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掺铝氧化锌薄膜的结构与刻蚀性能
被引量：
2
1
作者
洪瑞江
徐淑华
《华南理工大学学报（自然科学版）》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010年第6期151-156,共6页
利用中频反应磁控溅射技术,以Zn/Al(质量比98∶2)合金靶为靶材,制备了综合性能优良的铝掺杂氧化锌(ZnO:Al,AZO)透明导电薄膜.探讨了沉积工艺对薄膜结构、电学及光学性能的影响,分析了AZO薄膜的刻蚀性能以及所制备的绒面结构特性.结果表...
利用中频反应磁控溅射技术,以Zn/Al(质量比98∶2)合金靶为靶材,制备了综合性能优良的铝掺杂氧化锌(ZnO:Al,AZO)透明导电薄膜.探讨了沉积工艺对薄膜结构、电学及光学性能的影响,分析了AZO薄膜的刻蚀性能以及所制备的绒面结构特性.结果表明:基体温度对薄膜生长有较大的影响;采用适当的沉积温度,薄膜具有较好的晶化率,晶粒呈明显的柱状生长,晶界间结合紧密,薄膜的电阻率为4.600×10-4Ω.cm;镀膜时基体的移动速度影响薄膜的晶体生长方式,但对其沉积效率影响不大;具有择优生长特性、形成柱状晶组织的薄膜经稀盐酸腐蚀后,其表面呈规则的粗糙形貌,此结构有利于充分捕集太阳光,从而提高薄膜太阳电池的效率.
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关键词
氧化锌
太阳电池
薄膜
结构
刻蚀性能
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职称材料
含石墨烯胞室结构的铜复合材料及其耐腐蚀性能
被引量：
3
2
作者
戴丹
林正得
+9 位作者
韩钰
祝志祥
陈保安
丁一
张强
王强
吴明亮
舒圣程
耿启
李傲
《表面技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2018年第10期224-230,共7页
目的开发一种石墨烯在铜基复合材料中的均匀分散结构,制备出兼具高导电和强抗刻蚀性能的石墨烯/铜复合材料。方法采用化学气相沉积原位生长法结合分散剂工艺,制备分散均匀石墨烯/铜基粉体复合材料。利用制备的石墨烯/铜粉体材料,采用真...
目的开发一种石墨烯在铜基复合材料中的均匀分散结构,制备出兼具高导电和强抗刻蚀性能的石墨烯/铜复合材料。方法采用化学气相沉积原位生长法结合分散剂工艺,制备分散均匀石墨烯/铜基粉体复合材料。利用制备的石墨烯/铜粉体材料,采用真空热压工艺,制备了石墨烯/铜块体材料,然后用拉曼光谱、X射线粉末衍射仪和金相显微镜,考察石墨烯/铜试样的质量和形貌,最后用数字便携式涡流电导仪测量其电导率。利用自主设计的石墨烯/铜在过硫酸铵中刻蚀的实验装置,测试石墨烯/铜的抗刻蚀性能。结果利用石墨烯/铜粉体制备的石墨烯/铜块体和铜具有相同的(111)、(200)和(220)晶面,多层石墨烯以立体胞室结构均匀分布在铜晶粒的晶界处。石墨烯/铜块体的导电率为96%IACS,明显优于文献报道的以其他方法制备的石墨烯/铜块体,并且在过硫酸铵溶液中浸泡90 min后,石墨烯/铜块的质量损失为126.6 mg,石墨烯/铜比纯铜的抗刻蚀能力提高了37.6%,具有比铜更强的抗刻蚀性能。结论以CVD原位生长法和真空热压法制备的石墨烯/铜复合材料,石墨烯以立体胞室结构均匀分散在铜界面处,并且兼具高的导电性和强的抗刻蚀性能。
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关键词
化学气相沉积
立体胞室结构
石墨烯/铜
导电性
抗
刻蚀性能
原位生长
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职称材料
题名
掺铝氧化锌薄膜的结构与刻蚀性能
被引量：
2
1
作者
洪瑞江
徐淑华
机构
中山大学太阳能系统研究所
华南理工大学理学院
出处
《华南理工大学学报（自然科学版）》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010年第6期151-156,共6页
文摘
利用中频反应磁控溅射技术,以Zn/Al(质量比98∶2)合金靶为靶材,制备了综合性能优良的铝掺杂氧化锌(ZnO:Al,AZO)透明导电薄膜.探讨了沉积工艺对薄膜结构、电学及光学性能的影响,分析了AZO薄膜的刻蚀性能以及所制备的绒面结构特性.结果表明:基体温度对薄膜生长有较大的影响;采用适当的沉积温度,薄膜具有较好的晶化率,晶粒呈明显的柱状生长,晶界间结合紧密,薄膜的电阻率为4.600×10-4Ω.cm;镀膜时基体的移动速度影响薄膜的晶体生长方式,但对其沉积效率影响不大;具有择优生长特性、形成柱状晶组织的薄膜经稀盐酸腐蚀后,其表面呈规则的粗糙形貌,此结构有利于充分捕集太阳光,从而提高薄膜太阳电池的效率.
