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薄膜滤光片的光学稳定性研究 被引量:30
1
作者 白胜元 顾培夫 +1 位作者 刘旭 唐晋发 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第5期576-580,共5页
薄膜滤光片中心波长的稳定性是非常重要的参量 .这不仅取决于膜层的聚集密度 ,而且与薄膜材料和基板的折射率温度系数及线性膨胀系数有着紧密的关系 .本文根据滤光片的实验参量 ,分析计算了它们对滤光片中心波长漂移影响的大小 。
关键词 光学薄膜 带通滤光片 光学稳定性 波长 薄膜滤光片 漂移 聚集密度 折射率温度系数 线性膨胀系数
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提高高得率浆光学稳定性研究的新进展 被引量:6
2
作者 张红杰 胡惠仁 《中国造纸学报》 EI CAS CSCD 2008年第2期109-114,共6页
主要围绕高得率浆光致返黄的机理和提高高得率浆光学稳定性的途径(化学改性、新型漂白工艺和添加各种返黄抑制剂等)展开讨论,系统论述了抑制高得率浆光致返黄的最新研究进展。
关键词 高得率浆 光学稳定性 返黄机理 返黄抑制剂
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高能粒子辐照对零膨胀微晶玻璃光学性质和面形光学稳定性的影响 被引量:5
3
作者 齐亚范 方敬忠 谢才清 《光电工程》 CAS CSCD 1996年第1期40-46,共7页
研究了高能电子、高能质子对VO2微晶玻璃辐照前后光学性质和面形光学稳定性的影响。研究结果表明:高能电子辐照能引起微晶玻璃面形明显变化,且使VO2微晶玻璃强烈着色。高能质子辐照没引起面形明显变化。高能质子辐照对反射光谱... 研究了高能电子、高能质子对VO2微晶玻璃辐照前后光学性质和面形光学稳定性的影响。研究结果表明:高能电子辐照能引起微晶玻璃面形明显变化,且使VO2微晶玻璃强烈着色。高能质子辐照没引起面形明显变化。高能质子辐照对反射光谱特性没有影响。 展开更多
关键词 微晶玻璃 电子辐照 高能粒子 光学稳定性
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SiNWs:Tb^(3+)的光学稳定性及Si纳米线对其发光特性的影响 被引量:1
4
作者 杨瑞臣 耿小丕 +5 位作者 范志东 李旭 马蕾 高永慧 付莹 王欣欣 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2019年第3期682-685,共4页
荧光纳米材料不但具备纳米材料的优势,同时还具有优异的光学性质,被广泛应用于荧光标记、离子识别、荧光免疫分析、光学成像和医学诊断等方面。因此,荧光纳米材料的制备、结构分析和荧光特性等方面的研究备受人们的关注。为了获得发光... 荧光纳米材料不但具备纳米材料的优势,同时还具有优异的光学性质,被广泛应用于荧光标记、离子识别、荧光免疫分析、光学成像和医学诊断等方面。因此,荧光纳米材料的制备、结构分析和荧光特性等方面的研究备受人们的关注。为了获得发光强度大、荧光量子效率高和制备过程可控的Si基荧光纳米材料,实验进一步研究了Si纳米线对样品发光特性的影响和样品的光学稳定性。首先,基于固-液-固生长机制,在反应温度为1 100℃、 N_2气流量为1 500 sccm、生长时间为15~60 min等工艺条件下,分别以"抛光"和"金字塔"织构表面的单晶Si(100)为衬底,生长出不同长度和分布的Si纳米线;以Au或Au-Al合金膜层作为金属催化剂,生长出密度分别约为10~8和10^(10) cm^(-2)的Si纳米线;然后,利用L4514自动控温管式加热炉,基于高温固相法,在温度为1 100℃、掺杂时间为60 min和N_2气流量为1 000 sccm等工艺条件下,以高纯Tb_4O_7(99.99%)粉末为稀土掺杂剂对不同Si纳米线衬底进行稀土掺杂,制备一系列的荧光纳米材料SiNWs:Tb^(3+)样品;室温下利用Hitachi F-4600型荧光分光光度计,固定激发光波长为243 nm、激发光狭缝为2.5 nm、发射光狭缝为2.5 nm、扫描波长范围为450~650 nm、光电倍增管(photomultiplier lube, PMT)电压为600 V等参数下,测量了不同样品的光致发光特性;最后,实验测试了该荧光纳米材料的光学稳定性,如时间(0~30 d)、温度(300~500 K)、酸碱(pH 1和11)、抗光漂白(0~120 min)等稳定性以及水溶性和分散性。