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双探针原子力显微镜视觉对准系统 被引量:6
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作者 张华坤 高思田 +2 位作者 卢明臻 李伟 王龙龙 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第9期2399-2406,共8页
传统的原子力显微镜(AFM)受针尖形状和放置方式的影响很难测量线条的宽度和两个侧壁的形状,故本文提出采用双探针对顶测量方案来消除AFM针尖形状对测量结果的影响。介绍了一种基于机器视觉的双探针原子力显微镜对准系统,该系统将两个探... 传统的原子力显微镜(AFM)受针尖形状和放置方式的影响很难测量线条的宽度和两个侧壁的形状,故本文提出采用双探针对顶测量方案来消除AFM针尖形状对测量结果的影响。介绍了一种基于机器视觉的双探针原子力显微镜对准系统,该系统将两个探针接触到一起,实现了双探针在三维方向上的对准。系统采用具有亚微米级分辨率的镜头,配合高分辨率的CCD来获得探针的清晰图像,用于在水平和垂直两个方向实时监控双探针的运动情况。采用基于石英音叉式的自传感自调节的原子力探针,无需外加光学探测系统,缩小了系统体积,避免了杂散光对视觉对准系统的干扰。最后对针尖进行了亚像素边缘提取,精确地获取了探针之间的相对位置,实现了亚微米级的双探针对准(1μm以内)。该结论由探针之间距离与幅度/相位曲线得到了验证。 展开更多
关键词 原子力显微镜(AFM) 探针 尺寸测量 对准 视觉引导
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双探针原子力显微镜针尖对准方法研究
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作者 张华坤 高思田 +2 位作者 李伟 施玉书 王鹤群 《计量学报》 CSCD 北大核心 2015年第1期1-5,共5页
双探针对顶测量可以有效地消除传统原子力显微镜(AFM)的探针形状对关键尺寸(CD)测量的影响。测量前需要将两个探针针尖(A和B)接触到一起作为测量零点,为实现双探针纳米级对准,提出一种渐进式平面扫描方法。首先,通过视觉图像... 双探针对顶测量可以有效地消除传统原子力显微镜(AFM)的探针形状对关键尺寸(CD)测量的影响。测量前需要将两个探针针尖(A和B)接触到一起作为测量零点,为实现双探针纳米级对准,提出一种渐进式平面扫描方法。首先,通过视觉图像引导两个探针对准到1μm以内。然后,两个探针继续接近,同时探针A在YOZ平面内对探针B扫描成像,并逐步缩小扫描范围和扫描步进,得到其针尖的纳米级坐标(YB,ZB)。最后,将探针A在Y和Z方向分别移动至YB和ZB,在X方向继续接近探针B直至两探针接触。实验证明,该方法可有效地实现双探针对准,且对准精度为10nm。 展开更多
关键词 计量学 探针 原子力显微镜 对准方法 关键尺寸
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基于大高宽比CD-AFM探针的设计与制备
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作者 贺龙 李淑娴 +4 位作者 苗斌 李加东 陈颖 苗小浦 吴森 《压电与声光》 CAS 北大核心 2024年第3期409-413,428,共6页
针对传统原子力显微镜(AFM)探针和关键尺寸原子力显微镜(CD-AFM)探针受限于针尖有效扫描高度较低,无法对深沟槽和大悬垂侧壁结构进行精准扫描成像的问题,提出了一种大高宽比针尖结构的新型CDAFM探针设计与制备方案。开发的新型CD-AFM探... 针对传统原子力显微镜(AFM)探针和关键尺寸原子力显微镜(CD-AFM)探针受限于针尖有效扫描高度较低,无法对深沟槽和大悬垂侧壁结构进行精准扫描成像的问题,提出了一种大高宽比针尖结构的新型CDAFM探针设计与制备方案。开发的新型CD-AFM探针针尖有效高度为5.1~5.8μm,高宽比达到14,相较于传统硅基CD-AFM探针,其有效高度提升了约4倍。利用开发的探针完成了标称深度为2.3μm、深宽比为4.6的深沟槽样品测试。 展开更多
关键词 关键尺寸原子力显微镜探针 深沟槽 大悬垂侧壁 大高宽比 有效高度
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CD-AFM在45nm节点半导体芯片检测过程中的应用 被引量:4
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作者 殷伯华 初明璋 +1 位作者 林云生 韩立 《电子显微学报》 CAS CSCD 北大核心 2009年第2期127-130,共4页
本文介绍了关键尺寸原子力显微镜(CD-AFM)在半导体芯片制造中的应用。通过对比现有的半导体检测仪器与原子力显微镜的工作原理和检测方法,详细探讨了原子力显微镜在目前的半导体芯片45nm节点工艺关键尺寸检测中的优势地位。根据芯片在... 本文介绍了关键尺寸原子力显微镜(CD-AFM)在半导体芯片制造中的应用。通过对比现有的半导体检测仪器与原子力显微镜的工作原理和检测方法,详细探讨了原子力显微镜在目前的半导体芯片45nm节点工艺关键尺寸检测中的优势地位。根据芯片在线关键尺寸检测的具体要求,提出了原子力显微镜急待解决的相关研究内容。 展开更多
关键词 关键尺寸 原子力显微镜 扫描电子显微镜 3D图像
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