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纳米SiO_2改性光固化成型材料的研究
被引量：
15
1
作者
唐富兰
莫健华
薛邵玲
《高分子材料科学与工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2007年第5期210-213,共4页
将改性后的纳米SiO2原位分散到自由基-阳离子混杂型的光敏树脂中,通过黏度测定和SEM观察,发现纳米SiO2在光敏树脂中分散性好。这种改性的光敏树脂应用于光固化成型系统,实验结果表明：改性后的光敏树脂的临界曝光量增大而透射深度变小...
将改性后的纳米SiO2原位分散到自由基-阳离子混杂型的光敏树脂中,通过黏度测定和SEM观察,发现纳米SiO2在光敏树脂中分散性好。这种改性的光敏树脂应用于光固化成型系统,实验结果表明：改性后的光敏树脂的临界曝光量增大而透射深度变小、其成型件的耐热性有所提高;当SiO2含量在1%~2%时,成型件的硬度和弯曲强度有明显的提高。
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关键词
光敏树脂
光固化成型材料
纳米SIO2
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职称材料
题名
纳米SiO_2改性光固化成型材料的研究
被引量：
15
1
作者
唐富兰
莫健华
薛邵玲
机构
华中科技大学塑性成型模拟及模具技术国家重点实验室
广西大学化学化工学院
出处
《高分子材料科学与工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2007年第5期210-213,共4页
基金
湖北省科委重点科技研究基金资助项目(2001P0205)
文摘
将改性后的纳米SiO2原位分散到自由基-阳离子混杂型的光敏树脂中,通过黏度测定和SEM观察,发现纳米SiO2在光敏树脂中分散性好。这种改性的光敏树脂应用于光固化成型系统,实验结果表明：改性后的光敏树脂的临界曝光量增大而透射深度变小、其成型件的耐热性有所提高;当SiO2含量在1%~2%时,成型件的硬度和弯曲强度有明显的提高。
关键词
光敏树脂
光固化成型材料
纳米SIO2
Keywords
photosensitive resin
radiation-curable composition
nano SiO2
分类号
TB383 [一般工业技术—材料科学与工程]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
纳米SiO_2改性光固化成型材料的研究
唐富兰
莫健华
薛邵玲
《高分子材料科学与工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2007
15
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