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用俄歇参数法研究SiO_2/Si界面层硅元素过渡态: 1; 作者刘芬王忠燕 +2 位作者陈萦赵汝权胡兴中《分析测试学报》 CAS CSCD 1993年第6期74-77,共4页; 本文报道了俄歇参数法用于SiO_2/Si界面层硅过渡态的研究。使用一种新的AlK_α-AgL_α混合X射线激发源,获得了界面层上Si_2P,Si KLL谱峰。给出了从表面到界面硅的化学状态变化与俄歇参数值。; 关键词俄歇参数硅二氧化硅过渡态界面; 在线阅读下载PDF 职称材料

铈卤氧化物的ESCA表征（Ⅱ）──Ce的M_5N_（45）N_（45）俄歇峰: 2; 作者胡刚葛辽海孙桂芬《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1995年第3期437-439,共3页; 研究了ＸＰＳ诱导的ＣｅＭ５Ｎ４５Ｎ４５俄歇峰，由于其终态空穴处于芯能级，故俄歇峰有较好的分辨率。从ＣｅＭ５Ｎ４５Ｎ４５的俄歇峰可获得中心离子Ｃｅ的电子云密度等信息，发现其俄歇参数与配位体的极化变形程度有关，从而解释了... 展开更多; 关键词俄歇峰俄歇参数 XPS 铈 ESCA; 在线阅读下载PDF 职称材料

X射线光电子能谱在过渡族金属化合物及稀土化合物化学态分析中的应用: 3; 作者潘燕芳李晓静 +3 位作者杨文超李东廖华平许燕娜《分析测试学报》北大核心 2025年第5期956-967,共12页; X射线光电子能谱(XPS)是处理表面化学态分析的重要手段,已广泛应用于科学研究的各个领域,极大地推动了科研的发展。然而过渡族金属化合物及稀土化合物谱峰结构复杂,存在多重分裂和谱峰展宽,是化学态分析的难点。该文主要通过介绍数据库... 展开更多; 关键词 X射线光电子能谱(XPS) 化学态分析混合价态分析修正俄歇参数非线性最小二乘法拟合(NLLSF) 过渡族金属化合物稀土化合物; 在线阅读下载PDF 职称材料

铜导线短路熔痕的XPS研究被引量：7: 4; 作者吴莹孟庆山 +2 位作者王新明高伟邸曼《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2010年第5期1408-1412,共5页; 利用氩离子溅射对熔痕样品进行了深度刻蚀,同时利用Cu的俄歇谱线和计算的俄歇参数值,对不同环境形成的铜导线短路痕迹的物相及元素分布规律进行了分析。根据刻蚀时间可将一次短路熔痕表面膜层分为三部分,即C含量迅速减少的近表面层;O含... 展开更多; 关键词深度刻蚀光电子能谱俄歇参数短路熔痕; 在线阅读下载PDF 职称材料

