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SiO_2内保护层对LiB_3O_5晶体倍频增透膜损伤阈值的影响 被引量:2
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作者 于爱芳 范飞镝 +2 位作者 刘中星 朱镛 陈创天 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第4期603-606,共4页
利用离子辅助电子束沉积方法在LiB3O5基底上镀制了不加SiO2内保护层和加SiO2内保护层的倍频增透膜,测量了两类薄膜在波长1064 nm多脉冲辐照下的激光损伤阈值,获得了两种不同的损伤形貌,并对损伤原因作了初步探讨。实验结果表明:保护层... 利用离子辅助电子束沉积方法在LiB3O5基底上镀制了不加SiO2内保护层和加SiO2内保护层的倍频增透膜,测量了两类薄膜在波长1064 nm多脉冲辐照下的激光损伤阈值,获得了两种不同的损伤形貌,并对损伤原因作了初步探讨。实验结果表明:保护层的加入把由基底膜层界面缺陷吸收所决定的阈值改变到由HfO2膜层内缺陷吸收所决定的阈值,显著提高了倍频增透膜的抗激光损伤能力。 展开更多
关键词 LiB3O5 SiO2内保护 倍频增透膜 激光损伤阈值 损伤形貌
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强突出煤层“内保护层”构建理论及工程实践 被引量:12
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作者 辛新平 杨程涛 +3 位作者 魏建平 刘勇 王一彤 徐向宇 《煤炭科学技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2023年第12期267-281,共15页
保护层开采是煤矿瓦斯灾害防治最有效的技术手段,适用于有保护层可采的多煤层(群)等。对于无保护层可采的强突出单一煤层,随着采深加大、开采强度增加、构造更加复杂等多重因素叠加影响,应力与瓦斯耦合型灾害成为主导。为消除煤与瓦斯... 保护层开采是煤矿瓦斯灾害防治最有效的技术手段,适用于有保护层可采的多煤层(群)等。对于无保护层可采的强突出单一煤层,随着采深加大、开采强度增加、构造更加复杂等多重因素叠加影响,应力与瓦斯耦合型灾害成为主导。为消除煤与瓦斯突出危险,目前采取的诸如机械扩孔、水力冲孔、水射流割缝和水力压裂等措施均能较好地提高抽采效果,但未能实现均匀卸压、均匀增透和消除应力异常,存在一定的消突局限性。如何实现瓦斯高效抽采和高效消突是长期遏制该类煤层安全高效开采的主要技术瓶颈。研究结合河南能源集团所属突出矿井“零距离保护层”分层开采、穿层钻孔卸压增透强化抽采消突的工程实践,通过优化穿层钻孔设计、合理选择卸压措施和精准计量掏出煤量,强化卸压消突效果考察,实现大区域连片均匀卸压,形成了在煤层内构建类似保护层的消突途径,提出了“构建内保护层技术”,实现了强力均匀卸压、高效抽采,实现煤层快速消突。总结以河南能源焦煤公司为代表的突出矿井瓦斯治理技术发展历史及经验,开展单一厚煤层“构建内保护层技术”研究,阐释了“构建内保护层”消突的科学内涵、消突机理构建方法,开发了内保护层消突效果评价技术,构建了强突出单一煤层内保护层消突技术体系并制定了相关企业标准。提出强突出单一煤层主动构建内保护层的消突理念,创新了保护层开采的内涵和外延,为强突出单一煤层高效消突提供了较完善的技术体系和较为坚实的理论基础及技术手段。 展开更多
关键词 内保护 强突煤层 消突技术 消突评价 抽采效果
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裸蛹与茧内蛹保护对发育的影响
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作者 谢邦富 赖凤梅 王万莲 《四川蚕业》 1997年第4期55-57,共3页
在制种种茧保护时,一般认为:茧内蛹由于茧壳的保护,蛹体在茧壳内保护比削茧后的裸蛹,保护发育快。因此,生产上在进行两对交品种调节时,往往将发育慢的迟削茧,延长蛹体在茧内保护时间,相反,将发育快的早削茧摊入箔中裸蛹保护,而生产中削... 在制种种茧保护时,一般认为:茧内蛹由于茧壳的保护,蛹体在茧壳内保护比削茧后的裸蛹,保护发育快。因此,生产上在进行两对交品种调节时,往往将发育慢的迟削茧,延长蛹体在茧内保护时间,相反,将发育快的早削茧摊入箔中裸蛹保护,而生产中削茧过早,蛹体较嫩,在削茧鉴蛹。 展开更多
关键词 发蛾率 温度保护 削茧 裸蛹 复眼 蛹体 万县市 种茧 重复小区 内保护
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HfO_2/SiO_2双色膜在1064nm和532nm激光辐照下的损伤特性 被引量:3
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作者 潘峰 陈松林 +2 位作者 李海波 马平 王震 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第1期75-78,共4页
采用电子束蒸发的方式,制备了有氧化硅内保护层和没有氧化硅内保护层的1 064 nm高透过、532 nm高反射的HfO2/SiO2双色膜,测量了它们的光学性能以及在基频和倍频激光辐照下的抗损伤性能。结果表明:氧化硅内保护层提高了双色膜在基频光辐... 采用电子束蒸发的方式,制备了有氧化硅内保护层和没有氧化硅内保护层的1 064 nm高透过、532 nm高反射的HfO2/SiO2双色膜,测量了它们的光学性能以及在基频和倍频激光辐照下的抗损伤性能。结果表明:氧化硅内保护层提高了双色膜在基频光辐照下的损伤阈值,对双色膜在倍频光辐照下的损伤阈值无明显影响。通过观察薄膜的损伤形貌,分析破斑的深度信息结合驻波场分布,对两类双色膜在基频光和倍频光下的损伤机制做了初步探讨。分析表明:氧化硅内保护层提高了膜基界面的抗损伤性能,从而提高了双色膜在基频光下的损伤阈值。 展开更多
关键词 双色膜 内保护 基频光 倍频光 激光损伤
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高损伤阈值双色膜 被引量:1
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作者 潘峰 陈松林 +2 位作者 马平 王震 刘志超 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2012年第2期379-382,共4页
结合双色膜的驻波场分布优化膜系设计,以电子束蒸发的方式制备了1 064 nm高透过、532 nm高反射的HfO2/SiO2双色膜。采用1-on-1方式测量了双色膜在基频透过光和倍频反射光的辐照下的损伤阈值,为了研究双色膜在基频和倍频下的损伤机制差异... 结合双色膜的驻波场分布优化膜系设计,以电子束蒸发的方式制备了1 064 nm高透过、532 nm高反射的HfO2/SiO2双色膜。采用1-on-1方式测量了双色膜在基频透过光和倍频反射光的辐照下的损伤阈值,为了研究双色膜在基频和倍频下的损伤机制差异,对比了双色膜不同的初始损伤形貌并分析了其形成原因。针对损伤机制的差异,研究了外层驻波场分布对于倍频反射光辐照下的双色膜损伤特性影响以及氧化硅内保护层对于基频透过光的损伤特性的影响。实验结果表明:氧化硅内保护层和驻波场优化有助于提高双色膜在基频光和倍频光辐照下的激光损伤阈值,并对其机理做了分析。 展开更多
关键词 双色膜 驻波场 内保护 激光损伤
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