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氨基乙酸-H_2O_2体系抛光液中铜的化学机械抛光研究
被引量：
5
1
作者
张伟
路新春
+2 位作者
刘宇宏
潘国顺
雒建斌
《摩擦学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008年第4期366-371,共6页
在CP-4型CMP试验机上采用5μm厚的铜镀层片研究了氨基乙酸-H2O2体系抛光液中铜的化学机械抛光行为,分别采用Sartorius 1712MP8型电子天平和WYKO MHT-Ⅲ型光干涉表面形貌仪检测抛光去除率和抛光后表面粗糙度,用CHI660A型电化学工作站的...
在CP-4型CMP试验机上采用5μm厚的铜镀层片研究了氨基乙酸-H2O2体系抛光液中铜的化学机械抛光行为,分别采用Sartorius 1712MP8型电子天平和WYKO MHT-Ⅲ型光干涉表面形貌仪检测抛光去除率和抛光后表面粗糙度,用CHI660A型电化学工作站的动电位极化扫描技术和PHI-5300ESCA型X射线光电子能谱仪分析抛光液中氧化剂和络合剂等化学组分对铜的作用机制.结果表明,由于氧化剂H2O2对铜的氧化作用使得氨基乙酸对铜的络合速率从1.4 nm/min提高到47 nm/min,进而提高了铜的化学机械抛光去除率.当抛光压力≤10.35 kPa时,抛光后铜表面出现腐蚀坑,腐蚀坑面积比率随抛光过程相对运动速度的增大而减小;当抛光压力≥17.25 kPa时,铜表面腐蚀坑消失,在相对运动速度≥1 m/s条件下,表面粗糙度为3-5 nm;当抛光压力〉6.9 kPa,在相对运动速度≤1 m/s条件下,随着相对运动速度增大,机械作用增强,抛光去除率增大;当相对运动速度〉1 m/s时,抛光界面区抛光液润滑效应增强,抛光去除率有所降低,化学机械抛光过程中这一临界相对运动速度为1 m/s.
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关键词
化学机械抛光
动电位极化扫描
氨基乙酸
腐蚀坑
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职称材料
基于USB接口的有机涂层耐蚀性能快速测试仪
2
作者
卓向东
林昌健
《电化学》
CAS
CSCD
北大核心
2008年第2期223-226,共4页
根据多重动电位扫描极化的原理,研制了一种基于USB接口的有机涂层/金属体系耐蚀性能快速测试仪.该仪器便携、简易、实用,有强数据采集和处理功能,不仅可用于实验室的快速实验,更适用于在工业现场对有机涂层/金属体系耐蚀性能快速测试和...
根据多重动电位扫描极化的原理,研制了一种基于USB接口的有机涂层/金属体系耐蚀性能快速测试仪.该仪器便携、简易、实用,有强数据采集和处理功能,不仅可用于实验室的快速实验,更适用于在工业现场对有机涂层/金属体系耐蚀性能快速测试和评价.
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关键词
多重
动
电位
扫描
极化
USB
有机涂层
电化学测试
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职称材料
题名
氨基乙酸-H_2O_2体系抛光液中铜的化学机械抛光研究
被引量：
5
1
作者
张伟
路新春
刘宇宏
潘国顺
雒建斌
机构
清华大学摩擦学国家重点实验室
出处
《摩擦学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008年第4期366-371,共6页
基金
国家重点基础研究发展计划资助项目(2003CB716201)
国家自然科学基金委与广东省政府自然科学联合基金资助项目(2003CB716201)
国家自然学基金资助项目助项目(50775122)
文摘
在CP-4型CMP试验机上采用5μm厚的铜镀层片研究了氨基乙酸-H2O2体系抛光液中铜的化学机械抛光行为,分别采用Sartorius 1712MP8型电子天平和WYKO MHT-Ⅲ型光干涉表面形貌仪检测抛光去除率和抛光后表面粗糙度,用CHI660A型电化学工作站的动电位极化扫描技术和PHI-5300ESCA型X射线光电子能谱仪分析抛光液中氧化剂和络合剂等化学组分对铜的作用机制.结果表明,由于氧化剂H2O2对铜的氧化作用使得氨基乙酸对铜的络合速率从1.4 nm/min提高到47 nm/min,进而提高了铜的化学机械抛光去除率.当抛光压力≤10.35 kPa时,抛光后铜表面出现腐蚀坑,腐蚀坑面积比率随抛光过程相对运动速度的增大而减小;当抛光压力≥17.25 kPa时,铜表面腐蚀坑消失,在相对运动速度≥1 m/s条件下,表面粗糙度为3-5 nm;当抛光压力〉6.9 kPa,在相对运动速度≤1 m/s条件下,随着相对运动速度增大,机械作用增强,抛光去除率增大;当相对运动速度〉1 m/s时,抛光界面区抛光液润滑效应增强,抛光去除率有所降低,化学机械抛光过程中这一临界相对运动速度为1 m/s.
关键词
化学机械抛光
动电位极化扫描
氨基乙酸
腐蚀坑
Keywords
chemical mechanical polishing, polarization, glycine, pits
分类号
TN305.2 [电子电信—物理电子学]
TH117.3 [机械工程—机械设计及理论]
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职称材料
题名
基于USB接口的有机涂层耐蚀性能快速测试仪
2
作者
卓向东
林昌健
机构
厦门大学化学系固体表面物理化学国家重点实验室
出处
《电化学》
CAS
CSCD
北大核心
2008年第2期223-226,共4页
基金
国家自然科学基金项目(50731004)
国家科技支撑计划项目(2007BAB27B04-N43CTT)资助
文摘
根据多重动电位扫描极化的原理,研制了一种基于USB接口的有机涂层/金属体系耐蚀性能快速测试仪.该仪器便携、简易、实用,有强数据采集和处理功能,不仅可用于实验室的快速实验,更适用于在工业现场对有机涂层/金属体系耐蚀性能快速测试和评价.
关键词
多重
动
电位
扫描
极化
USB
有机涂层
电化学测试
Keywords
multiple dynamic potential scaning polarization
USB
organic electrochemical test coating
分类号
TH89 [机械工程—精密仪器及机械]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
氨基乙酸-H_2O_2体系抛光液中铜的化学机械抛光研究
张伟
路新春
刘宇宏
潘国顺
雒建斌
《摩擦学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008
5
在线阅读
下载PDF
职称材料
2
基于USB接口的有机涂层耐蚀性能快速测试仪
卓向东
林昌健
《电化学》
CAS
CSCD
北大核心
2008
0
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职称材料
已选择
0
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