量比,得到了具有一定厚度、晶粒均匀致密的钨涂层,并对试验中仍需解决的问题做了讨论。
关键词 钨涂层 表面沉积 化学气相沉积方法 基体 晶粒 石墨 厚度 研究
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一种金刚石薄膜微波等离子体化学气相沉积方法及装置
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《化学分析计量》 CAS 2018年第1期67-67,共1页
本发明提供了一种利用磁控技术提高金刚石薄膜微波等离子体化学气相沉积设备沉积速率的方法和装置。该方法包含以下步骤:在微波等离子体化学气相沉积工艺中利用磁场形成电子捕集阱,电子在捕集阱的约束下,在衬底上方固定区域作封闭的曲... 本发明提供了一种利用磁控技术提高金刚石薄膜微波等离子体化学气相沉积设备沉积速率的方法和装置。该方法包含以下步骤:在微波等离子体化学气相沉积工艺中利用磁场形成电子捕集阱,电子在捕集阱的约束下,在衬底上方固定区域作封闭的曲线运动,电子在运动过程中碰撞反应气体碰撞生成前驱反应基团和石墨组织抑制基团,从而提高反应基团浓度,实现金刚石薄膜沉积速率的提高。使用该方法的反应腔装置由微波源、螺钉调配器、定向耦合器、同轴天线、波导装置、调节活塞、谐振腔、石英罩、磁场发生装置等组成。本发明优点是可以显著提高金刚石微波等离子体化学气相沉积工艺的薄膜沉积速率,工艺和装置简单,便于实施。 展开更多
关键词 化学气相沉积方法 微波等离子体 金刚石薄膜 装置 反应 沉积速率 沉积工艺 沉积设备
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化学气相沉积
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作者 彭补之 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2003年第4期76-76,共1页
20030401 化学气相沉积Ti-Si-C-N新型涂层——Kao D H.TheSolid Film,2002,419(11):11(英文) 探讨了常压下TiCl_4,SiCl_4,C_2H_2,NH_3和Ar作反应气体,用化学气相沉积方法制备的Ti-Si-C-N四元复合涂层。为了降低沉积温度,改变了过去常用... 20030401 化学气相沉积Ti-Si-C-N新型涂层——Kao D H.TheSolid Film,2002,419(11):11(英文) 探讨了常压下TiCl_4,SiCl_4,C_2H_2,NH_3和Ar作反应气体,用化学气相沉积方法制备的Ti-Si-C-N四元复合涂层。为了降低沉积温度,改变了过去常用的工艺条件,以NH_3取代N_2。在不同的沉积温度和SiCl_4流量的工况下,研究了四元涂层的沉积过程。当涂层厚度为4.5~20.0μm时,生长速率较快(9.0~40.0μm/h),且与工艺参数有关。值得注意的是:在各种温度下SiCl_4的流量会影响涂层的组织、成分和生长动力学。涂层硬度为11.5~20.3GPa时,且与沉积温度和SiCl_4供量有关。 展开更多
关键词 陶瓷材料 导电薄膜 等离子化学气相沉积方法 高电导率
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ZnO薄膜的光抽运紫外激射 被引量:4
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作者 刘大力 杜国同 +7 位作者 张源涛 王新强 杨天鹏 杨晓天 赵佰军 杨洪军 刘博阳 张景林 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第4期389-392,共4页
采用等离子体增强MOCVD方法生长出高质量的ZnO薄膜 ,并观察到了ZnO薄膜的光抽运紫外激射现象。在不同激发强度下进行了光荧光谱测量 ,发现紫外发光强度随着激发光强度的增加呈直线增强 ,证明此紫外发光峰来源于带边自由激子辐射复合。... 采用等离子体增强MOCVD方法生长出高质量的ZnO薄膜 ,并观察到了ZnO薄膜的光抽运紫外激射现象。在不同激发强度下进行了光荧光谱测量 ,发现紫外发光强度随着激发光强度的增加呈直线增强 ,证明此紫外发光峰来源于带边自由激子辐射复合。激发的激光器为 3倍频YAG激光器 ,脉宽 15ps,每秒 10个脉冲。抽运光达到样品的光斑直径约为 2 5 μm ,激射阈值为 0 .2 8μJ ,利用光纤连接到CCD来探测接收激射光。在 385~ 390nm之间的激射峰 ,其半峰全宽为 0 .0 3nm。所观察到的激射没有固定的方向 ,也就是说是往各个方向发射的。对于ZnO薄膜 ,由于我们并没有制作通常激光器的谐振腔 。 展开更多
关键词 金属有机化学气相沉积方法 ZNO薄膜 光抽运紫外激射
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掺硼p型非晶硅薄膜的制备及光学性能的表征 被引量:2
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作者 夏冬林 王慧芳 +2 位作者 石正忠 张兴良 刘俊 《影像科学与光化学》 CAS CSCD 北大核心 2010年第4期296-304,共9页
以高氢稀释的硅烷(Si H4)为反应气体,硼烷(B2H6)为掺杂气体,利用RF-PECVD方法,在玻璃衬底上制备出掺硼的氢化非晶硅(a-Si∶H)薄膜,研究了硼掺杂量对氢化非晶硅(a-Si∶H)薄膜的光学性能的影响.利用NKD-7000 W光学薄膜分析系统测试薄膜的... 以高氢稀释的硅烷(Si H4)为反应气体,硼烷(B2H6)为掺杂气体,利用RF-PECVD方法,在玻璃衬底上制备出掺硼的氢化非晶硅(a-Si∶H)薄膜,研究了硼掺杂量对氢化非晶硅(a-Si∶H)薄膜的光学性能的影响.利用NKD-7000 W光学薄膜分析系统测试薄膜的透射谱和反射谱,并利用该系统的软件拟合得出薄膜的折射率、消光系数、吸收系数等光学性能参数,利用Tauc法计算掺硼的非晶硅薄膜的光学带隙.实验结果表明,随着硼掺杂量的增加,掺杂非晶硅薄膜样品在同一波长处的折射率先增大后减小,而且每一样品均随着入射光波长的增加而减小,在波长500 nm处的折射率均达到4.3以上;薄膜的消光系数和吸收系数随着硼掺杂量的增大而增大,在500 nm处的吸收系数可高达1.5×105cm-1.在实验的硼掺杂范围内,光学带隙从1.81 eV变化到1.71 eV. 展开更多
关键词 RF-等离子体增强化学气相沉积方法 非晶硅薄膜 折射率 消光系数 吸收系数 光学带隙
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纳米金刚石薄膜的二次电子发射特性 被引量:2
