期刊导航
期刊开放获取
上海教育软件发展有限公..
期刊文献
+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
检索
高级检索
期刊导航
共找到
1
篇文章
<
1
>
每页显示
20
50
100
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
显示方式：
文摘
详细
列表
相关度排序
被引量排序
时效性排序
低亚表面损伤石英光学基底的加工和检测技术
被引量：
14
1
作者
马彬
沈正祥
+5 位作者
张众
贺鹏飞
季一勤
刘华松
刘丹丹
王占山
《强激光与粒子束》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010年第9期2181-2185,共5页
制备低亚表面损伤的超光滑光学基底,是获得高损伤阈值薄膜的前提条件。针对石英材料在不同加工工序中引入亚表面损伤层的差异,首先利用共焦显微成像结合光散射的层析扫描技术,对W10和W5牌号SiC磨料研磨后的亚表面缺陷进行了检测,讨论了...
制备低亚表面损伤的超光滑光学基底,是获得高损伤阈值薄膜的前提条件。针对石英材料在不同加工工序中引入亚表面损伤层的差异,首先利用共焦显微成像结合光散射的层析扫描技术,对W10和W5牌号SiC磨料研磨后的亚表面缺陷进行了检测,讨论了缺陷尺寸与散射信号强度、磨料粒径与损伤层深度间的对应关系;同时,采用化学腐蚀处理技术对抛光后样品的亚表面形貌进行了刻蚀研究,分析了化学反应生成物和亚表面缺陷对刻蚀速率的影响、不同深度下亚表面缺陷的分布特征,以及均方根粗糙度与刻蚀深度间的联系。根据各道加工工艺的不同采用了相应的亚表面检测技术,由此来确定下一道加工工序,合理的去除深度,最终获得了极低亚表面损伤的超光滑光学基底。
展开更多
关键词
亚表面损伤层
共焦显微成像
光散射
化学腐蚀
刻蚀速率
在线阅读
下载PDF
职称材料
题名
低亚表面损伤石英光学基底的加工和检测技术
被引量：
14
1
作者
马彬
沈正祥
张众
贺鹏飞
季一勤
刘华松
刘丹丹
王占山
机构
同济大学精密光学工程技术研究所
同济大学航空航天与力学学院
天津津航技术物理研究所天津市薄膜光学重点实验室
出处
《强激光与粒子束》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010年第9期2181-2185,共5页
基金
国家自然科学基金项目(10825521)
上海市科委基金项目(07DZ22302)
+1 种基金
上海市博士后科研资助计划(10R21416000)
江苏省现代光学技术省重点实验室开放课题(KJS0901)
文摘
制备低亚表面损伤的超光滑光学基底,是获得高损伤阈值薄膜的前提条件。针对石英材料在不同加工工序中引入亚表面损伤层的差异,首先利用共焦显微成像结合光散射的层析扫描技术,对W10和W5牌号SiC磨料研磨后的亚表面缺陷进行了检测,讨论了缺陷尺寸与散射信号强度、磨料粒径与损伤层深度间的对应关系;同时,采用化学腐蚀处理技术对抛光后样品的亚表面形貌进行了刻蚀研究,分析了化学反应生成物和亚表面缺陷对刻蚀速率的影响、不同深度下亚表面缺陷的分布特征,以及均方根粗糙度与刻蚀深度间的联系。根据各道加工工艺的不同采用了相应的亚表面检测技术,由此来确定下一道加工工序,合理的去除深度,最终获得了极低亚表面损伤的超光滑光学基底。
关键词
亚表面损伤层
共焦显微成像
光散射
化学腐蚀
刻蚀速率
Keywords
subsurface damage
confocal scanning microscope
light scattering
chemical etching
etching rate
分类号
TN244 [电子电信—物理电子学]
在线阅读
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
低亚表面损伤石英光学基底的加工和检测技术
马彬
沈正祥
张众
贺鹏飞
季一勤
刘华松
刘丹丹
王占山
《强激光与粒子束》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010
14
在线阅读
下载PDF
职称材料
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
上一页
1
下一页
到第
页
确定
用户登录
登录
IP登录
使用帮助
返回顶部
