期刊导航
期刊开放获取
上海教育软件发展有限公..
期刊文献
+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
检索
高级检索
期刊导航
共找到
1
篇文章
<
1
>
每页显示
20
50
100
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
显示方式：
文摘
详细
列表
相关度排序
被引量排序
时效性排序
光学元件聚氨酯抛光特性研究
被引量：
7
1
作者
李亚国
王健
+3 位作者
许乔
杨炜
周治鑫
郭隐彪
《光电工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008年第11期139-144,共6页
本文研究了应用于平面光学元件的快速抛光技术,从材料去除率、元件面形和表面粗糙度出发,对快速抛光技术应用于平面大口径元件的加工效果进行了探讨。研究了在快速抛光技术中压力和主轴转速对材料去除率的影响,验证了Preston公式在快速...
本文研究了应用于平面光学元件的快速抛光技术,从材料去除率、元件面形和表面粗糙度出发,对快速抛光技术应用于平面大口径元件的加工效果进行了探讨。研究了在快速抛光技术中压力和主轴转速对材料去除率的影响,验证了Preston公式在快速抛光中的适用性,快速抛光技术的去除效率可达10μm/h;其次,研究了聚氨酯抛光元件面形的精度,对于330mm×330mm元件可达～1.0λ(λ=632.8nm);最后,对快速抛光系统中抛光粉颗粒大小及形态随使用时间的变化进行了观测,并测量了使用300目和500目抛光粉时快速抛光元件表面粗糙度以及其随抛光粉使用时间的变化。
展开更多
关键词
聚氨酯
材料去除率
元件表面面形
表面
粗糙度
在线阅读
下载PDF
职称材料
题名
光学元件聚氨酯抛光特性研究
被引量：
7
1
作者
李亚国
王健
许乔
杨炜
周治鑫
郭隐彪
机构
成都精密光学工程研究中心
厦门大学机电工程系
出处
《光电工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008年第11期139-144,共6页
基金
国家高技术研究发展计划863-804项目资助
文摘
本文研究了应用于平面光学元件的快速抛光技术,从材料去除率、元件面形和表面粗糙度出发,对快速抛光技术应用于平面大口径元件的加工效果进行了探讨。研究了在快速抛光技术中压力和主轴转速对材料去除率的影响,验证了Preston公式在快速抛光中的适用性,快速抛光技术的去除效率可达10μm/h;其次,研究了聚氨酯抛光元件面形的精度,对于330mm×330mm元件可达～1.0λ(λ=632.8nm);最后,对快速抛光系统中抛光粉颗粒大小及形态随使用时间的变化进行了观测,并测量了使用300目和500目抛光粉时快速抛光元件表面粗糙度以及其随抛光粉使用时间的变化。
关键词
聚氨酯
材料去除率
元件表面面形
表面
粗糙度
Keywords
polyurethane
material removal rate
surface form
surface roughness
分类号
TQ171.734 [化学工程—玻璃工业]
在线阅读
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
光学元件聚氨酯抛光特性研究
李亚国
王健
许乔
杨炜
周治鑫
郭隐彪
《光电工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008
7
在线阅读
下载PDF
职称材料
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
上一页
1
下一页
到第
页
确定
用户登录
登录
IP登录
使用帮助
返回顶部