脉冲激光沉积的金属原子团簇的电子状态及生长的研究被引量：2: 5; 作者赖新春米.阿.普希金 +2 位作者维.伊.特拉扬弗.尼.特罗宁安.弗.韧戈维奇《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第6期694-698,共5页; 介绍了采用 X射线光电子谱 (XPS)等技术研究脉冲激光沉积在 Ni、Mo、C、Na Cl(1 0 0 )表面的 Cu、Au原子团簇的电子状态 ;结合 Cu2 p3/2 X射线光电子谱峰和 Cu L3M4,5 M4,5 俄歇跃迁分离了电子结合能的初态和终态贡献 ,得出了它们随 Cu... 展开更多; 关键词脉冲激光沉积金属原子团簇 XPS 初态效应终态效应俄歇参数电子状态金属薄膜; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名用俄歇参数法研究SiO_2/Si界面层硅元素过渡态: 1; 作者刘芬王忠燕陈萦赵汝权胡兴中; 机构北京理化分析中心; 出处《分析测试学报》 CAS CSCD 1993年第6期74-77,共4页; 文摘本文报道了俄歇参数法用于SiO_2/Si界面层硅过渡态的研究。使用一种新的AlK_α-AgL_α混合X射线激发源,获得了界面层上Si_2P,Si KLL谱峰。给出了从表面到界面硅的化学状态变化与俄歇参数值。; 关键词俄歇参数硅二氧化硅过渡态界面; Keywords Auger parameter X-ray peotoelectron spectroscopy Silicon; 分类号 O613.72 [理学—无机化学]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名铈卤氧化物的ESCA表征（Ⅱ）──Ce的M_5N_（45）N_（45）俄歇峰: 2; 作者胡刚葛辽海孙桂芬; 机构中国科学院长春应用化学研究所; 出处《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1995年第3期437-439,共3页; 基金国家自然科学基金; 文摘研究了ＸＰＳ诱导的ＣｅＭ５Ｎ４５Ｎ４５俄歇峰，由于其终态空穴处于芯能级，故俄歇峰有较好的分辨率。从ＣｅＭ５Ｎ４５Ｎ４５的俄歇峰可获得中心离子Ｃｅ的电子云密度等信息，发现其俄歇参数与配位体的极化变形程度有关，从而解释了双烯烃定向聚合必须有稀土卤氧键存在的原因。; 关键词俄歇峰俄歇参数 XPS 铈 ESCA; Keywords XPS, Auger peaks of cerium, Auger parameter; 分类号 O614.332 [理学—无机化学] O657.3 [理学—分析化学]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名X射线光电子能谱在过渡族金属化合物及稀土化合物化学态分析中的应用: 3; 作者潘燕芳李晓静杨文超李东廖华平许燕娜; 机构清华大学深圳国际研究生院材料与器件检测技术中心广西大学资源环境与材料学院省部共建特色金属与组合结构全寿命安全国家重点实验室; 出处《分析测试学报》北大核心 2025年第5期956-967,共12页; 基金国家自然科学基金面上项目(52072208) 广西重点研发计划(省)(桂科AB24010099) +1 种基金广西高等教育本科教学改革工程项目(2022JGB107)。; 文摘 X射线光电子能谱(XPS)是处理表面化学态分析的重要手段,已广泛应用于科学研究的各个领域,极大地推动了科研的发展。然而过渡族金属化合物及稀土化合物谱峰结构复杂,存在多重分裂和谱峰展宽,是化学态分析的难点。该文主要通过介绍数据库或手册上的过渡族金属化合物以及稀土化合物的标准谱图,对化学态的分析方法—分峰拟合法、卫星峰特征法、俄歇谱峰或修正俄歇参数法进行了介绍,并重点介绍了修正俄歇参数的计算方法。稀土化合物,可参考的数据库和标准窄谱少,很多单质态和化合态都存在独特的震激峰,谱峰极其复杂,分析困难,该文以La和Ce为例进行了说明。在混合价态的分析方面,着重介绍了非线性最小二乘法(NLLSF),该方法是一种是以真实的谱图函数构建预设峰形函数的方法,能量损失峰、卫星峰、多重分裂峰等均包含在谱图中,能够进行确切峰形拟合,处理混合化学态共存的谱图时简单可靠。Ni 2p和F KLL,Ni、Co、Mn和Fe几个元素间存在重叠区,可以通过更换阳极靶材,使俄歇谱峰发生移动进而从主光电子峰分离,便于后续数据解析。在数据解析前需查询数据库网站是否有可参照的标准谱图,对于没有标准窄谱参考的元素,需结合其他元素的窄谱、样品的定性半定量结果进行客观合理的自洽分析,切勿按照实验预期或臆想推断进行分峰拟合。