文中介绍了美国西南研究院(Southwest Research Institute-SwRI)等离子全方位离子镀膜技术(PI-ID)的最新研究成果。SwRI从实际应用出发,在等离子表面工程领域成功研发了一些新技术,PIID技术为其中一种。近几年来,SwRI研究的重点为类金刚...文中介绍了美国西南研究院(Southwest Research Institute-SwRI)等离子全方位离子镀膜技术(PI-ID)的最新研究成果。SwRI从实际应用出发,在等离子表面工程领域成功研发了一些新技术,PIID技术为其中一种。近几年来,SwRI研究的重点为类金刚石(DLC)涂层的高速率沉积,制备超厚DLC涂层用于提高工件的耐磨性和耐腐蚀性能、憎水DLC涂层以及长管道内表面的镀膜技术。与传统的脉冲辉光放电(PGD)技术不同,SwRI基于空心阴极放电(HCD)等离子技术研发了一套独特的镀膜技术,同时讨论了HCD技术的原理,并对HCD和PGD技术制备DLC涂层的实验结果和这两项技术的实际应用进行了讨论。最后,对该技术最新的研究方向进行了展望。展开更多
文摘文中介绍了美国西南研究院(Southwest Research Institute-SwRI)等离子全方位离子镀膜技术(PI-ID)的最新研究成果。SwRI从实际应用出发,在等离子表面工程领域成功研发了一些新技术,PIID技术为其中一种。近几年来,SwRI研究的重点为类金刚石(DLC)涂层的高速率沉积,制备超厚DLC涂层用于提高工件的耐磨性和耐腐蚀性能、憎水DLC涂层以及长管道内表面的镀膜技术。与传统的脉冲辉光放电(PGD)技术不同,SwRI基于空心阴极放电(HCD)等离子技术研发了一套独特的镀膜技术,同时讨论了HCD技术的原理,并对HCD和PGD技术制备DLC涂层的实验结果和这两项技术的实际应用进行了讨论。最后,对该技术最新的研究方向进行了展望。
