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位错对n型GaN光助电化学腐蚀的中止作用
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作者 陈克林 张荣 +6 位作者 王国鹏 俞慧强 顾书林 沈波 施毅 王慧田 郑有 《高技术通讯》 EI CAS CSCD 2001年第4期94-95,98,共3页
对用氢化物气相外延 (HVPE)方法生长的n型GaN进行光助电化学 (PEC)腐蚀研究 ,发现了位错中止腐蚀的直接证据 ,并对其机理作了探讨。
关键词 氢化物气相外延 光助电化学腐蚀 位错中止腐蚀 氮化镓
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