采用表面印迹法在介孔材料SBA-15表面合成对N-乙酰半胱氨酸分子具有较高选择性的分子印迹聚合物小棒,对该聚合物的形貌进行了光学表征,并用XRD和13 C NMR对其识别机理做了详细的研究.结果表明,印迹聚合物表面存在对印迹分子选择性识别...采用表面印迹法在介孔材料SBA-15表面合成对N-乙酰半胱氨酸分子具有较高选择性的分子印迹聚合物小棒,对该聚合物的形貌进行了光学表征,并用XRD和13 C NMR对其识别机理做了详细的研究.结果表明,印迹聚合物表面存在对印迹分子选择性识别的官能团,此项研究为N-乙酰半胱氨酸分子的分离富集提供一种新型识别材料.展开更多
以正硅酸乙酯(TEOS)、气相白炭黑(fumed-silica)、硅溶胶为无机组装源,以CTAB为模板剂分别于碱性与酸性介质中组装介孔分子筛。采用X射线衍射(XRD)、BET比表面测试、29Si MAS NMR等分析方法对所合成介孔材料进行表征,考察了无机硅源对...以正硅酸乙酯(TEOS)、气相白炭黑(fumed-silica)、硅溶胶为无机组装源,以CTAB为模板剂分别于碱性与酸性介质中组装介孔分子筛。采用X射线衍射(XRD)、BET比表面测试、29Si MAS NMR等分析方法对所合成介孔材料进行表征,考察了无机硅源对所组装的介孔结构的有序度和水热稳定性的影响。实验结果表明:碱性介质中所组装的介孔结构的有序度与水热稳定性由高到低顺序为硅溶胶,fumed-silica,TEOS;晶化温度从120℃提高到150℃,fumed-silica为硅源的介孔结构从六方相转化为立方相,而硅溶胶为硅源的则不变;酸性介质中3种硅源均可以组装出有序度较高的介孔材料,其有序度由高到低顺序为硅溶胶,fumed-silica,TEOS,并且fumed-silicae有序度远高于TEOS。展开更多
文摘采用表面印迹法在介孔材料SBA-15表面合成对N-乙酰半胱氨酸分子具有较高选择性的分子印迹聚合物小棒,对该聚合物的形貌进行了光学表征,并用XRD和13 C NMR对其识别机理做了详细的研究.结果表明,印迹聚合物表面存在对印迹分子选择性识别的官能团,此项研究为N-乙酰半胱氨酸分子的分离富集提供一种新型识别材料.
文摘以正硅酸乙酯(TEOS)、气相白炭黑(fumed-silica)、硅溶胶为无机组装源,以CTAB为模板剂分别于碱性与酸性介质中组装介孔分子筛。采用X射线衍射(XRD)、BET比表面测试、29Si MAS NMR等分析方法对所合成介孔材料进行表征,考察了无机硅源对所组装的介孔结构的有序度和水热稳定性的影响。实验结果表明:碱性介质中所组装的介孔结构的有序度与水热稳定性由高到低顺序为硅溶胶,fumed-silica,TEOS;晶化温度从120℃提高到150℃,fumed-silica为硅源的介孔结构从六方相转化为立方相,而硅溶胶为硅源的则不变;酸性介质中3种硅源均可以组装出有序度较高的介孔材料,其有序度由高到低顺序为硅溶胶,fumed-silica,TEOS,并且fumed-silicae有序度远高于TEOS。
