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缓冲层对LBO晶体上1064nm,532nm二倍频增透膜的激光损伤阈值的影响被引量：2: 1; 作者谭天亚于撼江 +3 位作者吴炜郭永新范正修邵建达《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第10期2613-2617,共5页; 采用电子束蒸发方法在LBO晶体上制备了无缓冲层和具有不同缓冲层的1064nm,532nm二倍频增透膜.利用Lambda900分光光度计和调Q脉冲激光装置对样品的光学性能和抗激光损伤性能进行了测试分析.结果表明,所有样品在1064nm和532nm波长的剩余... 展开更多; 关键词光学薄膜二倍频增透膜 LBO晶体激光损伤阈值缓冲层; 在线阅读下载PDF 职称材料

SiO_2内保护层对LiB_3O_5晶体倍频增透膜损伤阈值的影响被引量：2: 2; 作者于爱芳范飞镝 +2 位作者刘中星朱镛陈创天《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第4期603-606,共4页; 利用离子辅助电子束沉积方法在LiB3O5基底上镀制了不加SiO2内保护层和加SiO2内保护层的倍频增透膜,测量了两类薄膜在波长1064 nm多脉冲辐照下的激光损伤阈值,获得了两种不同的损伤形貌,并对损伤原因作了初步探讨。实验结果表明:保护层... 展开更多; 关键词 LiB3O5 SiO2内保护层倍频增透膜激光损伤阈值损伤形貌; 在线阅读下载PDF 职称材料

LiB_3O_5晶体946nm,473nm倍频增透膜的研制被引量：1: 3; 作者于爱芳范飞镝 +2 位作者刘中星朱镛陈创天《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第5期917-921,共5页; 采用离子辅助沉积技术在L iB3O5晶体上制备了946nm,473nm倍频增透膜,并测量了薄膜的性质。测试结果表明,该增透膜具有较低的剩余反射、高的环境稳定性和良好的附着力。进一步测量了薄膜在波长1064nm多脉冲辐照下的激光损伤阈值,获得了... 展开更多; 关键词 LiB3O5 晶体倍频增透膜离子辅助沉积附着力激光损伤阈值蓝色激光器; 在线阅读下载PDF 职称材料

LiB3O5晶体上四倍频增透膜设计: 4; 作者谭天亚邵建达 +3 位作者范正修吴炜郭永新韩宇《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第6期1169-1174,共6页; 采用矢量法设计了三硼酸锂(LiB3O5,LBO)晶体上1064nm、532nm、355nm和266nm四倍频增透膜.结果表明,在1064nm、532nm、355nm和266nm波长的剩余反射率分别为0.0019%、0.0031%、0.0061%和0.0047%.根据容差分析,薄膜制备时沉积速率准确度控... 展开更多; 关键词光学薄膜四倍频增透膜矢量法 LBO晶体容差分析; 在线阅读下载PDF 职称材料

β-BBO基ZrO_2/SiO_2倍频增透膜的结构和成分对光学性能的影响: 5; 作者陈长琦鲁嘉 +3 位作者方应翠王君李万福周瑞《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第6期413-417,430,共6页; 利用Macload软件对四层ZrO2/SiO2膜系进行优化设计,以β-偏硼酸钡晶体(-βBaB2O4)为基底,采用电子束蒸发方法、离子束辅助沉积技术和真空退火处理,制备出ZrO2/SiO2非规整倍频增透膜,其在波长532 nm和1064 nm处反射率小于0.35%和透射率高... 展开更多; 关键词 ZrO2/SiO2非规整倍频增透膜光学性能电子束蒸发离子束辅助沉积技术真空退火; 在线阅读下载PDF 职称材料

LBO晶体上1064,532nm倍频增透膜的镀制及性能分析被引量：8: 6; 作者邓震霞贺洪波 +3 位作者宋永香杨燕静范正修邵建达《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第8期1325-1328,共4页; 用电子束蒸发沉积方法在X切LBO(X-LBO)晶体上镀制了两种不同膜系结构的1 064和532nm倍频增透膜,其中一种膜系结构为基底/ZrO2/Y2O3/Al2O3/SiO2/空气,另一种为基底/0.5Al2O3/ZrO2/Y2O3/Al2O3/SiO2/空气,两种膜系结构的主要差别在于有无... 展开更多; 关键词薄膜 LBO晶体倍频增透膜过渡层退火热应力热膨胀系数; 在线阅读下载PDF 职称材料