结果显示,在衬底为"金字塔"织构表面上、生长时间为30 min、以Au为金属催化剂等条件下制备的Si纳米线为Tb^(3+)掺杂衬底时, SiNWs:Tb^(3+)的绿光发射强度较大,其发光强峰值位于554 nm,属于能级~5D_4→~7F_5的跃迁,另外在波长为494, 593和628 nm出现了三条发光谱带,它们分别属于能级~5D_4→~7F_6,~5D_4→~7F_4和~5D_4→~7F_3的跃迁。另外,样品展示出了优异的时间、温度、酸碱和抗光漂白等光学稳定性,同时还具有良好的水溶性和分散性。如温度升高到500 K时,光发射强度仅降低了约8.9%左右;抗光漂白能力较强,用波长为365 nm、功率为450 W的紫外光源照射120 min,样品的绿光发射强度无衰减;酸、碱稳定性好,在pH 1的强酸(HCl)溶液中120 min未见衰减,在pH 11的强碱(NaOH)溶液中15 min内衰减较小,随后发光强度出现了缓慢下降的趋势;当60 min后,样品的发光强度变得极其微弱。分析认为,在SiNWs:Tb^(3+)表面有一层SiO_2包覆层,而NaOH溶液容易和SiO_2发生化学反应,随着时间延长SiO_2层被破坏,故样品发光强度降低;样品溶于水中放置30 d未见沉淀物,发光亮度均匀且分散性较好。在研究了制备温度、气体流量和掺杂时间等工艺条件之后,深入研究了Si纳米线自身变化对Tb^(3+)绿光发射的影响。该材料展示出了良好的光学稳定性、水溶性和分散性,使其作为荧光标记物具有一定的应用价值。 展开更多
关键词 SI纳米线 Tb3+绿光发射 光学稳定性 荧光纳米材料
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甲基化对多孔SiO2增透薄膜光学稳定性能的影响 被引量:2
5
作者 贾巧英 唐永兴 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第4期580-583,共4页
分别通过引入甲基三乙氧基硅烷(MTES)、二甲基二乙氧基硅烷(DMDES)以及六甲基二硅氮烷(HMDS)组分对SiO2悬胶体进行改性,得到不同甲基化的多孔SiO2改性薄膜。研究了改性薄膜的光学稳定性,抗激光破坏性能以及机械抗擦性能。结果表明,HMDS... 分别通过引入甲基三乙氧基硅烷(MTES)、二甲基二乙氧基硅烷(DMDES)以及六甲基二硅氮烷(HMDS)组分对SiO2悬胶体进行改性,得到不同甲基化的多孔SiO2改性薄膜。研究了改性薄膜的光学稳定性,抗激光破坏性能以及机械抗擦性能。结果表明,HMDS改性薄膜的光学稳定性最好而机械抗擦性较弱,MTES与DMDES改性薄膜的光学稳定性较低而机械抗擦性良好且均与改性组分的含量有关,甲基化改性薄膜的抗激光破坏性能比未改性薄膜的有所降低。 展开更多
关键词 甲基化 光学稳定性 SiO2增透薄 改性
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手性化合物在质谱中光学稳定性的研究
6
作者 吴忆南 潘远江 陈耀祖 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2000年第1期88-90,共3页
The optical stability of chiral 2-hydroxy-2-phenylacetic acid in electron ionization mass spectrometry(EIMS) process has been detected directly by deuterium labelling technique. From the EI mass spectrum of deuterated... The optical stability of chiral 2-hydroxy-2-phenylacetic acid in electron ionization mass spectrometry(EIMS) process has been detected directly by deuterium labelling technique. From the EI mass spectrum of deuterated 