一种适用于193nm光刻胶的硫盐光产酸剂的制备与性质 被引量：10

1

作者 王文君 李华民 王力元 《感光科学与光化学》 EI CSCD 2005年第1期48-54,共7页

制备了一种阳离子含有萘基,阴离子分别为对 甲苯磺酸、甲磺酸及三氟甲磺酸的硫盐.它们有高的热解温度和在常用有机溶剂中较好的溶解性.测定了此类光产酸剂在水溶液及聚乙二醇固体膜层中的紫外吸收特性.结果表明,阴离子不含苯基时,在19... 制备了一种阳离子含有萘基,阴离子分别为对 甲苯磺酸、甲磺酸及三氟甲磺酸的硫盐.它们有高的热解温度和在常用有机溶剂中较好的溶解性.测定了此类光产酸剂在水溶液及聚乙二醇固体膜层中的紫外吸收特性.结果表明,阴离子不含苯基时,在193nm处有很好的透明性.考察了其在低压汞灯照射下的光解性质,在254nm附近的吸收峰随光解进行迅速减弱.此类光产酸剂适用于氟化氩激光(193nm)等的化学增幅型光致抗蚀剂. 展开更多

关键词 光产酸剂 光致抗蚀剂 化学增幅 硫鎓盐

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磺酸肟酯类光产酸剂的制备及性能研究

2

作者 解晓艳 庞玉莲 +4 位作者 肖时卓 杨丽 邹应全 陈萍 周树云 《影像科学与光化学》 CAS CSCD 北大核心 2013年第4期305-315,共11页

本文合成了4种磺酸肟酯类非离子型光产酸剂,用核磁氢谱确认了产物结构,并测试了其热稳定性、紫外吸收特性及产酸效率.结果表明,合成的4种磺酸肟酯类光产酸剂在350—450nm和深紫外区(DUV,248nm)都有很好的吸收,在420nm波段曝光下,(5-对... 本文合成了4种磺酸肟酯类非离子型光产酸剂,用核磁氢谱确认了产物结构,并测试了其热稳定性、紫外吸收特性及产酸效率.结果表明,合成的4种磺酸肟酯类光产酸剂在350—450nm和深紫外区(DUV,248nm)都有很好的吸收,在420nm波段曝光下,(5-对三氟甲基苯磺酸酯亚胺-5H-噻吩-2-亚胺)-苯乙腈(P-2)产酸率最高,可达0.96;(5-对甲基苯磺酸酯亚胺-5H-噻吩-2-亚胺)-苯乙腈(P-1)在365nm和420nm两个波段下,均有较高的产酸率.利用实时红外(RT-IR)研究了相同浓度下4种光产酸剂对乙烯基醚化合物引发的光聚合动力学,同时研究了光产酸剂浓度对光聚合反应的影响,发现产酸剂浓度为2%时,光照30s乙烯基醚化合物的双键转化率(DC%)即能达到80%. 展开更多

关键词 非离子型光产酸剂 磺酸肟酯 产酸率 实时红外

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共价键合光致产酸剂的单分子树脂光刻胶:合成及光刻性能 被引量：2

3

作者 张卫杰 陈金平 +2 位作者 于天君 曾毅 李嫕 《影像科学与光化学》 CAS 北大核心 2022年第2期211-219,共9页

设计合成了一种共价键合光致产酸剂(PAG)的单分子树脂(molecular glass)材料HPS-MSF,该材料具有良好的热稳定性和成膜性。以该单分子树脂为主体材料,四甲氧基甲基甘脲(TMMGU)为交联剂进行配方,制备得到负型单分子树脂光刻胶。通过254 n... 设计合成了一种共价键合光致产酸剂(PAG)的单分子树脂(molecular glass)材料HPS-MSF,该材料具有良好的热稳定性和成膜性。以该单分子树脂为主体材料,四甲氧基甲基甘脲(TMMGU)为交联剂进行配方,制备得到负型单分子树脂光刻胶。通过254 nm紫外曝光初步研究了光刻胶的配方、后烘及显影条件。进一步利用电子束光刻对该负型光刻胶进行评价,当TMMGU添加量为15%或30%时,在曝光剂量分别为140μC/cm^(2)和110μC/cm^(2)时,均可以得到线宽为150 nm,周期300 nm的光刻条纹。 展开更多

