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扫描干涉光刻系统光路结构误差分析与验证
被引量：
2
1
作者
张敏骏
张鸣
朱煜
《仪器仪表学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2020年第10期111-120,共10页
扫描干涉光刻(SBIL)是实现大面积高精度全息光栅制作的新技术,为实现纳米级干涉条纹精度,左右两侧曝光光路的对称性十分关键,为准确计算曝光光路空间对称性与光学元件结构及安装误差之间的关系,提出了一种基于三维空间向量映射法的SBIL...
扫描干涉光刻(SBIL)是实现大面积高精度全息光栅制作的新技术,为实现纳米级干涉条纹精度,左右两侧曝光光路的对称性十分关键,为准确计算曝光光路空间对称性与光学元件结构及安装误差之间的关系,提出了一种基于三维空间向量映射法的SBIL结构误差的计算评估方法,确定了曝光光束在空间传输或反射时各元件结构误差对光路对称性及干涉条纹直线度误差的影响,为验证上述模型,设计了基于压电陶瓷(PZT)条纹锁定的模拟系统,并通过数值仿真验证了上述模型,确定了该系统下实现纳米级条纹误差时各元件的结构与安装误差需求,搭建实验光路验证了在不同误差情况下干涉条纹误差情况,该模型计算相对简洁且易于实现,可指导SBIL结构与安装精度的设计与分配。
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关键词
扫描干涉光刻
光路结构误差
空间向量映射
紧凑型SBIL
光路
干涉条纹
误差
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职称材料
题名
扫描干涉光刻系统光路结构误差分析与验证
被引量：
2
1
作者
张敏骏
张鸣
朱煜
机构
清华大学机械工程系摩擦学国家重点实验室
清华大学精密超精密制造装备及控制北京市重点实验室
出处
《仪器仪表学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2020年第10期111-120,共10页
基金
国家重大科技专项(2018ZX02101003)
国家自然科学基金(51677104)项目资助
文摘
扫描干涉光刻(SBIL)是实现大面积高精度全息光栅制作的新技术,为实现纳米级干涉条纹精度,左右两侧曝光光路的对称性十分关键,为准确计算曝光光路空间对称性与光学元件结构及安装误差之间的关系,提出了一种基于三维空间向量映射法的SBIL结构误差的计算评估方法,确定了曝光光束在空间传输或反射时各元件结构误差对光路对称性及干涉条纹直线度误差的影响,为验证上述模型,设计了基于压电陶瓷(PZT)条纹锁定的模拟系统,并通过数值仿真验证了上述模型,确定了该系统下实现纳米级条纹误差时各元件的结构与安装误差需求,搭建实验光路验证了在不同误差情况下干涉条纹误差情况,该模型计算相对简洁且易于实现,可指导SBIL结构与安装精度的设计与分配。
关键词
扫描干涉光刻
光路结构误差
空间向量映射
紧凑型SBIL
光路
干涉条纹
误差
Keywords
scanning beam interference lithography
light path structural error
space vector mapping
compact SBIL optical path
interference fringe error
分类号
TH744.3 [机械工程—光学工程]
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题名
作者
出处
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被引量
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1
扫描干涉光刻系统光路结构误差分析与验证
张敏骏
张鸣
朱煜
《仪器仪表学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2020
2
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