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金属纳米结构表面等离激元共振增强光电化学反应
被引量：
2
1
作者
张檬
王寒
+2 位作者
蔡文斌
吴德印
田中群
《光谱学与光谱分析》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2018年第S1期369-370,共2页
联合多个外场协同相互作用,表面等离激元共振(SPR)效应用于调控表面反应,可以进一步提高反应效率和选择性。在本文中,我们研究了在外加光场的作用下,通过电位对金属电极费米能级的调控,实现对SPR能量的调控,从而调节SPR弛豫产生热电子...
联合多个外场协同相互作用,表面等离激元共振(SPR)效应用于调控表面反应,可以进一步提高反应效率和选择性。在本文中,我们研究了在外加光场的作用下,通过电位对金属电极费米能级的调控,实现对SPR能量的调控,从而调节SPR弛豫产生热电子和热空穴的能量,研究SPR增强化学反应的光电协同机制,调控金属纳米结构(NPs)光电化学界面反应的选择性和效率。
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关键词
光电
化学反应
表面等离激元共振
表面增强拉曼光谱
光电协同效应
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职称材料
光诱导约束刻蚀体系中羟基自由基生成的影响因素
被引量：
4
2
作者
胡艳
方秋艳
+4 位作者
周剑章
詹东平
时康
田中群
田昭武
《物理化学学报》
SCIE
CAS
CSCD
北大核心
2013年第11期2392-2398,共7页
采用荧光分析,暂态光电流响应分析,电化学交流阻抗谱(EIS)和Mott-Schottky响应分析考察了外加电位,光照时间,溶液pH等几个关键因素对光诱导约束刻蚀体系中TiO2纳米管阵列表面游离OH生成的影响.结果表明:当外加电位为1.0 V时,光电协同产...
采用荧光分析,暂态光电流响应分析,电化学交流阻抗谱(EIS)和Mott-Schottky响应分析考察了外加电位,光照时间,溶液pH等几个关键因素对光诱导约束刻蚀体系中TiO2纳米管阵列表面游离OH生成的影响.结果表明:当外加电位为1.0 V时,光电协同产生游离OH效率最高;OH的光催化生成与消耗能很快达到稳态,形成稳定的约束刻蚀剂层,有利于保持刻蚀过程中的精度;当pH为10时,TiO2纳米管光催化产生游离OH效率最高.研究结果对于调控和优化光诱导约束刻蚀平坦化铜的溶液体系,提高铜的刻蚀速度或平坦化精度有重要的指导意义.
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关键词
光诱导约束刻蚀
游离·OH
荧光检测
光电协同效应
TIO2纳米管阵列
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职称材料
题名
金属纳米结构表面等离激元共振增强光电化学反应
被引量：
2
1
作者
张檬
王寒
蔡文斌
吴德印
田中群
机构
厦门大学化学化工学院固体表面物理化学国家重点实验室能源材料化学协同创新中心
复旦大学化学系能源材料化学协同创新中心上海市分子催化与功能材料表面重点实验室
出处
《光谱学与光谱分析》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2018年第S1期369-370,共2页
基金
国家自然科学基金项目(21533006
21621091)资助
文摘
联合多个外场协同相互作用,表面等离激元共振(SPR)效应用于调控表面反应,可以进一步提高反应效率和选择性。在本文中,我们研究了在外加光场的作用下,通过电位对金属电极费米能级的调控,实现对SPR能量的调控,从而调节SPR弛豫产生热电子和热空穴的能量,研究SPR增强化学反应的光电协同机制,调控金属纳米结构(NPs)光电化学界面反应的选择性和效率。
关键词
光电
化学反应
表面等离激元共振
表面增强拉曼光谱
光电协同效应
Keywords
Photoelectrochemical reaction
Surface plasmon resonance
Surface-enhanced Raman spectroscopy
Photoelectric synergistic effect
分类号
TB383.1 [一般工业技术—材料科学与工程]
O646 [理学—物理化学]
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职称材料
题名
光诱导约束刻蚀体系中羟基自由基生成的影响因素
被引量：
4
2
作者
胡艳
方秋艳
周剑章
詹东平
时康
田中群
田昭武
机构
厦门大学化学化工学院化学系
出处
《物理化学学报》
SCIE
CAS
CSCD
北大核心
2013年第11期2392-2398,共7页
基金
国家自然科学基金(91023043,21021002,91023006)资助项目~~
文摘
采用荧光分析,暂态光电流响应分析,电化学交流阻抗谱(EIS)和Mott-Schottky响应分析考察了外加电位,光照时间,溶液pH等几个关键因素对光诱导约束刻蚀体系中TiO2纳米管阵列表面游离OH生成的影响.结果表明:当外加电位为1.0 V时,光电协同产生游离OH效率最高;OH的光催化生成与消耗能很快达到稳态,形成稳定的约束刻蚀剂层,有利于保持刻蚀过程中的精度;当pH为10时,TiO2纳米管光催化产生游离OH效率最高.研究结果对于调控和优化光诱导约束刻蚀平坦化铜的溶液体系,提高铜的刻蚀速度或平坦化精度有重要的指导意义.
关键词
光诱导约束刻蚀
游离·OH
荧光检测
光电协同效应
TIO2纳米管阵列
Keywords
Photo-induced confined etching
Free · OH
Fluorescence detection Photo-electro-synergistic effect
TiO2 nanotube array
分类号
O644.1 [理学—物理化学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
金属纳米结构表面等离激元共振增强光电化学反应
张檬
王寒
蔡文斌
吴德印
田中群
《光谱学与光谱分析》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2018
2
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职称材料
2
光诱导约束刻蚀体系中羟基自由基生成的影响因素
胡艳
方秋艳
周剑章
詹东平
时康
田中群
田昭武
《物理化学学报》
SCIE
CAS
CSCD
北大核心
2013
4
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