2-hydroxy-2-phenylacetic acid, the major characteristic fragment ion at m/z 108(the capture of the carbonyl group) and the corresponding isotopic ion(13C) at m/z 109 can be observed, and the ratio of m/z=109 to m/z=108 is about 8%(the calculated value is 7.8%). As enolization of deuterated 2-hydroxy-2-phenylacetic acid in mass spectrometry can yield the characteristic fragment ion at m/z 109 and results in much higher ratio of 109/108 than 8%; this study shows that no enolization takes place during the EI-MS process of 2-hydroxy-2-phenylacetic acid. This results can be concluded that these compounds are optically stable in the process of instantaneous vaporization at high temperature and electron impact ionization. 展开更多
关键词 手性化合物 光学稳定性分析 质谱过程
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基于频率响应法的后视镜振动光学稳定性优化 被引量:3
7
作者 赵婷婷 汪霞 王昌富 《汽车技术》 北大核心 2014年第12期9-12,44,共5页
为了解决某项目后视镜光学稳定性试验中出现的失效问题,采用基于频率响应法的CAE方法模拟了光学稳定性试验。建立了频率响应分析流程,通过试验和仿真结果对比可知,采用频率响应分析得出的共振频率与位移响应差异较小,准确再现了失效问题... 为了解决某项目后视镜光学稳定性试验中出现的失效问题,采用基于频率响应法的CAE方法模拟了光学稳定性试验。建立了频率响应分析流程,通过试验和仿真结果对比可知,采用频率响应分析得出的共振频率与位移响应差异较小,准确再现了失效问题,并提出了相应的改进方案。通过试验验证了分析方法的准确性和改进方案的有效性。 展开更多
关键词 后视镜 振动频率响应 光学稳定性
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一种基于OTF稳定性的波前编码相位板优化方法 被引量:10
8
作者 张文字 陈燕萍 +2 位作者 赵廷玉 叶子 余飞鸿 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第11期2017-2021,共5页
提出了一种简单的可用于光学系统中子午弧矢方向白光OTF稳定性评价的波前编码相位板参量优化方法.该方法仅以标准偏差来评价OTF在目标景深范围内的稳定性,并且结合自适应模拟退火算法在参量空间内优化得到相位板的最佳参量.使用该方法... 提出了一种简单的可用于光学系统中子午弧矢方向白光OTF稳定性评价的波前编码相位板参量优化方法.该方法仅以标准偏差来评价OTF在目标景深范围内的稳定性,并且结合自适应模拟退火算法在参量空间内优化得到相位板的最佳参量.使用该方法优化得到的相位板参量,可以大幅度提高光学系统的景深,并且可以获得更为清晰、稳定的成像.对应用波前编码技术前后光学系统的成像性能作了比较,并且考察了优化参量的容差性. 展开更多
关键词 波前编码 相位板 景深 光学传递函数稳定性 自适应模拟退火 优化
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BDN及其它几种用于1.06μ调制染料的光化学稳定性的研究
9
《四川激光》 1981年第A02期141-141,共1页
通过实验研究了我院合成的BDN,国产十一甲川(相当于9860)、5甲川(相当于9740)几种染料的光学稳定性,测量了在强可见光及紫外照射下染料吸收光谱、调Q性能的变化。对BDN染料片,几种不同溶剂的染料溶液进行了比较。
