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分步插层法制备高倍膨胀石墨及其微观结构
被引量:
11
1
作者
赵纪金
李晓霞
+1 位作者
郭宇翔
马德跃
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2014年第5期1267-1273,共7页
为获得密度小,漂浮性能好的膨胀石墨,采用分步插层法,依次以硝酸与磷酸的混酸、硝酸与乙酸的混酸为插层剂,高锰酸钾为氧化剂制备了高倍膨胀石墨。利用正交试验和平行试验确定了最佳工艺条件。在确定的工艺条件下制备出了膨胀体积为450m...
为获得密度小,漂浮性能好的膨胀石墨,采用分步插层法,依次以硝酸与磷酸的混酸、硝酸与乙酸的混酸为插层剂,高锰酸钾为氧化剂制备了高倍膨胀石墨。利用正交试验和平行试验确定了最佳工艺条件。在确定的工艺条件下制备出了膨胀体积为450ml/g的膨胀石墨。分析了用分步插层法制备高倍膨胀石墨的主要影响因素,提出其按影响大小依次为:第一步插层中高锰酸钾用量和第二步插层中乙酸、高锰酸钾和硝酸的用量。采用扫描电镜(SEM)分析了膨胀石墨微观结构随膨胀体积的变化。结果表明:随膨胀体积的增大,膨胀石墨片层被充分打开,几何截面增大,形成更大散射体,从而有利于红外辐射和毫米波的衰减。
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关键词
膨胀石墨
膨胀体积
微观结构
分步插层法
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职称材料
分步插层法制备硝酸盐-硫酸-GIC
被引量:
2
2
作者
韩志东
杜鹏
+1 位作者
董丽敏
张显友
《新型炭材料》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2009年第4期379-382,共4页
通过硫酸、硝酸或硝酸盐分步插层的方法,成功制备了硝酸/硝酸盐-硫酸-GIC三元石墨层间化合物。采用XRD、SEM和EDS对GIC的结构进行了研究。结果表明:与直接插层法相比,分步插层法有利于插层物质的插层反应,充分扩大石墨层间距,形成低阶...
通过硫酸、硝酸或硝酸盐分步插层的方法,成功制备了硝酸/硝酸盐-硫酸-GIC三元石墨层间化合物。采用XRD、SEM和EDS对GIC的结构进行了研究。结果表明:与直接插层法相比,分步插层法有利于插层物质的插层反应,充分扩大石墨层间距,形成低阶石墨层间化合物,使膨胀效果更优,膨胀体积高达450mL/g以上;膨胀后GIC的孔结构均匀,层壁较薄,片层结构清晰,膨胀充分。同时,分步插层法能够降低实验操作的危险性,污染小,反应易于控制。
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关键词
分步插层法
石墨
层
间化合物
硝酸
硫酸
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职称材料
题名
分步插层法制备高倍膨胀石墨及其微观结构
被引量:
11
1
作者
赵纪金
李晓霞
郭宇翔
马德跃
机构
电子工程学院脉冲功率激光技术国家重点实验室
电子工程学院红外与低温等离子体安徽省重点实验室
出处
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2014年第5期1267-1273,共7页
基金
脉冲功率激光技术国家重点实验室基金资助项目(No.SKL20132R03)
文摘
为获得密度小,漂浮性能好的膨胀石墨,采用分步插层法,依次以硝酸与磷酸的混酸、硝酸与乙酸的混酸为插层剂,高锰酸钾为氧化剂制备了高倍膨胀石墨。利用正交试验和平行试验确定了最佳工艺条件。在确定的工艺条件下制备出了膨胀体积为450ml/g的膨胀石墨。分析了用分步插层法制备高倍膨胀石墨的主要影响因素,提出其按影响大小依次为:第一步插层中高锰酸钾用量和第二步插层中乙酸、高锰酸钾和硝酸的用量。采用扫描电镜(SEM)分析了膨胀石墨微观结构随膨胀体积的变化。结果表明:随膨胀体积的增大,膨胀石墨片层被充分打开,几何截面增大,形成更大散射体,从而有利于红外辐射和毫米波的衰减。
关键词
膨胀石墨
膨胀体积
微观结构
分步插层法
Keywords
exfoliated graphite
expanding volume
microstructure
two-step intercalation
分类号
TQ165 [化学工程—高温制品工业]
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职称材料
题名
分步插层法制备硝酸盐-硫酸-GIC
被引量:
2
2
作者
韩志东
杜鹏
董丽敏
张显友
机构
哈尔滨理工大学材料科学与工程学院
出处
《新型炭材料》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2009年第4期379-382,共4页
基金
国家自然科学青年基金(50802022)
黑龙江省自然科学基金(E200613)~~
文摘
通过硫酸、硝酸或硝酸盐分步插层的方法,成功制备了硝酸/硝酸盐-硫酸-GIC三元石墨层间化合物。采用XRD、SEM和EDS对GIC的结构进行了研究。结果表明:与直接插层法相比,分步插层法有利于插层物质的插层反应,充分扩大石墨层间距,形成低阶石墨层间化合物,使膨胀效果更优,膨胀体积高达450mL/g以上;膨胀后GIC的孔结构均匀,层壁较薄,片层结构清晰,膨胀充分。同时,分步插层法能够降低实验操作的危险性,污染小,反应易于控制。
关键词
分步插层法
石墨
层
间化合物
硝酸
硫酸
Keywords
Two-step intercalation method
GIC
Nitric acid
Sulfuric acid
分类号
O611.3 [理学—无机化学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
分步插层法制备高倍膨胀石墨及其微观结构
赵纪金
李晓霞
郭宇翔
马德跃
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2014
11
在线阅读
下载PDF
职称材料
2
分步插层法制备硝酸盐-硫酸-GIC
韩志东
杜鹏
董丽敏
张显友
《新型炭材料》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2009
2
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职称材料
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