; 关键词 X射线光电子能谱(XPS) 化学态分析混合价态分析修正俄歇参数非线性最小二乘法拟合(NLLSF) 过渡族金属化合物稀土化合物; Keywords X-ray photoelectron spectroscopy(XPS) chemical state analysis mixed chemical state analysis modified Auger parameter non-linear-least square fitting(NLLSF) transition metal compounds rare earth metal compounds; 分类号 O657.3 [理学—分析化学]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名铜导线短路熔痕的XPS研究被引量：7: 4; 作者吴莹孟庆山王新明高伟邸曼; 机构公安部沈阳消防研究所; 出处《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2010年第5期1408-1412,共5页; 基金国家科技支撑计划项目(2006BAK06B04) 公安部重点研究计划项目(2009ZDYJSYXF207) 公安部应用创新项目(2008YYCXSXS152)资助; 文摘利用氩离子溅射对熔痕样品进行了深度刻蚀,同时利用Cu的俄歇谱线和计算的俄歇参数值,对不同环境形成的铜导线短路痕迹的物相及元素分布规律进行了分析。根据刻蚀时间可将一次短路熔痕表面膜层分为三部分,即C含量迅速减少的近表面层;O含量变化不大,C含量逐渐消失且有Cu2O相的中间层;无Cu2O相,O含量显著减少的过渡层。而将二次短路熔痕表面膜层分为两部分:C含量迅速减少的近表面层;无Cu2O相,C和O量逐渐减少层。由此可见,一次短路熔痕的表面膜层与基体分界明显,有显著的过渡层,而二次短路熔痕的表面膜层与基体分界不明显,无过渡层。综上所述,可以根据两种短路熔痕是否含有Cu2O相以及定量分析结果来区分两种熔痕,为判断火灾原因提供新的技术依据。; 关键词深度刻蚀光电子能谱俄歇参数短路熔痕; Keywords Depth etching X-ray photoelectron spectroscopy（XPS） Auger parameter Electrical short circuit molten mark; 分类号 O434.1 [机械工程—光学工程]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名脉冲激光沉积的金属原子团簇的电子状态及生长的研究被引量：2: 5; 作者赖新春米.阿.普希金维.伊.特拉扬弗.尼.特罗宁安.弗.韧戈维奇; 机构莫斯科国立工程物理学院; 出处《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第6期694-698,共5页; 基金 Russian State Program "Surface Atomic Structures; 文摘介绍了采用 X射线光电子谱 (XPS)等技术研究脉冲激光沉积在 Ni、Mo、C、Na Cl(1 0 0 )表面的 Cu、Au原子团簇的电子状态 ;结合 Cu2 p3/2 X射线光电子谱峰和 Cu L3M4,5 M4,5 俄歇跃迁分离了电子结合能的初态和终态贡献 ,得出了它们随 Cu表面浓度变化的关系 ,并对之作出了解释。使用 XPS、RBS、TEM三项技术研究了 Au在 Na Cl(1 0 0 )表面的生长过程 ,通过计算得出了在不同表面浓度下; 关键词脉冲激光沉积金属原子团簇 XPS 初态效应终态效应俄歇参数电子状态金属薄膜; Keywords PLD cluster XPS initial state effect final state effect Auger parameter; 分类号 O484.1 [理学—固体物理]; 在线阅读下载PDF 职称材料

	题名	作者	出处	发文年	被引量	操作
1	用俄歇参数法研究SiO_2/Si界面层硅元素过渡态	刘芬王忠燕陈萦赵汝权胡兴中	《分析测试学报》 CAS CSCD	1993	0	在线阅读下载PDF 职称材料
2	铈卤氧化物的ESCA表征（Ⅱ）──Ce的M_5N_（45）N_（45）俄歇峰	胡刚葛辽海孙桂芬	《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心	1995	0	在线阅读下载PDF 职称材料
3	X射线光电子能谱在过渡族金属化合物及稀土化合物化学态分析中的应用	潘燕芳李晓静杨文超李东廖华平许燕娜	《分析测试学报》北大核心	2025	0	在线阅读下载PDF 职称材料
4	铜导线短路熔痕的XPS研究	吴莹孟庆山王新明高伟邸曼	《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心	2010	7	在线阅读下载PDF 职称材料
5	脉冲激光沉积的金属原子团簇的电子状态及生长的研究	赖新春米.阿.普希金维.伊.特拉扬弗.尼.特罗宁安.弗.韧戈维奇	《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心	2000	2	在线阅读下载PDF 职称材料