关键词 BDN染料片 化学稳定性 调制 种用 光学稳定性 吸收光谱 紫外照射 染料溶液 可见光
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空间光学成像系统用高尺寸稳定光学聚酰亚胺薄膜 被引量:2
10
作者 殷家家 毛丹波 +2 位作者 范斌 边疆 杜俊峰 《光电工程》 CAS CSCD 北大核心 2021年第10期1-9,共9页
空间光学成像系统采用薄膜主镜解决了大口径、轻量化、空间折叠展开等难题,但大口径光学透镜的成像指标要求高、空间应用环境恶劣,对透镜基底材料的性能要求严苛,其中尺寸稳定性、空间环境适应性尤为重要。本文提出在分子结构设计基础上... 空间光学成像系统采用薄膜主镜解决了大口径、轻量化、空间折叠展开等难题,但大口径光学透镜的成像指标要求高、空间应用环境恶劣,对透镜基底材料的性能要求严苛,其中尺寸稳定性、空间环境适应性尤为重要。本文提出在分子结构设计基础上,通过共聚合成的方法有效改性聚酰亚胺材料,通过在分子结构中同时引入刚性链和分子链间氢键作用,在保证传统聚酰亚胺高机械性能、高热稳定性的同时,改善其热尺寸稳定性、空间环境光学稳定性。所得高尺寸稳定性光学级聚酰亚胺薄膜材料综合性能良好,是优异的空间光学成像系统薄膜主镜候选材料。 展开更多
关键词 光学聚酰亚胺薄膜 高尺寸稳定性 空间环境光学稳定性
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多自由度耦合振动环境下的近距激光通信系统设计与验证
11
作者 何晓垒 王振 +2 位作者 钱阳 苏瑞芝 邱成 《光通信技术》 北大核心 2025年第4期68-71,共4页
针对商业航天器舱段间在极端震动环境下的高可靠性通信需求,提出一种抗多自由度耦合振动的近距激光通信系统。通过采用复合光路补偿结构、大发散角光学系统和基于深度学习的自适应控制算法,有效解决了多自由度振动导致的光学元件形变和... 针对商业航天器舱段间在极端震动环境下的高可靠性通信需求,提出一种抗多自由度耦合振动的近距激光通信系统。通过采用复合光路补偿结构、大发散角光学系统和基于深度学习的自适应控制算法,有效解决了多自由度振动导致的光学元件形变和光路失稳等技术难题。实验结果表明:在旋转20°、200 mm通信距离和10 mm偏移的极端工况,系统仍能保持稳定通信性能,接收功率波动小于2 dBm;在200 mm通信距离且同时存在10 mm偏移和20°旋转的最恶劣条件下,接收功率稳定在-10.84 dBm以上。 展开更多
关键词 多自由度 耦合震动 近距 激光通信 光学稳定性
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调光生态膜光学性能研究 被引量:9
12
作者 苗洪利 林敬文 +3 位作者 郑荣儿 彭凯平 赵建纲 孟继武 《中国海洋大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2005年第2期335-338,266,共5页
为提高光合作用效率 ,促进农作物早熟、增产 ,根据叶绿素进行光合作用所需的吸收谱 ,采用新型有机共轭分子化合物按一定比例分散到聚烯烃化合物中 ,可产生与叶绿素吸收谱匹配的荧光谱 ,从而实现对太阳光谱中不同波段光的红移。对调光膜... 为提高光合作用效率 ,促进农作物早熟、增产 ,根据叶绿素进行光合作用所需的吸收谱 ,采用新型有机共轭分子化合物按一定比例分散到聚烯烃化合物中 ,可产生与叶绿素吸收谱匹配的荧光谱 ,从而实现对太阳光谱中不同波段光的红移。对调光膜进行光学性能研究 ,结果表明 :直射光透光率略低于普通膜 ,而散射光的透光率大于普通膜 ;红橙光波段调光度较高 ,蓝紫光波段的调光度较低 ;光学稳定性早期衰减较大 ,但逐渐趋于平稳。 展开更多
关键词 调光膜 调光度 光学稳定性
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具有零、正、负热膨胀共存特性的光学晶体AEB_(2)O_(4)(AE=Ca或Sr)
13
作者 林哲帅 姜兴兴 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2022年第8期1492-1492,共1页
