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高性能光学合成石英玻璃的制备和应用 被引量:23
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作者 聂兰舰 王玉芬 +2 位作者 向在奎 王蕾 王慧 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第12期2916-2924,共9页
介绍了制备光学合成石英玻璃的常用工艺方法,包括化学气相沉积、等离子化学气相沉积和间接合成法等;给出了不同光学石英玻璃使用的原材料、它们的特点及其在不同领域的应用综述了该项技术在国内外的发展现状。比较了上述制备方法的优缺... 介绍了制备光学合成石英玻璃的常用工艺方法,包括化学气相沉积、等离子化学气相沉积和间接合成法等;给出了不同光学石英玻璃使用的原材料、它们的特点及其在不同领域的应用综述了该项技术在国内外的发展现状。比较了上述制备方法的优缺点,其中立式化学气相沉积工艺是目前最成熟的商业化工艺,可用于制备直径达Φ600mm以上、光学均匀性优于2×10^(-6)、抗激光损伤阈值达30J/cm2@355nm的大尺寸合成石英玻璃;等离子化学气相沉积工艺可制备内在质量优异、羟基含量≤5×10^(-6)、光谱透过率T190-4000nm≥80%的全光谱透过石英玻璃;间接合成法可制备光吸收系数小于1×10^(-6)/cm@1064nm、羟基含量≤1×10^(-6)、光谱透过率T157-4000nm≥80%的石英玻璃,而且易于掺杂及控制缺陷,进而制备各类掺杂特殊功能的石英玻璃。文章最后指出:上述制备工艺各有优缺点,应根据高端光电技术领域的应用需求采取适当的制备工艺。 展开更多
关键词 光学石英玻璃 化学气相沉积 等离子化学气相沉积 间接合成法 综述
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光学玻璃
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《中国光学》 EI CAS 2003年第5期92-93,共2页
TQ171.112 2003053903Er<sup>3+</sup>和Yb<sup>3+</sup>共掺碲酸盐玻璃的光谱性质=Spectroscopicproperties of Er<sup>3+</sup> and Yb<sup>3+</sup> codoped tellurite glasses[刊,... TQ171.112 2003053903Er<sup>3+</sup>和Yb<sup>3+</sup>共掺碲酸盐玻璃的光谱性质=Spectroscopicproperties of Er<sup>3+</sup> and Yb<sup>3+</sup> codoped tellurite glasses[刊,中]/杨建虎(中科院上海光机所.上海(201800)),戴世勋…//光学学报.—2003,23(2).—210-215研究了Er<sup>3+</sup>和Yb<sup>3+</sup>共掺碲酸盐玻璃的吸收和荧光光谱性质,分析了碲酸盐玻璃中Er<sup>3+</sup>的上转换发光机制,应用Judd-Ofelt理论计算了玻璃的强度参量Ω<sub>t</sub>(t=2,4,6),分别为Ω<sub>2</sub>=4.74×10<sup>-20</sup>cm<sup>2</sup>,Ω<sub>4</sub>=1.46×10<sup>-20</sup> 展开更多
关键词 光谱性质 碲酸盐玻璃 理论计算 荧光分支比 受激发射截面 掺杂浓度 中科院 上转换 光学石英玻璃 发光机制
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超声磨粒冲击加工去除模型建立与仿真 被引量:5
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作者 舒晨 李新和 +1 位作者 卜佳南 胡兴佳 《机械科学与技术》 CSCD 北大核心 2015年第9期1360-1364,共5页
运用脆性材料的临界切削深度理论,结合Hertz弹性接触理论和运动学方程对超声波磨粒冲击去除机理进行了理论分析,并采用光滑质点流体动力学(SPH)方法,研究了加工过程中磨粒冲击对脆性材料裂纹形成及扩展的影响。结果表明:光学石英玻璃的... 运用脆性材料的临界切削深度理论,结合Hertz弹性接触理论和运动学方程对超声波磨粒冲击去除机理进行了理论分析,并采用光滑质点流体动力学(SPH)方法,研究了加工过程中磨粒冲击对脆性材料裂纹形成及扩展的影响。结果表明:光学石英玻璃的临界切削深度为0.013μm。采用粒度为W7的磨粒,加工间隙一定,超声工具头端面振幅在约低于23.87μm加工时,可实现在延性模式下研抛出高质量的石英玻璃表面;当振幅高于23.87μm时,可实现在脆性断裂模式下对玻璃表面的高效率研磨。仿真结果表明:脆性材料在磨粒冲击过程中首先表现为弹塑性变形,当达到材料的临界断裂应力时,材料内部开始出现裂纹。 展开更多
关键词 超声磨粒冲击 光学石英玻璃 临界切削深度 光滑质点流体力学(SPH)
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Defect-free surface of quartz glass polished in elastic mode by chemical impact reaction 被引量:1
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作者 彭文强 关朝亮 李圣怡 《Journal of Central South University》 SCIE EI CAS 2014年第12期4438-4444,共7页
Removal of brittle materials in the brittle or ductile mode inevitably causes damaged or strained surface layers containing cracks, scratches or dislocations. Within elastic deformation, the arrangement of each atom c... Removal of brittle materials in the brittle or ductile mode inevitably causes damaged or strained surface layers containing cracks, scratches or dislocations. Within elastic deformation, the arrangement of each atom can be recovered back to its original position without any defects introduced. Based on surface hydroxylation and chemisorption theory, material removal mechanism of quartz glass in the elastic mode is analyzed to obtain defect-free surface. Elastic contact condition between nanoparticle and quartz glass surface is confirmed from the Hertz contact theory model. Atoms on the quartz glass surface are removed by chemical bond generated by impact reaction in the elastic mode, so no defects are generated without mechanical process. Experiment was conducted on a numerically controlled system for nanoparticle jet polishing, and one flat quartz glass was polished in the elastic mode. Results show that scratches on the sample surface are completely removed away with no mechanical defects introduced, and microroughness(Ra) is decreased from 1.23 nm to 0.47 nm. Functional group Ce — O — Si on ceria nanoparticles after polishing was detected directly and indirectly by FTIR, XRD and XPS spectra analysis from which the chemical impact reaction is validated. 展开更多
关键词 defect-free surface chemical impact reaction nanoparticle jet polishing elastic mode
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