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刻蚀衍射光栅色散特性分析
被引量:
1
1
作者
宋军
何赛灵
何建军
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2003年第3期318-322,共5页
对作为波分复用关键器件之一的刻蚀衍射光栅 (EDG)的色散特性提出了一种完整的计算方案 ,分析了器件强度响应和相位响应之间的内在关系 .同时通过模拟计算提出并验证了平坦化的同时加剧了色散 ,以及适当改善频谱响应带通纹波大小可以在...
对作为波分复用关键器件之一的刻蚀衍射光栅 (EDG)的色散特性提出了一种完整的计算方案 ,分析了器件强度响应和相位响应之间的内在关系 .同时通过模拟计算提出并验证了平坦化的同时加剧了色散 ,以及适当改善频谱响应带通纹波大小可以在一定程度上降低器件的色散 .最终指出了使用渐变的抛物线结构多模干涉更有利于得到综合性能最优的平坦频谱 .
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关键词
色散
刻蚀衍射光栅
(EDG)
波分复用
平坦化
相位响应
带通纹波
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职称材料
硅基片上刻蚀衍射光栅及其平坦化设计
被引量:
2
2
作者
陈鑫
武爱民
+5 位作者
仇超
黄海阳
赵瑛璇
盛振
李伟
甘甫烷
《激光技术》
CAS
CSCD
北大核心
2017年第3期361-366,共6页
刻蚀衍射光栅(EDG)作为实现波分复用功能的关键器件,对于片上光互连的实现至关重要。为了实现1310nm波段通道间隔为20nm的硅基EDG,采用了基尔霍夫标量衍射理论仿真方法进行理论设计和仿真验证,通过在闪耀光栅反射面引入布喇格反射光栅...
刻蚀衍射光栅(EDG)作为实现波分复用功能的关键器件,对于片上光互连的实现至关重要。为了实现1310nm波段通道间隔为20nm的硅基EDG,采用了基尔霍夫标量衍射理论仿真方法进行理论设计和仿真验证,通过在闪耀光栅反射面引入布喇格反射光栅来提高反射效率、降低器件插入损耗,并在入射波导处引入多模干涉耦合器以实现通道频谱平坦化设计。结果表明,闪耀光栅反射面的反射效率由35%提高到了85%,1d B带宽达到12nm。这对于提高系统稳定性、增大传输距离和容量、降低系统成本具有显著作用,能够满足光互连系统的实际应用需求。
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关键词
集成光学
刻蚀衍射光栅
硅基光互连
波分复用技术
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职称材料
基于光子晶体反射镜的刻蚀衍射光栅设计与制备
被引量:
1
3
作者
袁配
王玥
+3 位作者
吴远大
安俊明
张家顺
祝连庆
《红外与激光工程》
EI
CSCD
北大核心
2019年第9期226-231,共6页
刻蚀衍射光栅作为波分复用/解复用器件,有望在光通信系统中得到广泛应用。在基于顶层硅厚度为220 nm的绝缘体上硅材料上设计并制作了一种新型刻蚀衍射光栅,该刻蚀衍射光栅引入六角晶格空气孔型光子晶体作为其反射镜。模拟结果显示,相较...
