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基于光刻阈值模型的光栅精度预测及补偿
1
作者
任东旭
李彬
孔明旭
《组合机床与自动化加工技术》
北大核心
2020年第7期77-80,共4页
光栅尺制造过程的预测及补偿是提升其精度的主要方法之一。文章提出了一种基于光刻阈值模型的光栅尺精度预测及补偿方法,采用矩形栅距傅里叶基波法,研究光栅尺计算光刻阈值模型及关键参数对光刻精度的影响;通过利用Matlab软件建立计算...
光栅尺制造过程的预测及补偿是提升其精度的主要方法之一。文章提出了一种基于光刻阈值模型的光栅尺精度预测及补偿方法,采用矩形栅距傅里叶基波法,研究光栅尺计算光刻阈值模型及关键参数对光刻精度的影响;通过利用Matlab软件建立计算光刻能量三维模型,对比分析光刻焦平面能量阈值界面,实现光栅尺精度的预测;通过仿真及试验分析焦平面能量幅值、相位参数,关联并调整直线运动系统定位误差、光刻曝光能量相关参数的补偿方法,当阈值平面角度θ=0时,理想状态情况下可以通过直接补偿方式完全补偿,多线均匀化间接补偿可以将光栅条纹误差提高97.3%,为高精度光栅尺的光刻和补偿方法的计算提供了理论依据。
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关键词
光刻阈值模型
傅里叶基波法
光栅尺精度预测
栅距误差补偿
多步重复
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职称材料
用于快速光学邻近校正的可变阈值光刻胶模型
被引量：
1
2
作者
王国雄
史峥
+2 位作者
严晓浪
陈志锦
付萍
《浙江大学学报（工学版）》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002年第6期634-637,684,共5页
提出了用于光刻仿真的建模流程.用高斯滤波器与空间影像进行卷积,得到改进的空间影像来模拟光刻胶的扩散,然后使用可变阈值光刻胶模型,以实际工艺数据拟合该模型参数,再把改进空间影像的相关信息作为输入,并根据可变阈值光刻胶模型所确...
提出了用于光刻仿真的建模流程.用高斯滤波器与空间影像进行卷积,得到改进的空间影像来模拟光刻胶的扩散,然后使用可变阈值光刻胶模型,以实际工艺数据拟合该模型参数,再把改进空间影像的相关信息作为输入,并根据可变阈值光刻胶模型所确定的光强阈值来预测CD(criticaldimension)变化,从而使光刻仿真的结果更精确地附合实际测量数据.由于正确地表征了实际工艺的特性,模拟结果显示,多参数光刻胶模型更适于实际开发的光学邻近校正(opticalproximitycorrection,OPC)仿真工具.
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关键词
光刻
仿真
光学邻近校正
可变
阈值
光刻
胶
模型
集成电路
制造工艺
空间影像
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职称材料
题名
基于光刻阈值模型的光栅精度预测及补偿
1
作者
任东旭
李彬
孔明旭
机构
中原工学院机电学院
出处
《组合机床与自动化加工技术》
北大核心
2020年第7期77-80,共4页
基金
国家自然科学基金(51905558,51975599)
中国纺织工业联合会科技指导项目(2019069)
河南省高等学校重点科研项目(20A460032)。
文摘
光栅尺制造过程的预测及补偿是提升其精度的主要方法之一。文章提出了一种基于光刻阈值模型的光栅尺精度预测及补偿方法,采用矩形栅距傅里叶基波法,研究光栅尺计算光刻阈值模型及关键参数对光刻精度的影响;通过利用Matlab软件建立计算光刻能量三维模型,对比分析光刻焦平面能量阈值界面,实现光栅尺精度的预测;通过仿真及试验分析焦平面能量幅值、相位参数,关联并调整直线运动系统定位误差、光刻曝光能量相关参数的补偿方法,当阈值平面角度θ=0时,理想状态情况下可以通过直接补偿方式完全补偿,多线均匀化间接补偿可以将光栅条纹误差提高97.3%,为高精度光栅尺的光刻和补偿方法的计算提供了理论依据。
关键词
光刻阈值模型
傅里叶基波法
光栅尺精度预测
栅距误差补偿
多步重复
Keywords
photolithography threshold model
fourier fundamental method
linear grating accuracy prediction
pitch error compensation
multi-repeated
分类号
TH162 [机械工程—机械制造及自动化]
TG506 [金属学及工艺—金属切削加工及机床]
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职称材料
题名
用于快速光学邻近校正的可变阈值光刻胶模型
被引量：
1
2
作者
王国雄
史峥
严晓浪
陈志锦
付萍
机构
浙江大学超大规模集成电路设计研究所
华东地质学院信息工程系
出处
《浙江大学学报（工学版）》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002年第6期634-637,684,共5页
基金
国家自然科学基金资助项目(60176015).
文摘
提出了用于光刻仿真的建模流程.用高斯滤波器与空间影像进行卷积,得到改进的空间影像来模拟光刻胶的扩散,然后使用可变阈值光刻胶模型,以实际工艺数据拟合该模型参数,再把改进空间影像的相关信息作为输入,并根据可变阈值光刻胶模型所确定的光强阈值来预测CD(criticaldimension)变化,从而使光刻仿真的结果更精确地附合实际测量数据.由于正确地表征了实际工艺的特性,模拟结果显示,多参数光刻胶模型更适于实际开发的光学邻近校正(opticalproximitycorrection,OPC)仿真工具.
关键词
光刻
仿真
光学邻近校正
可变
阈值
光刻
胶
模型
集成电路
制造工艺
空间影像
Keywords
lithography process simulation
optical proximity correction(OPC)
variable threshold resist model
分类号
TN405.7 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
基于光刻阈值模型的光栅精度预测及补偿
任东旭
李彬
孔明旭
《组合机床与自动化加工技术》
北大核心
2020
0
在线阅读
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职称材料
2
用于快速光学邻近校正的可变阈值光刻胶模型
王国雄
史峥
严晓浪
陈志锦
付萍
《浙江大学学报（工学版）》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002
1
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职称材料
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