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二维半金属/硅异质结中肖特基势垒高度的准确高效预测
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作者 诸海渝 文卓群 +2 位作者 熊稳 魏兴战 王峙 《物理化学学报》 北大核心 2025年第7期95-102,共8页
肖特基势垒高度(SBH)的准确预测对优化半金属/半导体异质结器件的性能至关重要。目前,二维半金属/半导体异质结构已在实验上得到广泛研究。然而,基于第一性原理的SBH预测通常需要在包含超过10^(3)个原子的超胞中求解从头算哈密顿量。计... 肖特基势垒高度(SBH)的准确预测对优化半金属/半导体异质结器件的性能至关重要。目前,二维半金属/半导体异质结构已在实验上得到广泛研究。然而,基于第一性原理的SBH预测通常需要在包含超过10^(3)个原子的超胞中求解从头算哈密顿量。计算复杂度的增加不仅导致效率极低,还限制了异质结器件的设计和优化。本研究采用密度泛函理论结合核心能级对准方法,将过渡金属二碲化物半金属/硅异质结的超胞尺寸减少了一个数量级,计算得到的SBH与实验结果一致。进一步研究了多种二维半金属化合物,结果表明候选材料的空穴SBH均低于电子SBH,此外,厚度效应在三到五层后变得可以忽略不计。本研究为复杂异质结构中SBH计算提供一种高效的计算框架,能够为高性能二维半金属异质结器件的优化设计提供理论依据。 展开更多
关键词 肖特基势垒高度 半金属/硅异质结构 核心能级对准方法 第一性原理 晶格失配
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TiO_2压敏陶瓷势垒高度的测定 被引量:1
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作者 孟凡明 《压电与声光》 CSCD 北大核心 2006年第5期613-614,共2页
基于典型的陶瓷工艺制备试样。压敏陶瓷可视为双向导通的二极管,将适用于齐纳二极管的半导体理论应用于TiO2-SrCO3-Bi2O3-SiO2-Ta2O5压敏陶瓷。测量了低压下的电流-电压(I-V)特性,根据lnJs与E1/2关系曲线的拟合直线的的截距得出了TiO2-S... 基于典型的陶瓷工艺制备试样。压敏陶瓷可视为双向导通的二极管,将适用于齐纳二极管的半导体理论应用于TiO2-SrCO3-Bi2O3-SiO2-Ta2O5压敏陶瓷。测量了低压下的电流-电压(I-V)特性,根据lnJs与E1/2关系曲线的拟合直线的的截距得出了TiO2-SrCO3-Bi2O3-SiO2-Ta2O5压敏陶瓷的势垒高度。 展开更多
关键词 压敏陶瓷 势垒高度 热发射
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n-CdTe Schottky势垒薄膜太阳能电池中嵌入p型层对其势垒高度影响的计算机模拟
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作者 林鸿生 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 1998年第2期14-17,共4页
通过求解Poisson方程,对热平衡态金属:p-n-CdTeSchotky势垒薄膜太阳能电池进行计算机数值模拟。嵌入的p型层增大传统金属:n-CdTe结的有效Schotky势垒高度与p型层厚度、掺杂浓度以及n-CdT... 通过求解Poisson方程,对热平衡态金属:p-n-CdTeSchotky势垒薄膜太阳能电池进行计算机数值模拟。嵌入的p型层增大传统金属:n-CdTe结的有效Schotky势垒高度与p型层厚度、掺杂浓度以及n-CdTe本底电阻率有依赖关系。最后讨论嵌入p型层增强CdTeSchotky势垒太阳能电池对光生载流子的收集作用。 展开更多
关键词 薄膜 太阳电池 势垒高度 碲化镉
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不同退火温度下金属/4H—SiC Schottky势垒高度的研究 被引量:2
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作者 杨克勤 陈厦平 +4 位作者 杨伟锋 孔令民 蔡加法 林雪娇 吴正云 《量子电子学报》 CAS CSCD 北大核心 2005年第2期251-255,共5页
