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光学薄膜参数测量方法研究 被引量:19
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作者 李凯朋 王多书 +3 位作者 李晨 王济州 董茂进 张玲 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2015年第3期1048-1052,共5页
为了研究准确性和效率更高的膜层光学薄膜参数测量方法,对优化膜系结构和改进制备工艺都有重要的指导作用。论文在研究传统测量方法基础上,将包络线法与全光谱拟合反演法相结合,提出了一种新型的光学薄膜参数测量方法。该方法将采用包... 为了研究准确性和效率更高的膜层光学薄膜参数测量方法,对优化膜系结构和改进制备工艺都有重要的指导作用。论文在研究传统测量方法基础上,将包络线法与全光谱拟合反演法相结合,提出了一种新型的光学薄膜参数测量方法。该方法将采用包络线法计算的单层膜光学薄膜参数近似值作为参考,设置全光谱拟合反演法优化搜索的上下限,结合适当的评价函数构建计算物理模型,并选用综合优化算法求解获得待测膜系各膜层的光学薄膜参数。最后设计Ti O2、Si O2单层膜和膜系为:G|0.5HLHL0.5H|A(H-Ti O2,L-Si O2)的多层膜进行测量验证,并分析了该测量方法的效率、准确度、稳定性等。 展开更多
关键词 光学薄膜 光学薄膜参数 包络线法 全光谱拟合反演法 包络线-全光谱拟合反演法
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