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二氧化锆栅介质薄膜光学及电学特性研究 被引量:2
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作者 马春雨 李智 张庆瑜 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第4期491-494,共4页
 采用反应RF磁控溅射法在氧气和氩气的混合气氛中制备了具有较高介电常数、较宽光学禁带间隙的ZrO2薄膜。利用变角度光谱椭圆偏振仪研究了不同O2/Ar流量比下制备所得薄膜的厚度、复折射率、复介电常数和吸收系数,估算了薄膜的光学禁带...  采用反应RF磁控溅射法在氧气和氩气的混合气氛中制备了具有较高介电常数、较宽光学禁带间隙的ZrO2薄膜。利用变角度光谱椭圆偏振仪研究了不同O2/Ar流量比下制备所得薄膜的厚度、复折射率、复介电常数和吸收系数,估算了薄膜的光学禁带间隙,并测试分析了在不同O2/Ar流量比下溅射沉积的Al/ZrO2/SiO2/n型Si叠层结构的C V、I V特性曲线。通过对O2/Ar流量比分别为1/9、1/4、4/1、1/0工艺条件下溅射沉积ZrO2薄膜的α2与光子能量关系图的拟合,确定了其光学禁带间隙Eg分别为6.27、5.84、6.03、5.92eV,在O2/Ar流量比为1/9、1/4、1/0工艺条件下溅射沉积ZrO2薄膜,其ZrO2/SiO2叠层的有效介电常数keff计算结果分别为14.6、19.6和9.3,漏电流较低(<5.0×10-5A/cm2),其击穿电场强度分别为5.6、6.3、9MV/cm。 展开更多
关键词 光谱椭圆偏振仪 介电常数 ZRO2薄膜 光学禁带间隙
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聚甲基丙烯酸甲酯乳胶膜在溶剂退火过程中的结构演变 被引量:1
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作者 郑楠 刘甲雪 +2 位作者 陈冉 赖宇晴 门永锋 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2015年第12期2576-2581,共6页
通过乳液聚合的方法得到了单分散的聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)乳胶分散液,利用小角X射线散射技术得到乳胶分散液中乳胶颗粒的粒径以及粒径分布.PMMA乳胶分散液在硅片上成膜后,利用椭偏仪和扫描电子显微镜研究了其在2种溶剂退火过程中的膜... 通过乳液聚合的方法得到了单分散的聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)乳胶分散液,利用小角X射线散射技术得到乳胶分散液中乳胶颗粒的粒径以及粒径分布.PMMA乳胶分散液在硅片上成膜后,利用椭偏仪和扫描电子显微镜研究了其在2种溶剂退火过程中的膜厚以及结构变化.干燥后的PMMA乳胶膜在相对良溶剂丙酮的溶剂退火过程中存在粒子的形变及溶胀2个过程,而在相对不良溶剂乙醇的溶剂退火过程中仅存在粒子的溶胀过程. 展开更多
关键词 聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA) 乳胶膜 溶剂退火 结构演变 光谱椭圆偏振
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