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一种用于光刻模拟的新光源模型
1
作者
李智峰
史峥
陈晔
《江南大学学报（自然科学版）》
CAS
2007年第5期528-531,共4页
讨论提出用连续的光源描述函数代替0～1分布的光源函数精确描述光源光强分布，以提高光刻分辨率．在SPIAT的基础上应用新的光源特征函数，建立新的光源模型，并结合测试模板进行仿真．结果显示，新的模型在精度上有较为明显的改善，新...
讨论提出用连续的光源描述函数代替0～1分布的光源函数精确描述光源光强分布，以提高光刻分辨率．在SPIAT的基础上应用新的光源特征函数，建立新的光源模型，并结合测试模板进行仿真．结果显示，新的模型在精度上有较为明显的改善，新光源特征函数有助于建立更为精确的光刻模型．
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关键词
光刻仿真
光源
光学临近校正
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职称材料
题名
一种用于光刻模拟的新光源模型
1
作者
李智峰
史峥
陈晔
机构
浙江大学超大规模集成电路研究所
出处
《江南大学学报（自然科学版）》
CAS
2007年第5期528-531,共4页
基金
国家自然科学基金项目(60176015)
文摘
讨论提出用连续的光源描述函数代替0～1分布的光源函数精确描述光源光强分布，以提高光刻分辨率．在SPIAT的基础上应用新的光源特征函数，建立新的光源模型，并结合测试模板进行仿真．结果显示，新的模型在精度上有较为明显的改善，新光源特征函数有助于建立更为精确的光刻模型．
关键词
光刻仿真
光源
光学临近校正
Keywords
optical lithography
illumination source
optical proximity correction
分类号
TN491 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
一种用于光刻模拟的新光源模型
李智峰
史峥
陈晔
《江南大学学报（自然科学版）》
CAS
2007
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