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化学刻蚀硅制备太阳能电池减反射结构的研究进展 被引量:1
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作者 贺春林 杨雪飞 +2 位作者 马国峰 王建明 才庆魁 《沈阳大学学报(自然科学版)》 CAS 2012年第6期19-25,共7页
硅基太阳能电池的关键技术之一是在硅表面制备高效减反射结构,化学刻蚀法是制备减反射结构的最常用方法,其研究热点为贵金属辅助化学刻蚀技术,综述了化学刻蚀硅制备太阳能电池减反射结构的主要方法、刻蚀机理、工艺特征及应用等的研究进... 硅基太阳能电池的关键技术之一是在硅表面制备高效减反射结构,化学刻蚀法是制备减反射结构的最常用方法,其研究热点为贵金属辅助化学刻蚀技术,综述了化学刻蚀硅制备太阳能电池减反射结构的主要方法、刻蚀机理、工艺特征及应用等的研究进展,重点介绍了贵金属辅助化学刻蚀技术的最新研究成果. 展开更多
关键词 太阳能电池 减反射结构 化学刻蚀
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