缓冲层对LBO晶体上1064nm,532nm增透膜附着力的影响被引量：3: 7; 作者谭天亚吴炜 +2 位作者郭永新邵建达范正修《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第9期1343-1346,共4页; 采用电子束蒸发方法在LBO晶体上制备了无缓冲层和具有不同缓冲层的1064 nm,532 nm二倍频增透膜。利用分光光度计、纳米力学综合测试系统以及调Q脉冲激光装置对样品的光学性能、附着力以及抗激光损伤性能进行了测试分析。结果表明:所有... 展开更多; 关键词二倍频增透膜 LBO晶体附着力缓冲层; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名缓冲层对LBO晶体上1064nm,532nm二倍频增透膜的激光损伤阈值的影响被引量：2: 1; 作者谭天亚于撼江吴炜郭永新范正修邵建达; 机构辽宁大学物理学院沈阳市光电子功能器件与检测技术重点实验室中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜技术研发中心; 出处《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第10期2613-2617,共5页; 基金沈阳市科学技术计划项目(1071115-1-00) 辽宁省教育厅科研项目(2008224) 辽宁省科技厅科研项目(20081030)资助; 文摘采用电子束蒸发方法在LBO晶体上制备了无缓冲层和具有不同缓冲层的1064nm,532nm二倍频增透膜.利用Lambda900分光光度计和调Q脉冲激光装置对样品的光学性能和抗激光损伤性能进行了测试分析.结果表明,所有样品在1064nm和532nm波长的剩余反射率都分别小于0.1%和0.2%.与无缓冲层样品相比,采用SiO2和MgF2缓冲层薄膜的激光损伤阈值分别提高了23.1%和25.8%,而Al2O3缓冲层的插入却导致薄膜的激光损伤阈值降低.通过观察薄膜的激光损伤形貌,分析破斑的深度信息和电场分布,表明LBO晶体上1064nm,532nm二倍频增透膜的激光损伤破坏主要表现为膜层剥落,激光产生的热冲击应力使薄膜应力发生很大变化,超过膜层之间的结合而引起膜层之间的分离.采用SiO2或MgF2缓冲层可改进Al2O3膜层的质量,从而有利于提高薄膜的激光损伤阈值.; 关键词光学薄膜二倍频增透膜 LBO晶体激光损伤阈值缓冲层; Keywords Optical thin films Frequency-doubled antireflection coating i LBO crystal Laser-induced damage threshold Buffer layer; 分类号 O484.41 [理学—固体物理]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名SiO_2内保护层对LiB_3O_5晶体倍频增透膜损伤阈值的影响被引量：2: 2; 作者于爱芳范飞镝刘中星朱镛陈创天; 机构中国科学院理化技术研究所人工晶体研究与发展中心; 出处《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第4期603-606,共4页; 基金国家863计划项目资助课题; 文摘利用离子辅助电子束沉积方法在LiB3O5基底上镀制了不加SiO2内保护层和加SiO2内保护层的倍频增透膜,测量了两类薄膜在波长1064 nm多脉冲辐照下的激光损伤阈值,获得了两种不同的损伤形貌,并对损伤原因作了初步探讨。实验结果表明:保护层的加入把由基底膜层界面缺陷吸收所决定的阈值改变到由HfO2膜层内缺陷吸收所决定的阈值,显著提高了倍频增透膜的抗激光损伤能力。; 关键词 LiB3O5 SiO2内保护层倍频增透膜激光损伤阈值损伤形貌; Keywords LiB3O5 crystal SiO2 barrier layer Second harmonics antireflection coating Laser induced damage threshold（LIDT） Damage morphology; 分类号 TB43 [一般工业技术] O484.4 [理学—固体物理]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名LiB_3O_5晶体946nm,473nm倍频增透膜的研制被引量：1: 3; 作者于爱芳范飞镝刘中星朱镛陈创天; 机构中国科学院理化技术研究所人工晶体研究与发展中心; 出处《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第5期917-921,共5页; 基金 863项目(No.2002AA311050)资助; 文摘采用离子辅助沉积技术在L iB3O5晶体上制备了946nm,473nm倍频增透膜,并测量了薄膜的性质。测试结果表明,该增透膜具有较低的剩余反射、高的环境稳定性和良好的附着力。进一步测量了薄膜在波长1064nm多脉冲辐照下的激光损伤阈值,获得了两种不同的损伤形貌,并对损伤原因作了初步的探讨。此工艺下镀制的L iB3O5晶体用于瓦级全固态蓝光激光器,获得了3.8W波长为473nm的连续蓝光输出。; 关键词 LiB3O5 晶体倍频增透膜离子辅助沉积附着力激光损伤阈值蓝色激光器; Keywords LiB3O5 crystal frequency doubling antireflection coating ion assisted deposition adhesion laser damage threshold blue laser; 分类号 O78 [理学—晶体学]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名LiB3O5晶体上四倍频增透膜设计: 4; 作者谭天亚邵建达范正修吴炜郭永新韩宇; 机构辽宁大学物理系中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜技术研发中心; 出处《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第6期1169-1174,共6页; 基金沈阳市科学技术计划项目(1071115-1-00)资助; 文摘采用矢量法设计了三硼酸锂(LiB3O5,LBO)晶体上1064nm、532nm、355nm和266nm四倍频增透膜.