常规光学晶体在外界温度变化时,由于“热胀冷缩”效应,无法保持光信号传输的稳定性(如光程稳定性等),限制了其在复杂/极端环境中精密光学仪器的应用。探索晶体的反常热膨胀性质,如零热膨胀,来“对冲”外界温场对晶体结构的影响是解决这... 常规光学晶体在外界温度变化时,由于“热胀冷缩”效应,无法保持光信号传输的稳定性(如光程稳定性等),限制了其在复杂/极端环境中精密光学仪器的应用。探索晶体的反常热膨胀性质,如零热膨胀,来“对冲”外界温场对晶体结构的影响是解决这一问题的有效途径。但是,要通过晶格在温度场作用下的精巧平衡来实现零热膨胀是十分困难的:一方面,热膨胀率严格等于零的晶体在自然界中并不存在;另一方面,目前化学组分调控晶体热膨胀性质的方法,例如多相复合、元素掺杂、客体分子引入和缺陷生成等,会影响到晶体的透光性能,不利于光学应用。如何在严格化学配比的晶体材料中,利用其本征的热膨胀性能实现大温度涨落下的光学稳定性,具有非常重要的科技意义。 展开更多
关键词 光学晶体 光学稳定性 光信号传输 透光性能 晶体材料 热膨胀率 多相复合 化学配比
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基于荧光(或磷光)猝灭的氧传感器的研制(Ⅰ)——指示剂的合成及筛选 被引量:4
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作者 张民权 沈慧芳 +2 位作者 杨卓如 陈焕钦 WongKwok-yin 《华南理工大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第1期51-55,共5页
金属有机络合物被波长合适的光激发可发射荧光或磷光 ,这种发射光能被氧气猝灭 .现合成了 13种金属有机络合物 ,详尽地研究了它们的光谱特性及氧猝灭特性 .总结了关联氧浓度 (分压 )和发射光强度关系的数学模型 .从中筛选了两种灵敏度... 金属有机络合物被波长合适的光激发可发射荧光或磷光 ,这种发射光能被氧气猝灭 .现合成了 13种金属有机络合物 ,详尽地研究了它们的光谱特性及氧猝灭特性 .总结了关联氧浓度 (分压 )和发射光强度关系的数学模型 .从中筛选了两种灵敏度高、测量范围宽、光学稳定性好的氧感应指示剂 ,即 [Ru(bathophen) 3](ClO4 ) 2 和Pt(TFPP) .用[Ru(bathophen) 3](ClO4 ) 2 _Cab—O—Sil_Silicone膜和Pt(TFPP)_Silicone膜进行猝灭实验 ,证明改进的Stern_Volmer方程计算结果与猝灭数据非常一致 ,可以作为传感器的标定方程 . 展开更多
关键词 金属有机络合物 化学合成 氧猝灭特性 荧光猝灭 氧传感器 氧感应指示剂 光学稳定性
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荧光增白剂对杨木BCTMP浆光致返黄的抑制作用 被引量:3
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作者 张红杰 胡惠仁 +1 位作者 魏德津 徐治国 《中国造纸学报》 EI CAS CSCD 2008年第4期32-36,共5页
采用荧光增白剂(FWA)作为杨木BCTMP浆的光学稳定剂,通过浆内添加或手抄片表面涂饰来系统探讨FWA提高杨木BCTMP浆光学稳定性的作用效果。结果表明,2S和4S型FWA在浆内添加时抑制BCTMP浆返黄的效果较好,而4S和6S型在手抄片表面涂饰时效果... 采用荧光增白剂(FWA)作为杨木BCTMP浆的光学稳定剂,通过浆内添加或手抄片表面涂饰来系统探讨FWA提高杨木BCTMP浆光学稳定性的作用效果。结果表明,2S和4S型FWA在浆内添加时抑制BCTMP浆返黄的效果较好,而4S和6S型在手抄片表面涂饰时效果较好。浆内添加时FWA的用量较高,浆料pH值为中性或弱碱性,需要一定的混合时间;而在手抄片表面涂饰时FWA在较低用量下便可以大大改善杨木BCTMP浆的光学稳定性。 展开更多
关键词 荧光增白剂 高得率浆 返黄 光学稳定性
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不同沉积方式SiO_2薄膜的自然时效特性(英文) 被引量:2
16
作者 姜玉刚 刘小利 +6 位作者 刘华松 王利栓 李士达 陈丹 刘丹丹 姜承慧 季一勤 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2019年第5期266-271,共6页
