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庆大霉素损伤条件下大肠杆菌内源过氧化氢对间体膜囊的作用
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作者 钟永亮 李欣 +1 位作者 庞新跃 刘雪茹 《河南科技大学学报(自然科学版)》 CAS 北大核心 2020年第5期75-81,M0006,M0007,共9页
为了探讨细菌受到抗生素损伤后,内源过氧化氢(H2O2)对间体膜囊的影响,通过庆大霉素损伤大肠杆菌。以电导率和丙二醛(MDA)为损伤指标,采用组织化学染色法,通过透射电子显微镜,观察经庆大霉素损伤后大肠杆菌内源H2O2和间体膜囊的变化。研... 为了探讨细菌受到抗生素损伤后,内源过氧化氢(H2O2)对间体膜囊的影响,通过庆大霉素损伤大肠杆菌。以电导率和丙二醛(MDA)为损伤指标,采用组织化学染色法,通过透射电子显微镜,观察经庆大霉素损伤后大肠杆菌内源H2O2和间体膜囊的变化。研究结果表明:庆大霉素损伤可提高大肠杆菌的内源H2O2浓度、间体膜囊数量以及间体膜囊周围的H2O2浓度。在间体膜囊外排的过程中,使用Tris-HCl蔗糖高渗溶液进行处理之后,H2O2浓度显著提升,电导率大幅度降低。庆大霉素和过氧化氢酶处理后,间体膜囊中的MDA浓度升高,损伤加重。庆大霉素损伤导致大肠杆菌的间体膜囊外周聚集大量的H2O2,且这些H2O2对间体膜囊具有保护作用。 展开更多
关键词 内源过氧化氢 间体膜囊 庆大霉素 电导率 丙二醛
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