|
1
|
光化学气相淀积氮化硅的工艺及其应用研究——(Ⅰ)光化学气相淀积氧化硅的工艺研究 |
汪师俊
蔡琪玉
沈天慧
|
《微电子学与计算机》
CSCD
北大核心
|
1993 |
1
|
|
|
2
|
低压化学气相淀积低应力氮化硅工艺研究 |
王敬轩
商庆杰
杨志
|
《电子与封装》
|
2021 |
4
|
|
|
3
|
光化学气相淀积氮化硅的工艺及其应用研究——(Ⅲ)光CVD氮化硅薄膜应用于提高器件可靠性 |
汪师俊
蔡琪玉
沈天慧
|
《微电子学与计算机》
CSCD
北大核心
|
1993 |
0 |
|
|
4
|
光化学气相淀积氮化硅的工艺及其应用研究——Ⅱ光化学气相淀积氮化硅膜的性质 |
汪师俊
蔡琪玉
沈天慧
|
《微电子学与计算机》
CSCD
北大核心
|
1993 |
0 |
|
|
5
|
化学气相淀积法合成氮化铝薄膜及其工艺设计 |
谢松
刘希
孟广耀
|
《高等学校化学学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
|
1996 |
1
|
|
|
6
|
化学气相淀积反应器中超细粒子的形态控制 Ⅰ.TiO_2超细粒子的制备 |
胡黎明
李春忠
姚光辉
陈敏恒
|
《华东化工学院学报》
CSCD
|
1992 |
7
|
|
|
7
|
高频等离子体化学气相淀积法制备TiO_2超细粒子 |
朱宏杰
王新
李春忠
胡黎明
|
《华东理工大学学报（自然科学版）》
CAS
CSCD
|
1994 |
8
|
|
|
8
|
化学气相淀积反应器内TiCl_4氧化反应动力学 |
王松
胡黎明
郑柏存
古宏晨
|
《华东化工学院学报》
CSCD
|
1992 |
5
|
|
|
9
|
TiCl_4-O_2-H_2O体系化学气相淀积TiO_2超细粒子 |
姚光辉
李春忠
胡黎明
|
《华东化工学院学报》
CSCD
|
1992 |
7
|
|
|
10
|
淀积参数对PECVD氮化硅薄膜力学特性的影响 |
王小飞
韩建强
宋美绚
严天宏
|
《微纳电子技术》
CAS
北大核心
|
2011 |
2
|
|
|
11
|
氯参与的化学气相淀积金刚石的热力学分析 |
刘志杰
张卫
张剑云
万永中
王季陶
曹传宝
朱鹤孙
|
《高等学校化学学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
|
1999 |
1
|
|
|
12
|
化学气相淀积在无机新材料制备中的应用 |
郭新
袁润章
|
《材料科学与工程》
CSCD
|
1994 |
13
|
|
|
13
|
弛豫锗硅减压化学气相淀积的CFD模型及仿真 |
戴显英
郑若川
郭静静
张鹤鸣
郝跃
邵晨峰
吉瑶
杨程
|
《西安电子科技大学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
|
2012 |
1
|
|
|
14
|
化学气相淀积反应器中超细粒子的形态控制 Ⅲ.TiO_2超细粒子晶体组成 |
胡黎明
古宏晨
李春忠
陈敏恒
|
《华东化工学院学报》
CSCD
|
1992 |
2
|
|
|
15
|
SnO_2薄膜的化学气相淀积 Ⅰ.SnO_2薄膜的制备过程动力学 |
姚光辉
韩杰
袁渭康
|
《华东化工学院学报》
CSCD
|
1990 |
3
|
|
|
16
|
卤素原子在化学气相淀积金刚石薄膜过程中的作用 |
刘志杰
张卫
万永中
王季陶
|
《高技术通讯》
EI
CAS
CSCD
|
1998 |
1
|
|
|
17
|
AlCl_3-NH_3-N_2体系化学气相淀积AIN超细粒子 Ⅱ.AIN的粒度及分布模型 |
李春忠
姚光辉
胡黎明
袁渭康
陈敏恒
|
《华东化工学院学报》
CSCD
|
1992 |
1
|
|
|
18
|
Al-Cl-N-H体系化学气相淀积AIN粉末的热力学研究 |
李春忠
胡黎明
姚光辉
袁渭康
陈敏恒
|
《华东化工学院学报》
CSCD
|
1992 |
1
|
|
|
19
|
化学气相淀积在集成电路制造后段工艺中的应用 |
易万兵
涂瑞能
张炳一
吴谨
毛杜立
邹世昌
|
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
|
2005 |
1
|
|
|
20
|
光加热低压金属有机化学气相淀积生长AlGaN |
周玉刚
李卫平
沈波
陈鹏
陈志忠
臧岚
张荣
顾书林
施毅
郑有翀
|
《高技术通讯》
EI
CAS
CSCD
|
2000 |
0 |
|