SiO_2薄膜是光学薄膜领域内常用的重要低折射率材料之一。文中采用不同沉积技术在Si基底上制备了SiO_2薄膜,并研究了它们光学特性的自然时效特性。采用不同贮存时间的椭偏光谱表征SiO_2薄膜的光学特性,随着时间的增加,EB-SiO_2薄膜和IAD... SiO_2薄膜是光学薄膜领域内常用的重要低折射率材料之一。文中采用不同沉积技术在Si基底上制备了SiO_2薄膜,并研究了它们光学特性的自然时效特性。采用不同贮存时间的椭偏光谱表征SiO_2薄膜的光学特性,随着时间的增加,EB-SiO_2薄膜和IAD-SiO_2薄膜的物理厚度和光学厚度随着增加,但IBS-SiO_2薄膜随着减小,变化率分别为1.0%,2.3%和-0.2%。当贮存时间达到120天时,IBS-SiO_2薄膜、EB-SiO_2薄膜和IAD-SiO_2薄膜的物理厚度和光学厚度趋于稳定。实验结果表明,IBSSiO_2薄膜的光学特性稳定性最好,在最外层保护薄膜选择中,应尽可能选择离子束溅射技术沉积SiO_2薄膜。 展开更多
关键词 IBS-SiO2薄膜 EB-SiO2薄膜 IAD-SiO2薄膜 光学稳定性 光学常数
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细胞内钙离子指示剂的光致荧光增强 被引量:1
17
作者 李淑娜 霍波 《医用生物力学》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第4期291-298,共8页
目的钙离子(Ca2+)指示剂的光学稳定性对于显示细胞胞浆内Ca2+浓度的时间特性非常重要,定量研究Ca2+指示剂的光致荧光增强现象。方法分别用5种不同功率的光照射5种不同细胞系(MC3T3-E1、RAW264.7、MLO-Y4、MEF3T3、HEK293),研究两种Ca2+... 目的钙离子(Ca2+)指示剂的光学稳定性对于显示细胞胞浆内Ca2+浓度的时间特性非常重要,定量研究Ca2+指示剂的光致荧光增强现象。方法分别用5种不同功率的光照射5种不同细胞系(MC3T3-E1、RAW264.7、MLO-Y4、MEF3T3、HEK293),研究两种Ca2+指示剂Fluo-4 AM和Oregon green的光致荧光响应。观察光致荧光增强以及随后发生的荧光淬灭,并进一步利用毒胡萝卜素(thapsigargin,TG)刺激引起钙响应峰,分析响应峰的特征参数。结果高功率光对于Fluo-4 AM或Oregon green都可引起荧光增强现象,但Oregon green染色细胞的响应比例以及光致响应峰的大小和时间跨度都显著小于Fluo-4 AM染色细胞。结论使用低功率光照射Oregon green染色细胞显示细胞内Ca2+浓度变化具有更好的光学稳定性。 展开更多
关键词 光功率 钙离子 钙指示剂 光学稳定性
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低温下(-213℃)补偿机构的设计 被引量:1
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作者 李冬冬 胡明勇 +1 位作者 吴海燕 赵金标 《红外技术》 CSCD 北大核心 2016年第8期659-665,共7页
为了满足光学平台在低温下(-213℃)的光学设计稳定性要求,本文设计了一种温度补偿结构,基于材料热膨胀系数随温度变化的原理对该结构进行了理论计算和实验验证。该结构通过控制螺栓的预紧力保证连接件可靠,并使殷钢板在低温下处于自由... 为了满足光学平台在低温下(-213℃)的光学设计稳定性要求,本文设计了一种温度补偿结构,基于材料热膨胀系数随温度变化的原理对该结构进行了理论计算和实验验证。该结构通过控制螺栓的预紧力保证连接件可靠,并使殷钢板在低温下处于自由伸缩状态;并利用在低温下因瓦合金变形极小补偿不锈钢变形带来的误差。其光学系统的在低温下的指标RMS≤?/10,?=632.8 nm。理论表明,在低温下因瓦合金的最大变形量为0.24884 mm,不锈钢的最大变形量为2.910 mm;实验结果表明:在常温和低温下用干涉仪测得的光学系统的面形精度分别为RMS=?/13、RMS=?/12,?=632.8 nm。在低温下能较好满足光学设计稳定性要求。 展开更多
关键词 低温(-213℃) 光学设计稳定性 温度补偿 不锈钢变形 螺栓预紧力 热膨胀系数
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