采用磁控溅射的方法在4H-SiC样品上分别沉积四种金属薄膜(Ag,Cu,Ni,Cr)形成Schottky 接触,研究了不同温度退火对Schottky势垒高度的影响。通过对样品的I-V测试结果的拟合,得到各金属/4H-SiC Schottky接触的势垒高度以及理想因子。在反... 采用磁控溅射的方法在4H-SiC样品上分别沉积四种金属薄膜(Ag,Cu,Ni,Cr)形成Schottky 接触,研究了不同温度退火对Schottky势垒高度的影响。通过对样品的I-V测试结果的拟合,得到各金属/4H-SiC Schottky接触的势垒高度以及理想因子。在反向偏压100V下,样品的反向漏电流小于10-10A,说明样品的反向特性良好。样品经过不同温度的退火后,发现Cu、Ni与4H-SiC的势垒高度(SBH)随退火温度的升高而提高,超过某一温度,其整流特性变差; Ag、Cr的SBH在退火后降低。SBH与金属功函数呈线性关系(Cr金属除外),斜率为0.11。 展开更多
关键词 光电子学 4H-SIC Schottky势垒高度 退火
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BaTiO_3-(Bi_(1/2)Na_(1/2))TiO_3无铅正温度系数电阻陶瓷势垒高度的计算 被引量:1
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作者 冷森林 石维 +2 位作者 贾飞虎 郑嘹赢 李国荣 《中国陶瓷》 CAS CSCD 北大核心 2015年第12期12-16,共5页
采用还原再氧化的烧结工艺制备了0.2 mol%Y_2O_3施主掺杂的95 mol%BaTiO_3-5 mol%(Bi_(1/2)Na_(1/2))TiO_3无铅正温度系数电阻(Positive temperature coefficient of resistivity,PTCR)陶瓷。研究发现,还原气氛下烧结的样品没有明显的P... 采用还原再氧化的烧结工艺制备了0.2 mol%Y_2O_3施主掺杂的95 mol%BaTiO_3-5 mol%(Bi_(1/2)Na_(1/2))TiO_3无铅正温度系数电阻(Positive temperature coefficient of resistivity,PTCR)陶瓷。研究发现,还原气氛下烧结的样品没有明显的PTCR效应,需要进一步在空气中氧化处理。其中1200℃氧化2 h的样品PTCR性能最好,电阻突跳大于3个数量级。利用交流阻抗分析方法计算了材料的晶粒、晶界电阻,发现氧化后的陶瓷晶界电阻迅速增加,而晶粒电阻基本保持不变。最后根据Heywang-Jonker理论,计算了陶瓷晶界势垒高度、势垒宽度和受主浓度。 展开更多
关键词 BaTiO3-(Bi_1/2Na_1/2)TiO3 无铅 正温度系数电阻 势垒高度
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杂质分凝技术对肖特基势垒高度的调制
6
作者 毛淑娟 罗军 闫江 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2013年第1期55-59,共5页
为降低金属或金属硅化物源漏与沟道的肖特基势垒高度以改善肖特基势垒源漏场效应晶体管(SBSD-MOSFET)的开关电流比(Ion/Ioff),采用硅化诱发杂质分凝技术(SIDS)调节NiSi/n-Si肖特基二极管(NiSi/n-Si SJD)的肖特基势垒高度,系统地研究了S... 为降低金属或金属硅化物源漏与沟道的肖特基势垒高度以改善肖特基势垒源漏场效应晶体管(SBSD-MOSFET)的开关电流比(Ion/Ioff),采用硅化诱发杂质分凝技术(SIDS)调节NiSi/n-Si肖特基二极管(NiSi/n-Si SJD)的肖特基势垒高度,系统地研究了SIDS工艺条件如杂质注入剂量、注入能量和硅化物形成工艺对肖特基势垒高度调节的影响。实验结果表明,适当增加BF2杂质的注入剂量或能量均能显著提高有效电子势垒高度(φBn,eff),也即降低了有效空穴势垒高度(φBp,eff),从而减小反向偏置漏电流。同时,与传统的一步退火工艺相比,采用两步退火工艺形成NiSi也有利于提高有效电子势垒高度,减小反向漏电流。最后,提出了一种优化的调制肖特基势垒高度的SIDS工艺条件。 展开更多
关键词 肖特基势垒高度 NISI n—Si肖特基二极管 硅化诱发杂质分凝技术 镍硅化物 金属-半导体接触
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利用温度无关点计算AlGaN/GaN肖特基势垒高度
7
作者 马春雷 冯志红 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2013年第12期924-928,共5页
