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位错对n型GaN光助电化学腐蚀的中止作用
1
作者
陈克林
张荣
+6 位作者
王国鹏
俞慧强
顾书林
沈波
施毅
王慧田
郑有
《高技术通讯》
EI
CAS
CSCD
2001年第4期94-95,98,共3页
对用氢化物气相外延 (HVPE)方法生长的n型GaN进行光助电化学 (PEC)腐蚀研究 ,发现了位错中止腐蚀的直接证据 ,并对其机理作了探讨。
关键词
氢化物气相外延
光助电化学腐蚀
位错中止
腐蚀
氮化镓
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职称材料
题名
位错对n型GaN光助电化学腐蚀的中止作用
1
作者
陈克林
张荣
王国鹏
俞慧强
顾书林
沈波
施毅
王慧田
郑有
机构
南京大学物理系固体微结构国家重点实验室
出处
《高技术通讯》
EI
CAS
CSCD
2001年第4期94-95,98,共3页
基金
863计划! ( 863 715 0 0 1 0 2 2 0
863 715 0 11 0 0 3 1
+2 种基金
863 3 0 7 12 3 0 5 )
国家自然科学基金!资助项目 ( 699760 14
698
文摘
对用氢化物气相外延 (HVPE)方法生长的n型GaN进行光助电化学 (PEC)腐蚀研究 ,发现了位错中止腐蚀的直接证据 ,并对其机理作了探讨。
关键词
氢化物气相外延
光助电化学腐蚀
位错中止
腐蚀
氮化镓
Keywords
Hydride vapor phase epitaxy (HVPE), Photoelectrochemical (PEC) etching, Etch stop
分类号
TG172 [金属学及工艺—金属表面处理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
位错对n型GaN光助电化学腐蚀的中止作用
陈克林
张荣
王国鹏
俞慧强
顾书林
沈波
施毅
王慧田
郑有
《高技术通讯》
EI
CAS
CSCD
2001
0
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