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政策驱动下中国光刻机技术多元耦合网络涌现机理
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作者 郭本海 顾浩然 +1 位作者 龙卓茜 安文龙 《系统管理学报》 北大核心 2025年第1期152-167,共16页
破解光刻机关键核心技术难题、实现自主可控发展,通过政策驱动产业技术多元耦合网络涌现至关重要。结合相关政策文本划分政策驱动模式,初步构建中国光刻机技术多元耦合理论模型,并以相关专利数据为基础,运用复杂网络中知识流动模型以及... 破解光刻机关键核心技术难题、实现自主可控发展,通过政策驱动产业技术多元耦合网络涌现至关重要。结合相关政策文本划分政策驱动模式,初步构建中国光刻机技术多元耦合理论模型,并以相关专利数据为基础,运用复杂网络中知识流动模型以及网络耦合理论构建多元耦合网络涌现模型,仿真分析不同政策驱动模式下中国光刻机技术多元耦合网络涌现过程,深度解析多元耦合网络涌现机理。结果表明:政策发展进入创新耦合期,光刻机核心技术研发主体在混合驱动模式下与核心企业紧密耦合涌现高耦合度、高知识传递效率的强关系稠密网络特质;配套技术供应方在集群驱动模式下涌现紧密合作网络关系,其合作强度相较于核心技术耦合域与商业导向耦合域更具协同优势;混合驱动模式相较于龙头驱动模式更有利于提高网络耦合度,其中主体创新补贴与网络耦合度呈倒“U”型关系,且在高创新补贴、低协作激励状态下,网络整体耦合程度下降显著。所总结机理对于优化中国光刻机技术突破的顶层设计,进而提升中国关键核心技术自主可控能力具有重要意义。 展开更多
关键词 光刻机技术 政策驱动 多元耦合网络 涌现机理
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Development of the High-performance Synchronous Permanent Magnet Planar Motor and Its Key Technologies
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作者 KOU Baoquan ZHANG Lu +2 位作者 XING Feng LI Liyi ZHANG He 《中国电机工程学报》 EI CSCD 北大核心 2013年第9期I0011-I0011,共1页
Lithography is one of the most important and complicated key equipment for the integr ated circuit man ufacture.The 2一D positioning device is the importan t subsystem of lithography.Compared with conventional 2一D po... Lithography is one of the most important and complicated key equipment for the integr ated circuit man ufacture.The 2一D positioning device is the importan t subsystem of lithography.Compared with conventional 2一D positioning systems with cumbersome stacked arrangement,the 2-D positioning systems with planar motors have received increasing attention recently.Currently,many types of planar motors have been proposed. 展开更多
关键词 synchronous permanent magnet planar motor(SPMPM) lithography equipment two-dimensional planar positioning device development trends
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