基于AlGaN/GaN异质结场效应晶体管(HFET)中肖特基势垒高度的有效提取对提升器件的性能和稳定性有着重要指导意义,制备了AlGaN/GaN异质结肖特基二极管,并利用光电流谱测试得到了该样品的势垒高度。此外,测试得到该样品的正向变温电流电压... 基于AlGaN/GaN异质结场效应晶体管(HFET)中肖特基势垒高度的有效提取对提升器件的性能和稳定性有着重要指导意义,制备了AlGaN/GaN异质结肖特基二极管,并利用光电流谱测试得到了该样品的势垒高度。此外,测试得到该样品的正向变温电流电压(I-V)曲线,发现在正向变温I-V曲线中存在一个温度无关点,低于该点时同一偏压下电流随温度的升高而增大,高于该点时同一偏压下电流随温度的升高而减小。利用温度无关点对应的电压,结合薛定谔泊松方程自洽循环迭代,计算得到AlGaN/GaN肖特基二极管的势垒高度,发现该结果与光电流谱测试的结果非常一致,从而得到一种计算AlGaN/GaN异质结肖特基二极管势垒高度的新方法。 展开更多
关键词 ALGAN GaN 肖特基势垒高度 温度无关 电流电压 薛定谔泊松方程自洽计算
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氧等离子体处理提高AlGaN/GaN肖特基势垒高度
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作者 赵勇兵 《半导体技术》 CAS 北大核心 2020年第10期760-763,815,共5页
通过氧等离子体处理工艺,在AlGaN/GaN异质结构上制备了肖特基二极管。基于正向电流-电压特性和双二极管模型,对AlGaN/GaN异质结构的肖特基势垒高度和理想因子进行了计算和分析。采用氧等离子体处理的肖特基二极管,其理想因子由4.7下降到... 通过氧等离子体处理工艺,在AlGaN/GaN异质结构上制备了肖特基二极管。基于正向电流-电压特性和双二极管模型,对AlGaN/GaN异质结构的肖特基势垒高度和理想因子进行了计算和分析。采用氧等离子体处理的肖特基二极管,其理想因子由4.7下降到1.45,势垒高度由0.8 eV提高到1.057 eV,反向漏电流降低了约两个数量级。经氧等离子体处理制备的AlGaN/GaN肖特基二极管具有较高的势垒高度,抑制了垂直隧穿,同时氧等离子体处理对肖特基接触金属下方和附近的表面陷阱还起到钝化作用,从而降低了陷阱辅助隧穿。氧等离子体处理工艺为制备理想的肖特基二极管提供了一种有效的方法。 展开更多
关键词 ALGAN/GAN 肖特基二极管 势垒高度 氧等离子体处理 理想因子
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金属 /有机界面势垒对单层有机电致发光器件发光效率的影响(英文) 被引量:6
9
作者 赵楚军 李宏建 +4 位作者 黄伯云 易丹青 姚凌江 许雪梅 彭景翠 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第4期401-406,共6页
基于高场下电荷的注入过程及激子的解离和复合过程 ,建立了单层有机发光器件电致发光 (EL)效率的理论模型。计算表明 :(1)当金属 /有机界面势垒高度大于 0 .3eV时 ,器件的EL效率很低 ,降低金属 /有机界面势垒可以显著提高器件的EL效率 ;... 基于高场下电荷的注入过程及激子的解离和复合过程 ,建立了单层有机发光器件电致发光 (EL)效率的理论模型。计算表明 :(1)当金属 /有机界面势垒高度大于 0 .3eV时 ,器件的EL效率很低 ,降低金属 /有机界面势垒可以显著提高器件的EL效率 ;(2 )在较低偏压下 ,注入过程对器件的电致发光效率起主要作用 ,但在高偏压下复合过程起支配作用。这一模型可以阐明注入和复合过程对有机发光器件EL效率的影响 ,对选择发光材料、优化器件结构和提高器件EL效率具有指导意义。 展开更多
关键词 有机电致发光器件 金属/有机界面 势垒高度 电致发光效率
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AlGaN肖特基势垒二极管的研制 被引量:1
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作者 邵庆辉 叶志镇 +3 位作者 黄靖云 赵炳辉 江红星 林景瑜 《浙江大学学报(工学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第10期1244-1247,共4页
