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ZnO荧光薄膜的制备及特性研究
被引量：
1
1
作者
边超
张兰
+1 位作者
姚宁
张兵临
《郑州大学学报（理学版）》
CAS
2003年第3期35-37,共3页
采用直流反应磁控溅射方法在镀有ITO的玻璃衬底上制备了ZnO荧光薄膜 .通过X射线衍射 (XRD)、能谱分析仪对退火前后薄膜的结晶状况和成分进行了分析 ,利用荧光探测单色仪对薄膜的光致发光 (PL)特性进行了研究 .退火前后的发光峰分别位于...
采用直流反应磁控溅射方法在镀有ITO的玻璃衬底上制备了ZnO荧光薄膜 .通过X射线衍射 (XRD)、能谱分析仪对退火前后薄膜的结晶状况和成分进行了分析 ,利用荧光探测单色仪对薄膜的光致发光 (PL)特性进行了研究 .退火前后的发光峰分别位于光谱绿区 4 99 2nm和 5 17 8nm处 .退火处理明显提高了绿光强度 。
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关键词
ZnO荧光薄膜
制备笔法
荧光材料
光致发光特性
直流反应磁控溅射方法
绿光强度
红移
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职称材料
题名
ZnO荧光薄膜的制备及特性研究
被引量：
1
1
作者
边超
张兰
姚宁
张兵临
机构
郑州大学物理工程学院
郑州大学工程力学系
出处
《郑州大学学报（理学版）》
CAS
2003年第3期35-37,共3页
文摘
采用直流反应磁控溅射方法在镀有ITO的玻璃衬底上制备了ZnO荧光薄膜 .通过X射线衍射 (XRD)、能谱分析仪对退火前后薄膜的结晶状况和成分进行了分析 ,利用荧光探测单色仪对薄膜的光致发光 (PL)特性进行了研究 .退火前后的发光峰分别位于光谱绿区 4 99 2nm和 5 17 8nm处 .退火处理明显提高了绿光强度 。
关键词
ZnO荧光薄膜
制备笔法
荧光材料
光致发光特性
直流反应磁控溅射方法
绿光强度
红移
Keywords
ZnO thin films
XRD
PL
分类号
O484.41 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
ZnO荧光薄膜的制备及特性研究
边超
张兰
姚宁
张兵临
《郑州大学学报（理学版）》
CAS
2003
1
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