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一维光子晶体中的电磁模密度 被引量:8
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作者 陈慰宗 郑新亮 +3 位作者 付灵丽 李绍雄 申影 高平安 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第2期239-243,共5页
阐述了电磁模密度 (EDOM )的概念及其在描述光辐射中的重要作用 .推导了有限大小的均匀介质和一维光子晶体EDOM的解析表达式 ,计算出由λ0 /4薄片构成的一维光子晶体的EDOM ,明显看出一维光子晶体中EDOM受光子带结构调制的现象 ;分析了... 阐述了电磁模密度 (EDOM )的概念及其在描述光辐射中的重要作用 .推导了有限大小的均匀介质和一维光子晶体EDOM的解析表达式 ,计算出由λ0 /4薄片构成的一维光子晶体的EDOM ,明显看出一维光子晶体中EDOM受光子带结构调制的现象 ;分析了在带边缘处EDOM有极大增强的现象 ,其值近似正比于周期数N的平方和两种介质折射率差的平方 ,并用数值计算结果证实了这一特点 . 展开更多
关键词 一维光子晶体 电磁模密度 λ/4薄片堆 光子带边缘
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