为研制适合高温高压下工作的整流器件,利用金属有机化学气相淀积(MOCVD)技术生长的AlGaN/GaN/蓝宝石材料,采用电子束蒸发的方法,用Au和Ti/Al分别作为肖特基接触和欧姆接触的电极,制备了AlGaN肖特基二极管,并对其工艺过程和器件特性进行... 为研制适合高温高压下工作的整流器件,利用金属有机化学气相淀积(MOCVD)技术生长的AlGaN/GaN/蓝宝石材料,采用电子束蒸发的方法,用Au和Ti/Al分别作为肖特基接触和欧姆接触的电极,制备了AlGaN肖特基二极管,并对其工艺过程和器件特性进行了研究.IV测试表明该AlGaN肖特基二极管具有明显的整流特性和较高的反向击穿电压(95V),理想因子为1.93.经300℃1min退火,该器件正、反向IV特性都得到明显改善.采用变温IV法对Au/AlGaN接触的肖特基势垒高度进行了标定,其势垒高度高达1.08eV,更适合在高压、大电流条件下工作. 展开更多
关键词 ALGAN 肖特基势垒二极管 势垒高度
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III族氮化物基的肖特基势垒二极管的研制
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作者 俞慧强 张荣 +4 位作者 周玉刚 沈波 顾书林 施毅 郑有炓 《高技术通讯》 EI CAS CSCD 2003年第7期50-53,共4页
研制了三类不同金属和III族氮化物接触的肖特基势垒二极管。测量了器件的电流 电压特性 。
关键词 III族氮化物 肖特基势垒二极管 氮化钾 半导体材料 氮化铝 理想因子 势垒高度 能带
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由福勒公式描述异质结的电流-电压关系获得准确的热电流以得到本征肖特基势垒
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作者 张建新 刘俊星 刘昶时 《太阳能学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第4期818-822,共5页
为了利用热电流准确得到异质结的本征肖特基势垒高度,从能量等价吸收(转换)角度出发,将Fowler给出的描述金属光电流产额与入射光频率的关系进行变形,从而得到可能是真正刻画处于一定温度的异质结中正向电流同正向电压关系的函数。由此... 为了利用热电流准确得到异质结的本征肖特基势垒高度,从能量等价吸收(转换)角度出发,将Fowler给出的描述金属光电流产额与入射光频率的关系进行变形,从而得到可能是真正刻画处于一定温度的异质结中正向电流同正向电压关系的函数。由此函数能自然地得到不为零的热电流。这样,根据理查德-杜什曼公式完全能够得到不敏感于温度的本征肖特基势垒高度。两个应用实例结果表明,该方法的计算结果高度可信。 展开更多
关键词 正向电流-电压 Fowler公式 热电流 肖特基势垒高度
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Schottky势垒中的电中性能级、平均键能和费米能级
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作者 李书平 王仁智 《厦门大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2003年第5期586-590,共5页
基于第一原理赝势能带计算,采用电中性能级和平均键能方法计算了7种不同半导体的Schottky接触势垒高度,结果表明2种方法都可用于计算金属 本征半导体的接触势垒高度.文中用于确定接触势垒高度的"本征半导体基态费米能级ESF,i"... 基于第一原理赝势能带计算,采用电中性能级和平均键能方法计算了7种不同半导体的Schottky接触势垒高度,结果表明2种方法都可用于计算金属 本征半导体的接触势垒高度.文中用于确定接触势垒高度的"本征半导体基态费米能级ESF,i"不同于半导体物理中所指的"本征费米能级Ei".n型半导体接触势垒、p型半导体接触势垒和本征半导体势垒,三者在接触界面附近的费米能级都是"钉扎"于本征半导体基态费米能级ESF,i,是此三者的接触势垒高度大致相同的原因. 展开更多
关键词 Schottky势垒 电中性能级 平均键能 费米能级 半导体 接触势垒高度 第一原理赝势能带计算
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无凹槽AlGaN/GaN肖特基势垒二极管正向电流输运机制 被引量:4
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作者 吴昊 康玄武 +6 位作者 杨兵 张静 赵志波 孙跃 郑英奎 魏珂 闫江 《半导体技术》 CAS 北大核心 2019年第6期426-432,共7页
