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双探针原子力显微镜视觉对准系统
被引量:
6
1
作者
张华坤
高思田
+2 位作者
卢明臻
李伟
王龙龙
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2014年第9期2399-2406,共8页
传统的原子力显微镜(AFM)受针尖形状和放置方式的影响很难测量线条的宽度和两个侧壁的形状,故本文提出采用双探针对顶测量方案来消除AFM针尖形状对测量结果的影响。介绍了一种基于机器视觉的双探针原子力显微镜对准系统,该系统将两个探...
传统的原子力显微镜(AFM)受针尖形状和放置方式的影响很难测量线条的宽度和两个侧壁的形状,故本文提出采用双探针对顶测量方案来消除AFM针尖形状对测量结果的影响。介绍了一种基于机器视觉的双探针原子力显微镜对准系统,该系统将两个探针接触到一起,实现了双探针在三维方向上的对准。系统采用具有亚微米级分辨率的镜头,配合高分辨率的CCD来获得探针的清晰图像,用于在水平和垂直两个方向实时监控双探针的运动情况。采用基于石英音叉式的自传感自调节的原子力探针,无需外加光学探测系统,缩小了系统体积,避免了杂散光对视觉对准系统的干扰。最后对针尖进行了亚像素边缘提取,精确地获取了探针之间的相对位置,实现了亚微米级的双探针对准(1μm以内)。该结论由探针之间距离与幅度/相位曲线得到了验证。
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关键词
原子力
显微镜
(AFM)
双
探针
尺寸
测量
对准
视觉引导
在线阅读
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职称材料
双探针原子力显微镜针尖对准方法研究
2
作者
张华坤
高思田
+2 位作者
李伟
施玉书
王鹤群
《计量学报》
CSCD
北大核心
2015年第1期1-5,共5页
双探针对顶测量可以有效地消除传统原子力显微镜(AFM)的探针形状对关键尺寸(CD)测量的影响。测量前需要将两个探针针尖(A和B)接触到一起作为测量零点,为实现双探针纳米级对准,提出一种渐进式平面扫描方法。首先,通过视觉图像...
双探针对顶测量可以有效地消除传统原子力显微镜(AFM)的探针形状对关键尺寸(CD)测量的影响。测量前需要将两个探针针尖(A和B)接触到一起作为测量零点,为实现双探针纳米级对准,提出一种渐进式平面扫描方法。首先,通过视觉图像引导两个探针对准到1μm以内。然后,两个探针继续接近,同时探针A在YOZ平面内对探针B扫描成像,并逐步缩小扫描范围和扫描步进,得到其针尖的纳米级坐标(YB,ZB)。最后,将探针A在Y和Z方向分别移动至YB和ZB,在X方向继续接近探针B直至两探针接触。实验证明,该方法可有效地实现双探针对准,且对准精度为10nm。
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关键词
计量学
双
探针
原子力
显微镜
对准方法
关键
尺寸
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职称材料
基于大高宽比CD-AFM探针的设计与制备
3
作者
贺龙
李淑娴
+4 位作者
苗斌
李加东
陈颖
苗小浦
吴森
《压电与声光》
CAS
北大核心
2024年第3期409-413,428,共6页
针对传统原子力显微镜(AFM)探针和关键尺寸原子力显微镜(CD-AFM)探针受限于针尖有效扫描高度较低,无法对深沟槽和大悬垂侧壁结构进行精准扫描成像的问题,提出了一种大高宽比针尖结构的新型CDAFM探针设计与制备方案。开发的新型CD-AFM探...
