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对象模型在集成电路掩膜光学临近矫正中的应用
被引量：
1
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作者
杨长旗
洪先龙
+2 位作者
吴为民
蔡懿慈
石蕊
《计算机辅助设计与图形学学报》
EI
CSCD
北大核心
2003年第3期255-258,共4页
随着超大规模集成电路的发展 ,其特征尺寸已经接近或小于掩膜光刻工艺中所使用的光波长 由于光的衍射和干涉现象 ,实际得到的光刻图形与掩膜图形之间存在一定的误差 为尽量消除这种误差 ,常用的两种方法是OPC和PSM 提出一种基于对象...
随着超大规模集成电路的发展 ,其特征尺寸已经接近或小于掩膜光刻工艺中所使用的光波长 由于光的衍射和干涉现象 ,实际得到的光刻图形与掩膜图形之间存在一定的误差 为尽量消除这种误差 ,常用的两种方法是OPC和PSM 提出一种基于对象模型的OPC方法以及由此而开发的可实际应用的工具软件OPCM 该方法也为基于规则的OPC提供了产生基本规则的引擎 。
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关键词
掩膜
光学临近矫正
对象模型
集成电路
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职称材料
集成电路光刻过程中的ECO技术
2
作者
张宏博
史峥
《机电工程》
CAS
2007年第12期59-62,共4页
在现阶段深亚微米化的集成电路产业中,设计与制造已经出现日益严重的脱节,生产加工过程带来的重修正问题使得设计-生产周期大大加长,为了克服这个弊端,随之而来的反馈修正技术(ECO技术)应运而生。以光刻过程中光学临近矫正(OPC)技术所...
在现阶段深亚微米化的集成电路产业中,设计与制造已经出现日益严重的脱节,生产加工过程带来的重修正问题使得设计-生产周期大大加长,为了克服这个弊端,随之而来的反馈修正技术(ECO技术)应运而生。以光刻过程中光学临近矫正(OPC)技术所涉及到的反向修正技术为例,介绍了几种目前产业界所主要采用(或即将采用)的方法,并为此提出了几个目前所亟待解决的问题。
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关键词
集成电路
反馈修正
光学临近矫正
分辨率增强技术
光刻过程
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职称材料
题名
对象模型在集成电路掩膜光学临近矫正中的应用
被引量：
1
1
作者
杨长旗
洪先龙
吴为民
蔡懿慈
石蕊
机构
清华大学计算机科学与技术系软件研究所设计自动化室
出处
《计算机辅助设计与图形学学报》
EI
CSCD
北大核心
2003年第3期255-258,共4页
基金
清华大学基础研究基金 ( 2 0 0 1110 0 2 )资助
文摘
随着超大规模集成电路的发展 ,其特征尺寸已经接近或小于掩膜光刻工艺中所使用的光波长 由于光的衍射和干涉现象 ,实际得到的光刻图形与掩膜图形之间存在一定的误差 为尽量消除这种误差 ,常用的两种方法是OPC和PSM 提出一种基于对象模型的OPC方法以及由此而开发的可实际应用的工具软件OPCM 该方法也为基于规则的OPC提供了产生基本规则的引擎 。
关键词
掩膜
光学临近矫正
对象模型
集成电路
Keywords
OPC
Object-based
分类号
TN43 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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职称材料
题名
集成电路光刻过程中的ECO技术
2
作者
张宏博
史峥
机构
浙江大学电气工程学院
出处
《机电工程》
CAS
2007年第12期59-62,共4页
文摘
在现阶段深亚微米化的集成电路产业中,设计与制造已经出现日益严重的脱节,生产加工过程带来的重修正问题使得设计-生产周期大大加长,为了克服这个弊端,随之而来的反馈修正技术(ECO技术)应运而生。以光刻过程中光学临近矫正(OPC)技术所涉及到的反向修正技术为例,介绍了几种目前产业界所主要采用(或即将采用)的方法,并为此提出了几个目前所亟待解决的问题。
关键词
集成电路
反馈修正
光学临近矫正
分辨率增强技术
光刻过程
Keywords
integrated circuit （IC）
engineering change order （ECO）
optical proximity correction （OPC）
resolution enhancementtechnology （RET）
lithography
分类号
TN405 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
对象模型在集成电路掩膜光学临近矫正中的应用
杨长旗
洪先龙
吴为民
蔡懿慈
石蕊
《计算机辅助设计与图形学学报》
EI
CSCD
北大核心
2003
1
在线阅读
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职称材料
2
集成电路光刻过程中的ECO技术
张宏博
史峥
《机电工程》
CAS
2007
0
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职称材料
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