研究了无凹槽AlGaN/GaN肖特基势垒二极管(SBD)的正向电流输运机制。分别采用Ni/Au和TiN作为阳极金属材料制备了无凹槽AlGaN/GaN SBD,对比了两种SBD的直流特性。并通过测量器件的变温I-V特性,研究了器件的正向电流输运机制。结果表明,TiN... 研究了无凹槽AlGaN/GaN肖特基势垒二极管(SBD)的正向电流输运机制。分别采用Ni/Au和TiN作为阳极金属材料制备了无凹槽AlGaN/GaN SBD,对比了两种SBD的直流特性。并通过测量器件的变温I-V特性,研究了器件的正向电流输运机制。结果表明,TiN-SBD(0.95 V@1 mA·mm^(-1))与Ni/Au-SBD(1.15 V@1 mA·mm^(-1))相比实现了更低的开启电压,从而改善了正向导通特性。研究发现两种SBD的势垒高度和理想因子都强烈依赖于环境温度,通过引入势垒高度的高斯分布模型解释了这种温度依赖性,验证了正向电流输运机制为与势垒高度不均匀分布相关的热电子发射机制。 展开更多
关键词 ALGAN/GAN 肖特基势垒二极管(SBD) 正向电流输运机制 TIN 势垒高度 无凹槽
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6H-SiC基MPS二极管正向双势垒特性研究 被引量:2
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作者 郑丽君 刘春娟 +2 位作者 汪再兴 孙霞霞 刘晓忠 《量子电子学报》 CAS CSCD 北大核心 2021年第1期99-107,共9页
势垒高度Φ和理想因子n是混合肖特基/PIN(MPS)二极管正向输运下的重要参数,而软度因子是MPS反向恢复能力的衡量指标之一。对6H-SiC基MPS二极管进行结构模拟仿真,验证了双势垒的存在,并研究了温度对正反向特性的影响。结果表明:正向偏压... 势垒高度Φ和理想因子n是混合肖特基/PIN(MPS)二极管正向输运下的重要参数,而软度因子是MPS反向恢复能力的衡量指标之一。对6H-SiC基MPS二极管进行结构模拟仿真,验证了双势垒的存在,并研究了温度对正反向特性的影响。结果表明:正向偏压下,温度升高,势垒高度1下降,势垒高度2增大,n1和n2均随温度升高而下降。势垒1区域存在多重复合输运机制,势垒2区域主要以热电子发射输运为主。反向偏压下,反向恢复峰值电压、峰值电流均随温度的升高而增大,但软度因子逐渐趋近于1。 展开更多
关键词 光电子学 6H-SiC MPS 势垒高度 理想因子 软度因子 缺陷
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高场势垒调制效应及其对陷阱测试分析的影响
16
作者 刘晓卫 许铭真 +1 位作者 谭长华 王阳元 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1994年第5期47-53,共7页
高场应力条件下,VLSI/ULSIMOS结构场发射极附近的镜像力效应和半导体/氧化层界面附近半导体一侧的表面量子化效应都将影响MOS结构的高场隧穿势垒高度及形状,本文研究了这种高场势垒调制效应及其对MOS结构高场隧穿... 高场应力条件下,VLSI/ULSIMOS结构场发射极附近的镜像力效应和半导体/氧化层界面附近半导体一侧的表面量子化效应都将影响MOS结构的高场隧穿势垒高度及形状,本文研究了这种高场势垒调制效应及其对MOS结构高场隧穿特性和陷阱测试分析的影响,并给出了初步的修正分析方法. 展开更多
关键词 势垒高度 MOS器件 陷阱 测试
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电极金属和电解质溶液界面势垒研究
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作者 张遴绍 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS 1982年第1期113-118,共6页
本文根据肖特基效应和弗兰克-康东原理得到了近似理想极化电极体系赫姆荷尔茨双电层内势垒高度和宽度与电极电荷密度间的关系式。并用Hg—HCl电极电荷密度的文献值作了具体计算。计算表明,电极电势对电子转移势垒形状的影响是很大的。
关键词 电荷密度 电解质溶液 电极电势 电子转移 势垒高度 文献值 肖特基效应 极化电极
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SiO_(2)掺杂量对SnO_(2)压敏电阻电气性能的影响