针对传统原子力显微镜(AFM)探针和关键尺寸原子力显微镜(CD-AFM)探针受限于针尖有效扫描高度较低,无法对深沟槽和大悬垂侧壁结构进行精准扫描成像的问题,提出了一种大高宽比针尖结构的新型CDAFM探针设计与制备方案。开发的新型CD-AFM探针针尖有效高度为5.1~5.8μm,高宽比达到14,相较于传统硅基CD-AFM探针,其有效高度提升了约4倍。利用开发的探针完成了标称深度为2.3μm、深宽比为4.6的深沟槽样品测试。
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关键词
关键尺寸原子力显微镜探针
深沟槽
大悬垂侧壁
大高宽比
有效高度
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职称材料
CD-AFM在45nm节点半导体芯片检测过程中的应用
被引量:
4
4
作者
殷伯华
初明璋
+1 位作者
林云生
韩立
《电子显微学报》
CAS
CSCD
北大核心
2009年第2期127-130,共4页
本文介绍了关键尺寸原子力显微镜(CD-AFM)在半导体芯片制造中的应用。通过对比现有的半导体检测仪器与原子力显微镜的工作原理和检测方法,详细探讨了原子力显微镜在目前的半导体芯片45nm节点工艺关键尺寸检测中的优势地位。根据芯片在...
本文介绍了关键尺寸原子力显微镜(CD-AFM)在半导体芯片制造中的应用。通过对比现有的半导体检测仪器与原子力显微镜的工作原理和检测方法,详细探讨了原子力显微镜在目前的半导体芯片45nm节点工艺关键尺寸检测中的优势地位。根据芯片在线关键尺寸检测的具体要求,提出了原子力显微镜急待解决的相关研究内容。
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关键词
关键
尺寸
原子力
显微镜
扫描电子
显微镜
3D图像
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职称材料
题名
双探针原子力显微镜视觉对准系统
被引量:
6
1
作者
张华坤
高思田
卢明臻
李伟
王龙龙
机构
合肥工业大学仪器科学与光电工程学院
中国计量科学研究院纳米与新材料计量研究所
天津大学精密仪器与光电子工程学院
出处
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2014年第9期2399-2406,共8页
基金
国家科学支撑计划资助项目(No.2011BAK15B02)
文摘
传统的原子力显微镜(AFM)受针尖形状和放置方式的影响很难测量线条的宽度和两个侧壁的形状,故本文提出采用双探针对顶测量方案来消除AFM针尖形状对测量结果的影响。介绍了一种基于机器视觉的双探针原子力显微镜对准系统,该系统将两个探针接触到一起,实现了双探针在三维方向上的对准。系统采用具有亚微米级分辨率的镜头,配合高分辨率的CCD来获得探针的清晰图像,用于在水平和垂直两个方向实时监控双探针的运动情况。采用基于石英音叉式的自传感自调节的原子力探针,无需外加光学探测系统,缩小了系统体积,避免了杂散光对视觉对准系统的干扰。最后对针尖进行了亚像素边缘提取,精确地获取了探针之间的相对位置,实现了亚微米级的双探针对准(1μm以内)。该结论由探针之间距离与幅度/相位曲线得到了验证。
关键词
原子力
显微镜
(AFM)
双
探针
尺寸
测量
对准
视觉引导
Keywords
Atomic Force Microscope (AFM)
dual-probe
dimension measurement
alignment
vision guidance
分类号
TH742.9 [机械工程—光学工程]
TP391 [自动化与计算机技术—计算机应用技术]
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职称材料
题名
双探针原子力显微镜针尖对准方法研究
2
作者
张华坤
高思田
李伟
施玉书
王鹤群
机构
合肥工业大学仪器科学与光电工程学院
中国计量科学研究院
出处
《计量学报》
CSCD
北大核心
2015年第1期1-5,共5页
基金
国家科技支撑计划(2011BAK158B02)
文摘
双探针对顶测量可以有效地消除传统原子力显微镜(AFM)的探针形状对关键尺寸(CD)测量的影响。测量前需要将两个探针针尖(A和B)接触到一起作为测量零点,为实现双探针纳米级对准,提出一种渐进式平面扫描方法。首先,通过视觉图像引导两个探针对准到1μm以内。然后,两个探针继续接近,同时探针A在YOZ平面内对探针B扫描成像,并逐步缩小扫描范围和扫描步进,得到其针尖的纳米级坐标(YB,ZB)。最后,将探针A在Y和Z方向分别移动至YB和ZB,在X方向继续接近探针B直至两探针接触。实验证明,该方法可有效地实现双探针对准,且对准精度为10nm。