刻蚀衍射光栅作为波分复用/解复用器件,有望在光通信系统中得到广泛应用。在基于顶层硅厚度为220 nm的绝缘体上硅材料上设计并制作了一种新型刻蚀衍射光栅,该刻蚀衍射光栅引入六角晶格空气孔型光子晶体作为其反射镜。模拟结果显示,相较于传统的阶梯光栅反射镜的刻蚀衍射光栅,光子晶体反射镜的刻蚀衍射光栅在理论上可有效降低器件的制作工艺难度以及插入损耗,同时可以实现器件偏振的保持。随后仅利用一步电子束光刻工艺及一步电感耦合等离子体刻蚀工艺制作了该光子晶体反射镜的刻蚀衍射光栅。测试结果表明:该光子晶体反射镜的刻蚀衍射光栅片上损耗为9.51~11.86 dB,串扰为5.87~8.72 dB,后续可通过优化工艺条件和优化输出波导布局,进一步提高器件的性能。
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关键词
刻蚀衍射光栅
光子晶体
硅基光子学
波分复用/解复用
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职称材料
刻蚀波导粗糙面散射的矩量法数值分析
被引量:
3
4
作者
宋军
何赛灵
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2003年第11期1312-1315,共4页
用矩量法对刻蚀波导粗糙面的散射特性做出了精确的数值分析 基于MonteCarlo方法建立高斯粗糙面数学模型 ,证明矩量法在分析刻蚀波导散射问题时 ,是可以应用于不同起伏高度、不同入射角的一种精确而高效的数值方法 对不同起伏高度的两...
用矩量法对刻蚀波导粗糙面的散射特性做出了精确的数值分析 基于MonteCarlo方法建立高斯粗糙面数学模型 ,证明矩量法在分析刻蚀波导散射问题时 ,是可以应用于不同起伏高度、不同入射角的一种精确而高效的数值方法 对不同起伏高度的两种偏振态 ,分别在小角度入射和大角度入射两种情况的随机散射特性应用矩量法做出了分析 并以基于二氧化硅波导的EDG器件为例 。
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关键词
粗糙面
散射
矩量法
Moilte
CARLO方法
平面波导
刻蚀衍射光栅
(EDG)
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职称材料
题名
刻蚀衍射光栅色散特性分析
被引量:
1
1
作者
宋军
何赛灵
何建军
机构
浙江大学现代光学仪器国家重点实验室
出处
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2003年第3期318-322,共5页
基金
浙江省科技计划重大项目 (项目编号 0 0 110 10 2 7)资助
文摘
对作为波分复用关键器件之一的刻蚀衍射光栅 (EDG)的色散特性提出了一种完整的计算方案 ,分析了器件强度响应和相位响应之间的内在关系 .同时通过模拟计算提出并验证了平坦化的同时加剧了色散 ,以及适当改善频谱响应带通纹波大小可以在一定程度上降低器件的色散 .最终指出了使用渐变的抛物线结构多模干涉更有利于得到综合性能最优的平坦频谱 .
关键词
色散
刻蚀衍射光栅
(EDG)
波分复用
平坦化
相位响应
带通纹波
Keywords
Chromatic dispersion
Etched diffraction grating (EDG)
Wavelength division multiplexing
Flattened spectral response
Phase
Ripple
分类号
TN256 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
硅基片上刻蚀衍射光栅及其平坦化设计
被引量:
2
2
作者
陈鑫
武爱民
仇超
黄海阳
赵瑛璇
盛振
李伟
甘甫烷
机构
中国科学院上海微系统与信息技术研究所信息功能材料国家重点实验室
中国科学院大学
出处
《激光技术》
CAS
CSCD
北大核心
2017年第3期361-366,共6页
基金
国家自然科学基金资助项目(61275112
61475180
+2 种基金
11204340)
上海市自然科学基金重点资助项目(14JC1407600)
上海市自然科学基金资助项目(16ZR1442600)
文摘
刻蚀衍射光栅(EDG)作为实现波分复用功能的关键器件,对于片上光互连的实现至关重要。为了实现1310nm波段通道间隔为20nm的硅基EDG,采用了基尔霍夫标量衍射理论仿真方法进行理论设计和仿真验证,通过在闪耀光栅反射面引入布喇格反射光栅来提高反射效率、降低器件插入损耗,并在入射波导处引入多模干涉耦合器以实现通道频谱平坦化设计。结果表明,闪耀光栅反射面的反射效率由35%提高到了85%,1d B带宽达到12nm。这对于提高系统稳定性、增大传输距离和容量、降低系统成本具有显著作用,能够满足光互连系统的实际应用需求。