关键词 单分子树脂 光刻胶 电子束光刻 光致产酸剂

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一种新型深紫外正型光致抗蚀剂材料的研究 被引量：2

4

作者 褚战星 程龙 +1 位作者 王文君 王力元 《感光科学与光化学》 EI CSCD 2006年第5期377-381,共5页

通过松香酸和丙烯酸的Diels-Alder反应得到了一种二酸———丙烯海松酸.丙烯海松酸有大的脂环结构和良好的成膜性,在固体膜层中,它可以和二乙烯基醚,如1,3-二乙烯氧基乙氧基苯,在加热条件下(80℃以上)发生反应,产物在稀碱水中难溶.这样... 通过松香酸和丙烯酸的Diels-Alder反应得到了一种二酸———丙烯海松酸.丙烯海松酸有大的脂环结构和良好的成膜性,在固体膜层中,它可以和二乙烯基醚,如1,3-二乙烯氧基乙氧基苯,在加热条件下(80℃以上)发生反应,产物在稀碱水中难溶.这样形成的产物在光产酸剂产生的强酸催化下,在温度高于100℃时,可以迅速分解,从而变成稀碱水易溶.因此,用此二酸、二乙烯基醚和产酸剂可组成一种正型的光致抗蚀剂,当用254 nm的低压汞灯曝光时,其感度在30 mJ/cm2以下. 展开更多

关键词 正型光致抗蚀剂 二乙烯基醚 丙烯海松酸 光产酸剂

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单组分化学增幅型光致抗蚀剂LB膜的制备及光刻应用 被引量：1

5

作者 王筠 杨志广 +1 位作者 杨欢欢 李铁生 《化工新型材料》 CAS CSCD 北大核心 2015年第8期228-230,共3页

合成了光致产酸剂N-对甲苯磺酸酯马来酰亚胺(TsOMI),及其与十二烷基甲基丙烯酰胺(DDMA)、对叔丁氧基苯乙烯碳酸酯(t-BOCSt)聚合得到三元共聚物。研究了该聚合物分子在气/液界面的成膜性,LB膜的光敏性和光刻性能。结果表明:该聚合物分子... 合成了光致产酸剂N-对甲苯磺酸酯马来酰亚胺(TsOMI),及其与十二烷基甲基丙烯酰胺(DDMA)、对叔丁氧基苯乙烯碳酸酯(t-BOCSt)聚合得到三元共聚物。研究了该聚合物分子在气/液界面的成膜性,LB膜的光敏性和光刻性能。结果表明:该聚合物分子可在不同材质的基板上制备规整均匀的LB膜,在250nm紫外光照下,LB膜表现出化学增幅作用。以40层该聚合物LB膜为抗蚀层,经紫外曝光20min、显影10s后可得到分辨率为0.75μm(该掩膜所能达到的最大分辨率)的正型LB膜图形,进一步刻蚀得到分辨率为0.75μm的金膜图形。 展开更多

关键词 光致产酸剂 化学增幅 LB膜技术 光刻

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1-取代-顺式-1,2-环己二醇单磺酸酯类酸增殖剂的合成和性质研究