18
作者 石钤文 赵洪峰 +1 位作者 谢清云 蒙晓记 《机械工程材料》 CAS CSCD 北大核心 2024年第4期57-62,共6页
采用传统方法制备了掺杂不同物质的量分数(0.01%,0.05%,0.10%,0.15%,0.20%)SiO_(2)的SnO_(2)压敏电阻,研究了SiO_(2)掺杂量对SnO_(2)压敏电阻电气性能的影响。结果表明:随着SiO_(2)掺杂量的增加,SnO_(2)压敏电阻的电压梯度、非线性系数... 采用传统方法制备了掺杂不同物质的量分数(0.01%,0.05%,0.10%,0.15%,0.20%)SiO_(2)的SnO_(2)压敏电阻,研究了SiO_(2)掺杂量对SnO_(2)压敏电阻电气性能的影响。结果表明:随着SiO_(2)掺杂量的增加,SnO_(2)压敏电阻的电压梯度、非线性系数、势垒高度、施主密度和界面态密度均先增大后减小,泄漏电流密度先减小后增大,晶界电阻增大;当SiO_(2)物质的量分数为0.10%时,SnO_(2)压敏电阻的综合电气性能最佳,其电压梯度、非线性系数、施主密度、界面态密度、势垒高度最大,泄漏电流密度最小,分别为582 V·mm^(-1),33,1.7×10^(23)m-3,6.7×10^(16)m^(-2),2.03 eV,7.06μA·cm^(-2)。 展开更多
关键词 SnO_(2)压敏电阻 电气性能 电压梯度 势垒高度
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金属/半导体肖特基接触模型研究进展 被引量:1
19
作者 王光伟 郑宏兴 +1 位作者 徐文慧 杨旭 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第2期149-153,共5页
在分析理想金属/半导体肖特基接触的基础上,概述了一般情形下肖特基接触的形成机理和影响因素。金属/半导体间的界面层使得肖特基势垒高度(SBH)对功函数的依赖减弱,也导致SBH与外加偏压有关。研究证实,多种因素,如界面晶向、原子结构、... 在分析理想金属/半导体肖特基接触的基础上,概述了一般情形下肖特基接触的形成机理和影响因素。金属/半导体间的界面层使得肖特基势垒高度(SBH)对功函数的依赖减弱,也导致SBH与外加偏压有关。研究证实,多种因素,如界面晶向、原子结构、化学键和结构不完整性等,都会造成SBH的空间不均匀分布。该特性在肖特基接触中普遍存在,并对基于肖特基结的器件工作有显著影响。 展开更多
关键词 肖特基接触 肖特基势垒高度 理想因子 非单晶界面 势垒高度不均匀性
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多重雷击下氧化锌避雷器的冲击老化特性 被引量:20
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作者 周利军 魏仁伟 +3 位作者 刘聪 陈伟 黄林 马御棠 《高电压技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2022年第9期3507-3516,共10页
多重雷击会导致氧化锌避雷器老化速率加快,使用寿命及电气性能降低,甚至直接造成避雷器破裂损坏。为研究遭受多重雷击后氧化锌避雷器的介电性能及内部微观参量的变化规律,对氧化锌避雷器开展了多重雷击实验与冲击老化特性研究。首先,对... 多重雷击会导致氧化锌避雷器老化速率加快,使用寿命及电气性能降低,甚至直接造成避雷器破裂损坏。为研究遭受多重雷击后氧化锌避雷器的介电性能及内部微观参量的变化规律,对氧化锌避雷器开展了多重雷击实验与冲击老化特性研究。首先,对氧化锌避雷器进行了双重冲击实验,测量了不同冲击次数下避雷器的直流伏安特性曲线及频域介电谱数据;然后,利用避雷器的电流–温度特性研究了氧化锌晶界的势垒高度与耗尽层宽度随冲击次数变化的规律;最后,通过灰狼优化算法对基于扩展德拜模型(extended Debye model,EDM)的避雷器等效电路中的参数进行了辨识与分析。结果表明:无论是低温区还是高温区,氧化锌晶界的势垒高度均随冲击次数增加而降低,但高温区势垒高度下降速率更快;势垒宽度与冲击次数呈负相关关系,且低场强区的势垒宽度大于高场区的;EDM中的绝缘电阻R_(0)、几何支路时间常数τ和第1条极化支路时间常数τ随冲击次数增加而减小,第3条极化支路电容C随冲击次数增加而增加。研究成果可为氧化锌避雷器冲击老化的判断提供依据。 展开更多
关键词 多重雷击 氧化锌避雷器 频域介电谱 扩展德拜模型 势垒高度 耗尽层宽度
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