结果表明,在1064nm、532nm、355nm和266nm波长的剩余反射率分别为0.0019%、0.0031%、0.0061%和0.0047%.根据容差分析,薄膜制备时沉积速率准确度控制在+6.5%时,基频、二倍频、三倍频和四倍频波长的剩余反射率分别增加至0.24%、0.92%、2.38%和4.37%.当薄膜材料折射率的变化控制在+3%时,1064nm波长的剩余反射率增大为0.18%,532nm、355nm和266nm波长分别达0.61%,0.59%,0.20%.与薄膜物理厚度相比,膜层折射率对剩余反射率的影响大.对膜系敏感层的分析表明,在1064nm和266nm波长,从入射介质向基底过渡的第二层膜厚度变化对剩余反射率的影响最大,其次是第一膜层.在532nm和355nm波长,从入射介质向基底过渡的第一和第四膜层是该膜系的敏感层.误差分析也表明,薄膜材料的色散对特定波长的剩余反射率具有明显影响,即1064nm、532nm、355nm和266nm波长的剩余反射率分别增加至0.30%、0.23%、0.58%和3.13%.; 关键词光学薄膜四倍频增透膜矢量法 LBO晶体容差分析; Keywords Optical thin film Frequency-quadrupled antireflection coating Vector method LBO crystal Tolerance analysis; 分类号 O484 [理学—固体物理]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名β-BBO基ZrO_2/SiO_2倍频增透膜的结构和成分对光学性能的影响: 5; 作者陈长琦鲁嘉方应翠王君李万福周瑞; 机构合肥工业大学合肥普乐光技术有限公司; 出处《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第6期413-417,430,共6页; 文摘利用Macload软件对四层ZrO2/SiO2膜系进行优化设计,以β-偏硼酸钡晶体(-βBaB2O4)为基底,采用电子束蒸发方法、离子束辅助沉积技术和真空退火处理,制备出ZrO2/SiO2非规整倍频增透膜,其在波长532 nm和1064 nm处反射率小于0.35%和透射率高于90%,与软件设计膜系得到的理论值相一致。研究结果表明薄膜的填隙密度越高,致密度越好,其光学性能也越好。; 关键词 ZrO2/SiO2非规整倍频增透膜光学性能电子束蒸发离子束辅助沉积技术真空退火; Keywords ZrO2/SiO2 second harmonics anti-reflection films, Optical property, E-beam evaporation, Assistance ionbeam depisition technology, Vacuum anneal; 分类号 TB321 [一般工业技术—材料科学与工程] O484.41 [理学—固体物理]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名LBO晶体上1064,532nm倍频增透膜的镀制及性能分析被引量：8: 6; 作者邓震霞贺洪波宋永香杨燕静范正修邵建达; 机构中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜技术研究与发展中心; 出处《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第8期1325-1328,共4页; 文摘用电子束蒸发沉积方法在X切LBO(X-LBO)晶体上镀制了两种不同膜系结构的1 064和532nm倍频增透膜,其中一种膜系结构为基底/ZrO2/Y2O3/Al2O3/SiO2/空气,另一种为基底/0.5Al2O3/ZrO2/Y2O3/Al2O3/SiO2/空气,两种膜系结构的主要差别在于有无氧化铝过渡层。测量了薄膜的反射率光谱曲线,发现两种增透膜在1 064和532 nm处的反射率均小于0.5%,实际镀制结果与理论设计曲线的差异主要是由材料折射率的变化引起的。且对样品在空气环境中进行了温度为473 K的退火处理,结果发现两种膜系结构均表现了较优异的光学性能,氧化铝过渡层的加入使薄膜具有强的热应力性能。; 关键词薄膜 LBO晶体倍频增透膜过渡层退火热应力热膨胀系数; Keywords Thin film LBO crystal Frequency-doubled antireflection coating Interlayer Annealing Thermalstress Thermal expansion coefficient; 分类号 O484.4 [理学—固体物理]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名缓冲层对LBO晶体上1064nm,532nm增透膜附着力的影响被引量：3: 7; 作者谭天亚吴炜郭永新邵建达范正修; 机构辽宁大学物理学院沈阳市光电子功能器件与检测技术重点实验室中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜技术研发中心; 出处《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第9期1343-1346,共4页; 基金沈阳市科技计划项目(1071115-1-00) 辽宁省教育厅科研计划项目(2008224) 辽宁省科技厅科研计划项目(20081030); 文摘采用电子束蒸发方法在LBO晶体上制备了无缓冲层和具有不同缓冲层的1064 nm,532 nm二倍频增透膜。利用分光光度计、纳米力学综合测试系统以及调Q脉冲激光装置对样品的光学性能、附着力以及抗激光损伤性能进行了测试分析。结果表明:所有样品在1064 nm和532 nm波长的剩余反射率都分别小于0.1%和0.2%;与无缓冲层样品相比,预镀Al2O3缓冲层样品的附着力提高了43.1%,具有SiO2缓冲层样品的附着力显著提高,而MgF2缓冲层的插入却导致薄膜附着力降低。应用全塑性压痕理论和剪切理论对薄膜的附着力增强机制进行了分析。薄膜的抗激光损伤性能分析表明,SiO2缓冲层也有助于改进薄膜的激光损伤阈值。; 关键词二倍频增透膜 LBO晶体附着力缓冲层; Keywords frequency-doubled antireflection coating LBO crystal adhesion buffer layer; 分类号 O484.41 [理学—固体物理]; 在线阅读下载PDF 职称材料

