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倍增层Si浓度对β-FeSi_(2)/Si红外探测器性能的影响研究
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作者 朱朝阳 叶伟 +1 位作者 彭慧龙 陈昱坤 《河南科技》 2025年第1期73-77,共5页
【目的】为降低暗电流,改善器件性能,对不同的倍增层Si掺杂浓度在电场分布、暗电流和响应度等性能方面的影响进行探讨,以获得掺杂浓度的最优值。【方法】利用半导体仿真软件Silvaco-TCAD深入探讨了倍增层Si掺杂浓度对β-FeSi_(2)/Si近... 【目的】为降低暗电流,改善器件性能,对不同的倍增层Si掺杂浓度在电场分布、暗电流和响应度等性能方面的影响进行探讨,以获得掺杂浓度的最优值。【方法】利用半导体仿真软件Silvaco-TCAD深入探讨了倍增层Si掺杂浓度对β-FeSi_(2)/Si近红外探测器性能的影响规律。【结果】随着倍增层掺杂浓度的提升,倍增层内部电场强度峰值逐渐增加,暗电流密度与电容值也将相应提高,光响应度基本保持不变。进一步研究表明,当倍增层掺杂浓度为1×10^(15) cm^(-3)时,器件获得良好的性能,暗电流密度为9.93×10^(-6) A/cm^(2),在波长为1.5μm时,光响应度和比探测率分别为0.4452 A/W和1.77×10^(11) cm·Hz^(1/2)W^(-1)。【结论】研究结果对制备高性能的β-FeSi_(2)/Si红外探测器具有指导意义。 展开更多
关键词 掺杂浓度 倍增层 暗电流 红外探测器
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基于异质结倍增层的InAlAsSb SACM雪崩光电二极管的优化 被引量:5
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作者 蒋毅 陈俊 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2019年第5期598-603,共6页
使用低工作电压的雪崩光电二极管(APD)有利于提高集成电路的稳定性和降低功耗.文章建立了一个分离吸收、电荷、倍增(SACM)型的雪崩光电二极管的模型,为了在低偏压下获得高增益同时不降低工作电压范围,这个模型采用了具有高低禁带宽度的... 使用低工作电压的雪崩光电二极管(APD)有利于提高集成电路的稳定性和降低功耗.文章建立了一个分离吸收、电荷、倍增(SACM)型的雪崩光电二极管的模型,为了在低偏压下获得高增益同时不降低工作电压范围,这个模型采用了具有高低禁带宽度的异质结倍增层.同时,文章研究了异质结倍增层的厚度和掺杂浓度对暗电流和增益的影响.通过对掺杂浓度的优化,击穿电压和穿通电压可以同时下降. 展开更多
关键词 InAlAsSb 雪崩光电二极管 异质结倍增层 击穿电压 穿通电压
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光通信用InGaAs/InP雪崩光电二极管 被引量:1
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作者 尹顺政 齐利芳 +3 位作者 赵永林 张豫黔 车向辉 张宇 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2016年第10期759-763,共5页
针对InGaAs/InP雪崩光电二极管(APD)器件结构,介绍了本地电场模型在器件设计上的应用。采用数值计算的方法,导出了吸收区、渐变区、电荷区和倍增区分离的(SAGCM)APD的电场分布。基于本地电场模型讨论了不同器件结构参数对器件穿通... 针对InGaAs/InP雪崩光电二极管(APD)器件结构,介绍了本地电场模型在器件设计上的应用。采用数值计算的方法,导出了吸收区、渐变区、电荷区和倍增区分离的(SAGCM)APD的电场分布。基于本地电场模型讨论了不同器件结构参数对器件穿通电压、击穿电压、倍增因子等特性的影响,实验结果与模拟结果相吻合,表明此方法可以用于器件的结构设计优化及特性分析。在此方法指导下,制作出了SAGCM APD。测试结果表明器件穿通电压小于30V,击穿电压小于45V,在倍增因子为1时,器件响应度大于0.9A/W,在倍增因子为10时,器件暗电流小于10nA,在倍增因子为5-12时,-3dB带宽均大于3GHz,其性能满足2.5Gbit/s光纤通信应用要求。 展开更多
关键词 InP 吸收、渐变、电荷、倍增层分离结构的雪崩二极管(SAGCM APD) 雪崩 本地电场模型 光通信
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