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微波等离子体辅助化学气相沉积法低温合成定向碳纳米管阵列 被引量:19
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作者 陈新 胡征 +4 位作者 王喜章 吴强 陈懿 杨绍光 都有为 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2001年第5期731-733,共3页
Well aligned nanotubes with diameter of 30—50 nm have been synthesized on a porous alumina template by microwave plasma enhanced chemical vapor deposition (MW PECVD). By this means, the control over either diameter o... Well aligned nanotubes with diameter of 30—50 nm have been synthesized on a porous alumina template by microwave plasma enhanced chemical vapor deposition (MW PECVD). By this means, the control over either diameter or length of the nanotubes could be realized. The hollow structure and vertically aligned features have been verified by scanning electron and transmission electron microscopic images. In comparison with the reported fabrication methods, lower synthesis temperature (below 520 ℃) and simpler process (no negative dc bias applied) have been achieved, which could be of great importance for both theoretical research and pratical applications. 展开更多
关键词 碳纳米管阵列 微波等离子 化学 低温合成 孔性氧化铝模板
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微波等离子体化学气相沉积法低温制备直纳米碳管膜 被引量:11
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作者 王升高 汪建华 +3 位作者 张保华 王传新 马志斌 满卫东 《无机化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2003年第3期329-332,共4页
Among the three main methods for the s ynthesis of carbon nanotubes(CNTs ),chemical vapor deposition(CVD)has received a great deal of attentio n since CNTs can be synthesized at sig nificantly low temperature.Plasma c... Among the three main methods for the s ynthesis of carbon nanotubes(CNTs ),chemical vapor deposition(CVD)has received a great deal of attentio n since CNTs can be synthesized at sig nificantly low temperature.Plasma chemical vapor deposition me thods can synthesize CNTs at lower te mperature than thermal CVD.But in th e usual catalytic growth of CNTs by CVD,CNTs are often tangled together and have some defects.These will limit t he property research and potential applications.How to synthesize the str aight CNTs at low temperature become s a challenging issue.In this letter,s traight carbon nanotube(CNT)films were achieved by microwave pla sma chemical vapor deposition(MWPCVD)catalyzed by round Fe-Co-Ni alloy particles on Ni substrate at 610℃.It wa s found that,in our experimental condition,the uniform growth rate along the circumference of round alloy particles plays a very important role in the gro wth of straight CNT films.And because the substrate is conducting,the straight CNT films grown at low temperature ma y have the benefit for property research and offer the possibility to use t hem in the future applications. 展开更多