6

作者 盛丽英 张颂培 王力元 《感光科学与光化学》 CSCD 2005年第5期389-393,共5页

用过氧化氢氧化烯烃得到顺式邻环己二醇,继而和对甲苯磺酰氯反应得到两种1-取代-顺式-1,2-环己二醇单磺酸酯.以溴酚兰作指示剂,用作者自己的方法定量测定了它们在聚乙二醇膜层中的酸解性能.结果表明,在光产酸剂所产酸作用下,在加热条件... 用过氧化氢氧化烯烃得到顺式邻环己二醇,继而和对甲苯磺酰氯反应得到两种1-取代-顺式-1,2-环己二醇单磺酸酯.以溴酚兰作指示剂,用作者自己的方法定量测定了它们在聚乙二醇膜层中的酸解性能.结果表明,在光产酸剂所产酸作用下,在加热条件下这些化合物发生分解并产酸.这两个磺酸酯的储存稳定性不是很好,在极性溶剂作用下易分解,限制了它们在化学增幅型成像材料中的应用. 展开更多

关键词 酸增殖剂 光产酸剂 光致抗蚀剂 磺酸酯

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新型噻蒽硫鎓盐类光致产酸剂的合成及性能

7

作者 张真超 金岩 冯柏成 《青岛科技大学学报(自然科学版)》 2025年第2期38-45,共8页

以噻蒽和三氟甲烷磺酸酐为原料,合成了一种新型的硫鎓盐类光致产酸剂5-三氟甲基-噻蒽三氟甲磺酸盐,并通过^(1)H NMR、^(13)C NMR、^(19)F NMR和熔点对产品结构进行了表征。对该光致产酸剂的溶解性、热稳定性、紫外吸收、分解和产酸量子... 以噻蒽和三氟甲烷磺酸酐为原料,合成了一种新型的硫鎓盐类光致产酸剂5-三氟甲基-噻蒽三氟甲磺酸盐,并通过^(1)H NMR、^(13)C NMR、^(19)F NMR和熔点对产品结构进行了表征。对该光致产酸剂的溶解性、热稳定性、紫外吸收、分解和产酸量子产率进行评测,结果表明该产酸剂在各常用涂布溶剂中溶解度均较好,更易溶于极性溶剂,2%质量分数的分解温度超过了150℃,在193、248和365 nm的处的ε值均较高,分解和产酸量子产率分别可达0.34和0.32。各项性能与主流365 nm产酸剂N-羟基-1,8-萘酰亚胺三氟甲磺酸盐相比,该新型硫鎓盐类光致产酸剂的整体性能更为优秀,对光子的利用和转化能力更高,是少有的能够在300 nm以上波长下应用的鎓盐类产酸剂,且具备转化为其他新型产酸剂的巨大潜力,是一款性能优异、应用广泛的光致产酸剂,在光刻胶领域具有较高的开发和应用价值。 展开更多

关键词 硫鎓盐 噻蒽 光致产酸剂 产酸性能 光刻胶

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248nm深紫外光刻胶 被引量：9

8

作者 郑金红 黄志齐 侯宏森 《感光科学与光化学》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2003年第5期346-356,共11页

本文从化学增幅技术的产生,深紫外248nm胶主体树脂及PAG发展历程、溶解抑制剂、存在的工艺问题及解决途径多个方面综述了深紫外248nm胶的发展与进步.

关键词 化学增幅 KRF激光 深紫外光刻 248 nm光刻胶 主体树脂 酸催化 光致产酸剂

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193nm光刻胶的研制 被引量：5

9

作者 郑金红 黄志齐 +5 位作者 陈昕 焦小明 杨澜 文武 高子奇 王艳梅 《感光科学与光化学》 CSCD 2005年第4期300-311,共12页

从主体树脂的结构设计、单体的合成工艺、主体树脂的合成工艺、光致产酸剂的评价、配方研究等多个方面论述了193nm光刻胶的研制工艺,合成出了多种适用的单体及多种结构的主体树脂,进行了大量的配方研究,筛选出了最佳配方.研制出的样品... 从主体树脂的结构设计、单体的合成工艺、主体树脂的合成工艺、光致产酸剂的评价、配方研究等多个方面论述了193nm光刻胶的研制工艺,合成出了多种适用的单体及多种结构的主体树脂,进行了大量的配方研究,筛选出了最佳配方.研制出的样品经美国SEMATECH实验室应用评价其最佳分辨率为0.1μm,最小曝光量为26mJ/cm2,不但具有优异的分辨率和光敏性,而且还具有良好的粘附性和抗干法腐蚀性. 展开更多

