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偏离最佳条件的基于模型的光学邻近效应修正
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作者 陆梅君 金晓亮 +1 位作者 毛智彪 梁强 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2006年第9期673-675,679,共4页
提出了一种新型的与制程窗口紧密相关,被称为偏离最佳条件的基于模型的光学邻近效应模型,该模型包含制程参数变化的信息。该模型引导得到的修正的图形在工艺参数变化时也会表现得非常稳定,而且相对标准模型而言,缩短了建立模型的周期,... 提出了一种新型的与制程窗口紧密相关,被称为偏离最佳条件的基于模型的光学邻近效应模型,该模型包含制程参数变化的信息。该模型引导得到的修正的图形在工艺参数变化时也会表现得非常稳定,而且相对标准模型而言,缩短了建立模型的周期,节省了光罩出版的时间。 展开更多
关键词 偏离最佳 光学邻近效应 制程窗口
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