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Cu-Al合金平板试样内氧化层的测定 被引量:4
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作者 国秀花 宋克兴 +1 位作者 郜建新 刘瑞华 《兵器材料科学与工程》 CAS CSCD 北大核心 2007年第1期21-24,共4页
以Cu2O为氧源,采用包埋法在自制真空炉胆内进行了Cu-Al合金平板试样的内氧化试验,测定了内氧化层深度和试样的电导率,建立了平板试样内氧化后Cu-Al合金层和弥散强化层共存下的电导率模型,推导出Cu-Al合金平板试样的内氧化深度X和电导率... 以Cu2O为氧源,采用包埋法在自制真空炉胆内进行了Cu-Al合金平板试样的内氧化试验,测定了内氧化层深度和试样的电导率,建立了平板试样内氧化后Cu-Al合金层和弥散强化层共存下的电导率模型,推导出Cu-Al合金平板试样的内氧化深度X和电导率!的关系:!=41.18+0.541 333 2!3X-4X2"。结果表明,内氧化后在试样横截面上有一条明显的界线,分界线的深度测定和电导率测定结果与公式计算结果吻合得较好,证明此界线即为内氧化的前沿界面,在显微镜下可测量出内氧化层的深度。 展开更多
关键词 CU-AL合金 内氧化深度 电导率 内氧化前沿界面
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