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作者 李凯 金晓 +2 位作者 甘孔银 王汉斌 胡和平 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第10期1744-1748,共5页
简要介绍了微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)方法在硅基底上制备纳米金刚石薄膜的过程,并对制备的薄膜进行了表面分析。在此基础上设计出了用来测定反射型二次电子发射系数的实验装置,得出了几种薄膜在不同入射能量下的发射系数,取得了... 简要介绍了微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)方法在硅基底上制备纳米金刚石薄膜的过程,并对制备的薄膜进行了表面分析。在此基础上设计出了用来测定反射型二次电子发射系数的实验装置,得出了几种薄膜在不同入射能量下的发射系数,取得了二次发射系数为15的满意结果,表明纳米金刚石薄膜作为二次电子发射材料具有很好的应用前景。 展开更多
关键词 高平均功率自由电子激光 纳米金刚石膜 微波等离子体化学气相沉积方法 二次电子发射特性
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穿甲弹用单晶钨棒
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作者 范爱国 《兵器材料科学与工程》 CAS CSCD 北大核心 2006年第6期38-38,共1页
美国专利US200572498中公布了一种用于制造穿甲弹弹芯的高密度单晶钨棒的制备工艺。该钨棒的主要成分是钨或者含有钽、铼、铌或钼的钨合金,钨合金中的钨含量不低于90%(质量分数)。使用沿轴向排列的【100】晶向单晶制造的弹芯用圆柱... 美国专利US200572498中公布了一种用于制造穿甲弹弹芯的高密度单晶钨棒的制备工艺。该钨棒的主要成分是钨或者含有钽、铼、铌或钼的钨合金,钨合金中的钨含量不低于90%(质量分数)。使用沿轴向排列的【100】晶向单晶制造的弹芯用圆柱状棒材的直径超过3mm.长径比不低于10.在1600-2200℃下以低压氯气气化的粒状多晶钨为原料,采用化学气相沉积方法在加热的体心立方晶格金属丝基底上制造弹芯棒坯。 展开更多
关键词 穿甲弹 钨棒 单晶 化学气相沉积方法 体心立方晶格 制备工艺 美国专利 质量分数
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LED小资料
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《中国科技财富》 2005年第10期34-38,共5页
外延片生长 外延生长的基本原理是,在一块加热至适当温度的衬底基片(主要有红宝石和SiC两种)上,气态物质In,Ga,A1,P有控制的输送到村底表面,生长出特定单晶薄膜。目前LED外延片生长技术主要采用有机金属化学气相沉积方法。
关键词 LED外延片 化学气相沉积方法 外延生长 态物质 单晶薄膜 有机金属 生长技术 SIC 红宝石
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Preparation of N-Doped TiO_2-Loaded Halloysite Nanotubes and Its Photocatalytic Activity under Solar-Light Irradiation 被引量:1
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作者 Cheng Zhilin Sun Wei 《China Petroleum Processing & Petrochemical Technology》 SCIE CAS 2015年第2期64-68,共5页
The N-doped TiO2-loaded halloysite nanotubes(N-Ti O2/HNTs) nanocomposites were prepared by using chemical vapor deposition method which was realized in autoclave. The photocatalytic activity of nanocomposites was eval... The N-doped TiO2-loaded halloysite nanotubes(N-Ti O2/HNTs) nanocomposites were prepared by using chemical vapor deposition method which was realized in autoclave. The photocatalytic activity of nanocomposites was evaluated by virtue of the decomposition of formaldehyde gas under solar-light irradiation. The XRD patterns verified that the anatase structured TiO2 was deposited on HNTs. The TEM images showed that the surface of HNTs was covered with nanosized TiO2 with a particle size of ca. 20 nm. The UV-vis spectra indicated that the N-Ti O2/HNTs presented a significant absorption band in the visible region between 400 nm and 600 nm. Under solar-light irradiation, the highest degradation rate of formaldehyde gas attained 90% after 100 min of solar-light irradiation. The combination of the photocatalytic property of TiO2 and the unique structure of halloysite would assert a promising perspective in degradation of organic pollutants. 展开更多
关键词 photocatalytic activity halloysite nanotubes NITROGEN-DOPED titanium dioxide
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