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微细加工技术与设备
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《中国光学》 EI CAS 2001年第4期102-103,共2页
TN305.7 20010429500.35μm分步重复投影光刻物镜设计=Design of 0.35μm step-and-repeat projection lighography objective[刊,中]/林妩媚,王效才(中科院光电技术研究所.四川,成都(610209))//光学学报.-2000,20(8).-1148-1150分析了0... TN305.7 20010429500.35μm分步重复投影光刻物镜设计=Design of 0.35μm step-and-repeat projection lighography objective[刊,中]/林妩媚,王效才(中科院光电技术研究所.四川,成都(610209))//光学学报.-2000,20(8).-1148-1150分析了0.35μm分步重复投影光刻物镜的设计要点,包括数值孔径、结构型式的确定、材料的选择。介绍了光刻物镜设计的难点、创新点及设计结果。 展开更多
关键词 微细加工 光刻物镜设计 分步重复投影 设计要点 数值孔径 结构型式 技术与设备 技术研究所 硅微透镜阵列 中科院
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