关键词
集成光学
刻蚀衍射光栅
硅基光互连
波分复用技术
Keywords
integrated optics
etching diffraction grating
silicon-based optical interconnection
wavelength division multiplex
分类号
TN24 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
基于光子晶体反射镜的刻蚀衍射光栅设计与制备
被引量:
1
3
作者
袁配
王玥
吴远大
安俊明
张家顺
祝连庆
机构
北京信息科技大学光纤传感与系统北京实验室
中国科学院半导体研究所集成光电子学国家重点实验室
中国科学院大学材料与光电研究中心
出处
《红外与激光工程》
EI
CSCD
北大核心
2019年第9期226-231,共6页
基金
高等学校学科创新引智计划(先进光电子器件与系统学科创新引智基地D17021)
文摘
刻蚀衍射光栅作为波分复用/解复用器件,有望在光通信系统中得到广泛应用。在基于顶层硅厚度为220 nm的绝缘体上硅材料上设计并制作了一种新型刻蚀衍射光栅,该刻蚀衍射光栅引入六角晶格空气孔型光子晶体作为其反射镜。模拟结果显示,相较于传统的阶梯光栅反射镜的刻蚀衍射光栅,光子晶体反射镜的刻蚀衍射光栅在理论上可有效降低器件的制作工艺难度以及插入损耗,同时可以实现器件偏振的保持。随后仅利用一步电子束光刻工艺及一步电感耦合等离子体刻蚀工艺制作了该光子晶体反射镜的刻蚀衍射光栅。测试结果表明:该光子晶体反射镜的刻蚀衍射光栅片上损耗为9.51~11.86 dB,串扰为5.87~8.72 dB,后续可通过优化工艺条件和优化输出波导布局,进一步提高器件的性能。
关键词
刻蚀衍射光栅
光子晶体
硅基光子学
波分复用/解复用
Keywords
etching diffraction grating
photonic crystal
silicon photonics
wavelength division multiplexing/de-multiplexing
分类号
TN253 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
刻蚀波导粗糙面散射的矩量法数值分析
被引量:
3
4
作者
宋军
何赛灵
机构
浙江大学现代光学仪器国家重点实验室
出处
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2003年第11期1312-1315,共4页
基金
浙江省科技计划重大项目 (项目编号 0 0 1 1 0 1 0 2 7)
文摘
用矩量法对刻蚀波导粗糙面的散射特性做出了精确的数值分析 基于MonteCarlo方法建立高斯粗糙面数学模型 ,证明矩量法在分析刻蚀波导散射问题时 ,是可以应用于不同起伏高度、不同入射角的一种精确而高效的数值方法 对不同起伏高度的两种偏振态 ,分别在小角度入射和大角度入射两种情况的随机散射特性应用矩量法做出了分析 并以基于二氧化硅波导的EDG器件为例 。
关键词
粗糙面
散射
矩量法
Moilte
CARLO方法
平面波导
刻蚀衍射光栅
(EDG)
Keywords
Rough surface
Scattering
Method of Moments
Monte Carlo method
Planar waveguide
Etching diffraction grating (EDG)
分类号
TN814.1 [电子电信—信息与通信工程]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
刻蚀衍射光栅色散特性分析
宋军
何赛灵
何建军
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2003
1
在线阅读
下载PDF
职称材料
2
硅基片上刻蚀衍射光栅及其平坦化设计
陈鑫
武爱民
仇超
黄海阳
赵瑛璇
盛振
李伟
甘甫烷
《激光技术》
CAS
CSCD
北大核心
2017
2
在线阅读
下载PDF
职称材料
3
基于光子晶体反射镜的刻蚀衍射光栅设计与制备
袁配
王玥
吴远大
安俊明
张家顺
祝连庆
《红外与激光工程》
EI
CSCD
北大核心
2019
1
在线阅读
下载PDF
职称材料
4
刻蚀波导粗糙面散射的矩量法数值分析
宋军
何赛灵
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2003
3
在线阅读
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职称材料
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