关键词 193nm 光刻胶 单体 主体树脂 光致产酸剂 配方

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用于浸没式工艺的光刻胶研究进展 被引量：2

10

作者 何鉴 盛瑞隆 穆启道 《影像科学与光化学》 CAS CSCD 北大核心 2009年第5期379-390,共12页

浸没式光刻技术是在原干法光刻的基础上采用高折射率浸没液体取代原来空气的空间,从而提高光刻分辨率的一种先进技术.此项技术的实际应用,为当前IC产业的飞速发展起到了关键的作用.本文概述了浸没式光刻技术的发展历程和浸没式光刻胶遇... 浸没式光刻技术是在原干法光刻的基础上采用高折射率浸没液体取代原来空气的空间,从而提高光刻分辨率的一种先进技术.此项技术的实际应用,为当前IC产业的飞速发展起到了关键的作用.本文概述了浸没式光刻技术的发展历程和浸没式光刻胶遇到的挑战及要求;对浸没式光刻胶主体树脂、光致产酸剂及添加剂的研究进展进行了综述;最后对浸没式光刻胶的研究发展方向作了进一步的探讨及初步预测. 展开更多

关键词 浸没式光刻 光刻胶 主体树脂 光致产酸剂

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193nm化学放大光刻胶研究进展 被引量：5

11

作者 李小欧 顾雪松 +1 位作者 刘亚栋 季生象 《应用化学》 CAS CSCD 北大核心 2021年第9期1105-1118,共14页

193 nm光刻胶主要有化学/非化学放大、分子玻璃和无机-有机杂化等类型。目前,商业化193 nm光刻胶基本为化学放大型,主要成分包括聚合物树脂、光致产酸剂、添加剂(碱性添加剂、溶解抑制剂等)和溶剂等。本文从光刻胶的成分出发介绍193 nm... 193 nm光刻胶主要有化学/非化学放大、分子玻璃和无机-有机杂化等类型。目前,商业化193 nm光刻胶基本为化学放大型,主要成分包括聚合物树脂、光致产酸剂、添加剂(碱性添加剂、溶解抑制剂等)和溶剂等。本文从光刻胶的成分出发介绍193 nm化学放大胶的研究进展,概述目前应用及研究中出现的代表性193 nm化学放大胶,总结其优缺点及未来可能的发展方向。 展开更多

关键词 化学放大胶 聚合物树脂 光致产酸剂 碱性添加剂 溶解抑制剂

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非离子型紫外光敏树脂合成与性能研究

12

作者 汪霞 谭俊玉 +2 位作者 马国庆 艾照全 王彩霞 《胶体与聚合物》 2022年第3期122-125,共4页

通过Wittig反应合成带双键的非离子型产酸单体,将其与甲基丙烯酸叔丁酯在四氢呋喃中回流共聚,以偶氮二异丁腈作为引发剂,制得非离子型紫外光敏树脂。通过红外光谱、核磁和热重分析对光敏树脂的结构与性能进行表征。同时研究了引发剂种... 通过Wittig反应合成带双键的非离子型产酸单体,将其与甲基丙烯酸叔丁酯在四氢呋喃中回流共聚,以偶氮二异丁腈作为引发剂,制得非离子型紫外光敏树脂。通过红外光谱、核磁和热重分析对光敏树脂的结构与性能进行表征。同时研究了引发剂种类和用量对光敏树脂的分子量和分子量分布的影响。 展开更多

关键词 光敏树脂 光致产酸剂 甲基丙烯酸叔丁酯

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