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双极性流对低阻抗器件的影响
1
作者
孙会芳
董志伟
《强激光与粒子束》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2006年第12期2052-2056,共5页
分析讨论了双极性流对平面二极管发射电流的影响,并利用PIC程序对平面二极管中的双极性流问题进行了数值对比。在此基础上模拟研究了具有径向发射特点的低阻抗高功率微波器件MILO中的双极性流问题。结果表明:双极性流的出现使器件偏离...
分析讨论了双极性流对平面二极管发射电流的影响,并利用PIC程序对平面二极管中的双极性流问题进行了数值对比。在此基础上模拟研究了具有径向发射特点的低阻抗高功率微波器件MILO中的双极性流问题。结果表明:双极性流的出现使器件偏离最佳工作点,使输出功率和效率降低,电压越高,器件偏离最佳工作点就会越远,当电压高到一定值以后会使器件的工作点移至B-H曲线以下,器件处于过绝缘状态,不能正常工作。
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关键词
双极性流
离子流
平面二极管
MILO
低阻抗器件
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职称材料
题名
双极性流对低阻抗器件的影响
1
作者
孙会芳
董志伟
机构
北京应用物理与计算数学研究所
出处
《强激光与粒子束》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2006年第12期2052-2056,共5页
基金
国家863计划项目资助课题
中物院科学技术基金资助课题(20060432)
文摘
分析讨论了双极性流对平面二极管发射电流的影响,并利用PIC程序对平面二极管中的双极性流问题进行了数值对比。在此基础上模拟研究了具有径向发射特点的低阻抗高功率微波器件MILO中的双极性流问题。结果表明:双极性流的出现使器件偏离最佳工作点,使输出功率和效率降低,电压越高,器件偏离最佳工作点就会越远,当电压高到一定值以后会使器件的工作点移至B-H曲线以下,器件处于过绝缘状态,不能正常工作。
关键词
双极性流
离子流
平面二极管
MILO
低阻抗器件
Keywords
Bipolar flow
Single electron flow
Ion flow
Planar diode
MILO
Low impedance
分类号
TN753.4 [电子电信—电路与系统]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
双极性流对低阻抗器件的影响
孙会芳
董志伟
《强激光与粒子束》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2006
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