关键词
氧化锌
太阳电池
薄膜
结构
刻蚀性能
Keywords
zinc oxide
solar cells
thin film
structure
etching behavior
分类号
TN304.22 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
含石墨烯胞室结构的铜复合材料及其耐腐蚀性能
被引量：
3
2
作者
戴丹
林正得
韩钰
祝志祥
陈保安
丁一
张强
王强
吴明亮
舒圣程
耿启
李傲
机构
中国科学院宁波材料技术与工程研究所中国科学院海洋新材料与应用技术重点实验室
浙江省海洋与防护重点实验室
全球能源互联网研究院有限公司先进输电技术国家重点实验室
国网山西省电力公司
出处
《表面技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2018年第10期224-230,共7页
基金
国家电网公司科技项目(SGRIDGKJ[2016]795)。
文摘
目的开发一种石墨烯在铜基复合材料中的均匀分散结构,制备出兼具高导电和强抗刻蚀性能的石墨烯/铜复合材料。方法采用化学气相沉积原位生长法结合分散剂工艺,制备分散均匀石墨烯/铜基粉体复合材料。利用制备的石墨烯/铜粉体材料,采用真空热压工艺,制备了石墨烯/铜块体材料,然后用拉曼光谱、X射线粉末衍射仪和金相显微镜,考察石墨烯/铜试样的质量和形貌,最后用数字便携式涡流电导仪测量其电导率。利用自主设计的石墨烯/铜在过硫酸铵中刻蚀的实验装置,测试石墨烯/铜的抗刻蚀性能。结果利用石墨烯/铜粉体制备的石墨烯/铜块体和铜具有相同的(111)、(200)和(220)晶面,多层石墨烯以立体胞室结构均匀分布在铜晶粒的晶界处。石墨烯/铜块体的导电率为96%IACS,明显优于文献报道的以其他方法制备的石墨烯/铜块体,并且在过硫酸铵溶液中浸泡90 min后,石墨烯/铜块的质量损失为126.6 mg,石墨烯/铜比纯铜的抗刻蚀能力提高了37.6%,具有比铜更强的抗刻蚀性能。结论以CVD原位生长法和真空热压法制备的石墨烯/铜复合材料,石墨烯以立体胞室结构均匀分散在铜界面处,并且兼具高的导电性和强的抗刻蚀性能。
关键词
化学气相沉积
立体胞室结构
石墨烯/铜
导电性
抗
刻蚀性能
原位生长
Keywords
chemical vapor deposition
cellular graphene framework
graphene/copper composites
electrical conductivity
corrosion resistance
in-situ synthesiss
分类号
TG172 [金属学及工艺—金属表面处理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
掺铝氧化锌薄膜的结构与刻蚀性能
洪瑞江
徐淑华
《华南理工大学学报（自然科学版）》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010
2
在线阅读
下载PDF
职称材料
2
含石墨烯胞室结构的铜复合材料及其耐腐蚀性能
戴丹
林正得
韩钰
祝志祥
陈保安
丁一
张强
王强
吴明亮
舒圣程
耿启
李傲
《表面技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2018
3
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