	题名	作者	出处	发文年	被引量	操作
1	缓冲层对LBO晶体上1064nm,532nm二倍频增透膜的激光损伤阈值的影响	谭天亚于撼江吴炜郭永新范正修邵建达	《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心	2009	2	在线阅读下载PDF 职称材料
2	SiO_2内保护层对LiB_3O_5晶体倍频增透膜损伤阈值的影响	于爱芳范飞镝刘中星朱镛陈创天	《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心	2007	2	在线阅读下载PDF 职称材料
3	LiB_3O_5晶体946nm,473nm倍频增透膜的研制	于爱芳范飞镝刘中星朱镛陈创天	《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心	2006	1	在线阅读下载PDF 职称材料
4	LiB3O5晶体上四倍频增透膜设计	谭天亚邵建达范正修吴炜郭永新韩宇	《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心	2008	0	在线阅读下载PDF 职称材料
5	β-BBO基ZrO_2/SiO_2倍频增透膜的结构和成分对光学性能的影响	陈长琦鲁嘉方应翠王君李万福周瑞	《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心	2005	0	在线阅读下载PDF 职称材料
6	LBO晶体上1064,532nm倍频增透膜的镀制及性能分析	邓震霞贺洪波宋永香杨燕静范正修邵建达	《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心	2007	8	在线阅读下载PDF 职称材料
7	缓冲层对LBO晶体上1064nm,532nm增透膜附着力的影响	谭天亚吴炜郭永新邵建达范正修	《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心	2009	3	在线阅读下载PDF 职称材料