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超微细加工及设备
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《中国光学》 EI CAS 1997年第4期92-93,共2页
TN305.7 97042750光电式动态光栅精密圆刻机=A precision photoelectricdynamic engraving machine for circularapparatus[刊,中]/张国范(中国航空精密机械所.北京(100076))//航空精密制造技术.—1996,32(6).—1-6介绍了一种刻划精度达... TN305.7 97042750光电式动态光栅精密圆刻机=A precision photoelectricdynamic engraving machine for circularapparatus[刊,中]/张国范(中国航空精密机械所.北京(100076))//航空精密制造技术.—1996,32(6).—1-6介绍了一种刻划精度达±0.06″,采用圆光栅作角分度基准器,空气静压双半球轴系作主轴。 展开更多
关键词 精密制造技术 动态光栅 精密机械 分步重复投影光刻机 光电式 刻划精度 航空 圆光栅 角分度 基准器
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超微细加工及设备
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《中国光学》 EI CAS 1997年第2期93-94,共2页
TN305.7 97021357用化学方法制备硅场发射阵列=Preparation ofsilicon tips array[刊,中]/元光,金长春,金亿鑫,宋航,荆海,朱希玲,张宝林,周天明,宁永强,蒋红,王惟彪(中科院长春物理研究所.吉林,长春(130021))//发光学报.—1996,17(4).—... TN305.7 97021357用化学方法制备硅场发射阵列=Preparation ofsilicon tips array[刊,中]/元光,金长春,金亿鑫,宋航,荆海,朱希玲,张宝林,周天明,宁永强,蒋红,王惟彪(中科院长春物理研究所.吉林,长春(130021))//发光学报.—1996,17(4).—341—345利用各向同性腐蚀液制了硅微尖阵列。并考察了各主要工艺参数对微尖形貌的影响。图6参6(赵桂云) 展开更多
关键词 场发射阵列 硅微尖阵列 工艺参数 中科院 刻划机 长春 各向同性 分步重复投影光刻机 化学方法 光学系统
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微细加工技术与设备
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《中国光学》 EI CAS 2001年第4期102-103,共2页
TN305.7 20010429500.35μm分步重复投影光刻物镜设计=Design of 0.35μm step-and-repeat projection lighography objective[刊,中]/林妩媚,王效才(中科院光电技术研究所.四川,成都(610209))//光学学报.-2000,20(8).-1148-1150分析了0... TN305.7 20010429500.35μm分步重复投影光刻物镜设计=Design of 0.35μm step-and-repeat projection lighography objective[刊,中]/林妩媚,王效才(中科院光电技术研究所.四川,成都(610209))//光学学报.-2000,20(8).-1148-1150分析了0.35μm分步重复投影光刻物镜的设计要点,包括数值孔径、结构型式的确定、材料的选择。介绍了光刻物镜设计的难点、创新点及设计结果。 展开更多
关键词 微细加工 光刻物镜设计 分步重复投影 设计要点 数值孔径 结构型式 技术与设备 技术研究所 硅微透镜阵列 中科院
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“微细加工光学技术国家重点实验室”简介
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《光电工程》 CAS CSCD 1997年第S1期2-5,共4页
“微细加工光学技术国家重点实验室”简介ABriefIntroductiontotheStateKeyLaboratoryofOpticalTechnologyforMicrofabrication中国科学院光电技术研... “微细加工光学技术国家重点实验室”简介ABriefIntroductiontotheStateKeyLaboratoryofOpticalTechnologyforMicrofabrication中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室... 展开更多
关键词 微细加工技术 国家重点实验室 中国科学院 光学技术 国家科技进步奖 实验室建设 微机械 分步重复投影 微光学 相移掩模
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微细加工技术与设备
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《中国光学》 EI CAS 1999年第6期62-64,共3页
TN305.7 99063930照明条件对光刻成像图形质量的影响=Influence ofilluminating coildition on quality of patterns im-aged with photolithographic systems[刊,中]/罗先刚,陈旭南,姚汉民,冯伯儒(中科院光电所.四川,成都(610209))∥9... TN305.7 99063930照明条件对光刻成像图形质量的影响=Influence ofilluminating coildition on quality of patterns im-aged with photolithographic systems[刊,中]/罗先刚,陈旭南,姚汉民,冯伯儒(中科院光电所.四川,成都(610209))∥98’中国青年光学学术讨论会.—陕西,西安,98. 展开更多
关键词 分步重复投影光刻机 光电工程 技术研究所 中科院 亚微米 学术讨论会 四川 微细加工光学技术 国家实验室 成都
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