关键词
计量学
双
探针
原子力
显微镜
对准方法
关键
尺寸
Keywords
Metrology
Dual probes
Atomic force microscopy
Alignment method
Critical dimensional
分类号
TB92 [机械工程—测试计量技术及仪器]
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职称材料
题名
基于大高宽比CD-AFM探针的设计与制备
3
作者
贺龙
李淑娴
苗斌
李加东
陈颖
苗小浦
吴森
机构
大连大学机械工程学院
中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所轻量化实验室
中国科学院多功能材料与轻巧系统重点实验室
天津大学精密仪器与光电子工程学院
出处
《压电与声光》
CAS
北大核心
2024年第3期409-413,428,共6页
基金
国家重点研发计划(2021YFB3201600)
国家自然科学基金(面上项目)(62074159)
苏州市科技计划项目(SSD2023001)
文摘
针对传统原子力显微镜(AFM)探针和关键尺寸原子力显微镜(CD-AFM)探针受限于针尖有效扫描高度较低,无法对深沟槽和大悬垂侧壁结构进行精准扫描成像的问题,提出了一种大高宽比针尖结构的新型CDAFM探针设计与制备方案。开发的新型CD-AFM探针针尖有效高度为5.1~5.8μm,高宽比达到14,相较于传统硅基CD-AFM探针,其有效高度提升了约4倍。利用开发的探针完成了标称深度为2.3μm、深宽比为4.6的深沟槽样品测试。
关键词
关键尺寸原子力显微镜探针
深沟槽
大悬垂侧壁
大高宽比
有效高度
Keywords
critical dimension atomic force microscopy probes
deep grooves
large overhanging sidewall
large aspect ratio
effective height
分类号
TN305 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
CD-AFM在45nm节点半导体芯片检测过程中的应用
被引量:
4
4
作者
殷伯华
初明璋
林云生
韩立
机构
中国科学院电工研究所
出处
《电子显微学报》
CAS
CSCD
北大核心
2009年第2期127-130,共4页
基金
中国科学院仪器研制与改造项目
文摘
本文介绍了关键尺寸原子力显微镜(CD-AFM)在半导体芯片制造中的应用。通过对比现有的半导体检测仪器与原子力显微镜的工作原理和检测方法,详细探讨了原子力显微镜在目前的半导体芯片45nm节点工艺关键尺寸检测中的优势地位。根据芯片在线关键尺寸检测的具体要求,提出了原子力显微镜急待解决的相关研究内容。
关键词
关键
尺寸
原子力
显微镜
扫描电子
显微镜
3D图像
Keywords
CD
AFM
SEM
3D
分类号
TN407 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
双探针原子力显微镜视觉对准系统
张华坤
高思田
卢明臻
李伟
王龙龙
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2014
6
在线阅读
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职称材料
2
双探针原子力显微镜针尖对准方法研究
张华坤
高思田
李伟
施玉书
王鹤群
《计量学报》
CSCD
北大核心
2015
0
在线阅读
下载PDF
职称材料
3
基于大高宽比CD-AFM探针的设计与制备
贺龙
李淑娴
苗斌
李加东
陈颖
苗小浦
吴森
《压电与声光》
CAS
北大核心
2024
0
在线阅读
下载PDF
职称材料
4
CD-AFM在45nm节点半导体芯片检测过程中的应用
殷伯华
初明璋
林云生
韩立
《电子显微学报》
CAS
CSCD
北大核心
2009
4
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职称材料
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