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基于量子技术的原子沉积光栅的研究进展与典型应用
1
作者
雷李华
梁利杰
邓晓
《红外与激光工程》
EI
CSCD
北大核心
2024年第11期224-234,共11页
基于量子基准的精密测量技术建立在量子力学原理上,以超越经典方法的测量精度,成为现代科技发展的重要推动力。铬原子光刻光栅基于冷原子量子态的操控技术而制备,是精密测量领域的关键元件,其制备技术与应用研究备受关注。其可作为纳米...
基于量子基准的精密测量技术建立在量子力学原理上,以超越经典方法的测量精度,成为现代科技发展的重要推动力。铬原子光刻光栅基于冷原子量子态的操控技术而制备,是精密测量领域的关键元件,其制备技术与应用研究备受关注。其可作为纳米级长度标准物质,实现微纳尺度高精密量检设备的长度溯源。文中分析了铬原子光刻光栅的制备原理;综述了国内外原子光刻光栅的研究现状及其在几何量精密测量中的应用,并探讨了未来的发展方向,以提升铬原子光刻光栅在计量领域的应用水平。
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关键词
光栅标准物质
原子光刻
原子跃迁频率
量子基准
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职称材料
基于Cr原子光刻技术的nm光栅间距比对测量定值方法研究
被引量:
3
2
作者
陈凯晴
管钰晴
+6 位作者
邹文哲
邓晓
孔明
陈雅晴
熊英凡
傅云霞
雷李华
《计量学报》
CSCD
北大核心
2023年第5期671-678,共8页
建立了一种基于Cr原子光刻技术的nm光栅间距比对测量定值方法。以国家自溯源光栅标准物质来建立标准样板校准溯源体系的可行性为基础,保障测量仪器更高精度、可溯源性;设计并制备了节距长度有序递增的多周期电子束直写光栅样板,满足可...
建立了一种基于Cr原子光刻技术的nm光栅间距比对测量定值方法。以国家自溯源光栅标准物质来建立标准样板校准溯源体系的可行性为基础,保障测量仪器更高精度、可溯源性;设计并制备了节距长度有序递增的多周期电子束直写光栅样板,满足可适配于不同分辨率的nm测量仪器的需求,名义节距值分别为200、400、600、800、1 000 nm。经国家自溯源光栅标准物质比对后的AFM完成对nm栅格标准样板的测量与表征,实验表明:电子束直写制备的光栅标准样板均匀性水平1 nm,相对不确定度低于2%,光栅均具有良好的均匀性、准确性以及稳定性,验证了研制的光栅标准样板能作为一种理想的实物标准运用于nm几何量量值溯源体系。
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关键词
计量学
Cr原子光刻技术
比对定值
光栅标准物质
自溯源
扁平化
AFM
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职称材料
题名
基于量子技术的原子沉积光栅的研究进展与典型应用
1
作者
雷李华
梁利杰
邓晓
机构
上海市计量测试技术研究院
上海在线检测与控制技术重点实验室
同济大学物理科学与工程学院
出处
《红外与激光工程》
EI
CSCD
北大核心
2024年第11期224-234,共11页
基金
国家重点研发计划项目(2021YFF0603300)
计量与校准技术实验室基金项目(JLKG2024001B001)
国家市场监督管理总局科技计划项目(2023MK025)。
文摘
基于量子基准的精密测量技术建立在量子力学原理上,以超越经典方法的测量精度,成为现代科技发展的重要推动力。铬原子光刻光栅基于冷原子量子态的操控技术而制备,是精密测量领域的关键元件,其制备技术与应用研究备受关注。其可作为纳米级长度标准物质,实现微纳尺度高精密量检设备的长度溯源。文中分析了铬原子光刻光栅的制备原理;综述了国内外原子光刻光栅的研究现状及其在几何量精密测量中的应用,并探讨了未来的发展方向,以提升铬原子光刻光栅在计量领域的应用水平。
关键词
光栅标准物质
原子光刻
原子跃迁频率
量子基准
Keywords
grating reference material
atomic lithography
atomic transition frequency
quantum benchmark
分类号
TB9 [机械工程—测试计量技术及仪器]
TB921 [机械工程—测试计量技术及仪器]
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职称材料
题名
基于Cr原子光刻技术的nm光栅间距比对测量定值方法研究
被引量:
3
2
作者
陈凯晴
管钰晴
邹文哲
邓晓
孔明
陈雅晴
熊英凡
傅云霞
雷李华
机构
中国计量大学计量测试工程学院
上海市计量测试技术研究院
同济大学物理科学与工程学院
上海市在线检测与控制技术重点实验室
出处
《计量学报》
CSCD
北大核心
2023年第5期671-678,共8页
基金
上海市优秀学术/技术带头人计划(21XD1425000)。
文摘
建立了一种基于Cr原子光刻技术的nm光栅间距比对测量定值方法。以国家自溯源光栅标准物质来建立标准样板校准溯源体系的可行性为基础,保障测量仪器更高精度、可溯源性;设计并制备了节距长度有序递增的多周期电子束直写光栅样板,满足可适配于不同分辨率的nm测量仪器的需求,名义节距值分别为200、400、600、800、1 000 nm。经国家自溯源光栅标准物质比对后的AFM完成对nm栅格标准样板的测量与表征,实验表明:电子束直写制备的光栅标准样板均匀性水平1 nm,相对不确定度低于2%,光栅均具有良好的均匀性、准确性以及稳定性,验证了研制的光栅标准样板能作为一种理想的实物标准运用于nm几何量量值溯源体系。
关键词
计量学
Cr原子光刻技术
比对定值
光栅标准物质
自溯源
扁平化
AFM
Keywords
metrology
Cr atomic lithography
comparison measurement
grating standard material
self-traceable
flatting
AFM
分类号
TB921 [机械工程—测试计量技术及仪器]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
基于量子技术的原子沉积光栅的研究进展与典型应用
雷李华
梁利杰
邓晓
《红外与激光工程》
EI
CSCD
北大核心
2024
0
在线阅读
下载PDF
职称材料
2
基于Cr原子光刻技术的nm光栅间距比对测量定值方法研究
陈凯晴
管钰晴
邹文哲
邓晓
孔明
陈雅晴
熊英凡
傅云霞
雷李华
《计量学报》
CSCD
北大核心
2023
3
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职称材料
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