关键词 直纳米碳管膜 Fe-Co-Ni合金 微波等离子化学积法 低温 镍基板
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用于模具行业的等离子体辅助化学气相沉积薄膜强化技术与应用
3
作者 徐可为 《材料导报》 EI CAS CSCD 2001年第2期4-5,共2页
探索将气相沉积氮化钛技术用于工模具和精密零部件的表面力化学强化和功能优化已有近30年的历史。2000年美国金 属学会将唯一一项工程材料成就奖授予Moen公司,以表彰其卓有成效地将氮化钛基镀膜技术应用于工业和民用领域。这一事实表明... 探索将气相沉积氮化钛技术用于工模具和精密零部件的表面力化学强化和功能优化已有近30年的历史。2000年美国金 属学会将唯一一项工程材料成就奖授予Moen公司,以表彰其卓有成效地将氮化钛基镀膜技术应用于工业和民用领域。这一事实表明,气相沉积表面陶瓷化技术在当今科技界具有领先的技术优势,其在工业界所产生的经济效益和行业引领作用将成为其未来技术评估的重点。 目前氮化钛镀膜技术已在国际刀具领域形成工业化生产。基本公认的事实是,离子镀用于高速钢刀具效果最好。 展开更多
关键词 模具 氮化钛薄膜 等离子体辅助化学 表面强化技术
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多晶硅薄膜等离子体增强化学气相沉积低温制备工艺
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作者 邓婉婷 吴爱民 +3 位作者 张广英 秦富文 董闯 姜辛 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第z1期436-440,共5页
采用电子回旋共振等离子增强化学气相沉积(ECR-PECvD)方法,以SiH4和H2为气源,在普通玻璃衬底上沉积多晶硅薄膜.利用XRD、Raman光谱和TEM研究了衬底温度、氢气流量和微波功率对多晶硅薄膜结构的影响.结果表明,制得的多晶硅薄膜多以(220)... 采用电子回旋共振等离子增强化学气相沉积(ECR-PECvD)方法,以SiH4和H2为气源,在普通玻璃衬底上沉积多晶硅薄膜.利用XRD、Raman光谱和TEM研究了衬底温度、氢气流量和微波功率对多晶硅薄膜结构的影响.结果表明,制得的多晶硅薄膜多以(220)取向择优生长,少数条件下会呈现(111)择优取向.当衬底温度为300℃、H2流速为25 mL/min、微波功率为600 W时,多晶硅薄膜结晶状态最好,且呈最佳的(220)取向. 展开更多
关键词 电子回旋共振等离子体增强化学 多晶硅薄膜 低温生长
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微波电子回旋共振等离子体化学气相沉积法制备多晶硅薄膜 被引量:2
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作者 左潇 魏钰 +2 位作者 陈龙威 舒兴胜 孟月东 《核聚变与等离子体物理》 CAS CSCD 北大核心 2012年第4期356-361,共6页
利用微波电子回旋共振等离子体增强型化学气相沉积(ECR-PECVD)采用一步法直接在K9玻璃上低温沉积制备了多晶硅薄膜。研究了不同实验参数对薄膜沉积的影响,采用X射线衍射(XRD)、拉曼光谱、扫描电子显微镜(SEM)等实验分析方法对不同条件... 利用微波电子回旋共振等离子体增强型化学气相沉积(ECR-PECVD)采用一步法直接在K9玻璃上低温沉积制备了多晶硅薄膜。研究了不同实验参数对薄膜沉积的影响,采用X射线衍射(XRD)、拉曼光谱、扫描电子显微镜(SEM)等实验分析方法对不同条件下制备的样品进行了晶体结构和表面形貌分析,并讨论了多晶硅薄膜沉积的最佳条件。实验结果表明,玻璃衬底上多晶硅薄膜呈柱状生长,并有一定厚度的非晶孵化层;较高氢气比例和衬底温度有利于结晶,薄膜的结晶率达到了62%;晶粒团簇的最大尺寸约为500nm。 展开更多
关键词 电子回旋共振等离子体增强型化学 低温 直接制备 多晶硅薄膜
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石墨烯的等离子体增强化学气相沉积法合成 被引量:5
6
作者 姚涵 何叶丽 陈育明 《印染》 北大核心 2018年第5期12-17,共6页
石墨烯具有优异的光电性能,是极具潜力的新一代导电材料。采用传统的热化学气相沉积法制备单层石墨烯需要高温反应条件,试验尝试采用等离子体增强化学气相沉积法(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition,PECVD),在550℃的反应温度下... 石墨烯具有优异的光电性能,是极具潜力的新一代导电材料。采用传统的热化学气相沉积法制备单层石墨烯需要高温反应条件,试验尝试采用等离子体增强化学气相沉积法(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition,PECVD),在550℃的反应温度下,较短的反应时间内,在铜箔衬底上制备出石墨烯薄膜。考察了甲烷和氢气流量比、氩气的作用以及衬底通电与否等因素对石墨烯生长的影响。研究发现,在甲烷与氢气流量比为1∶1,通入氩气,不给铜箔衬底通电的试验条件下,制备出的石墨烯薄膜电阻值为4.15 kΩ,显示出较好的光电特性。 展开更多
关键词 石墨烯 等离子 化学 低温 光电特性
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气相沉积制备硬质薄膜技术与应用述评 被引量:13
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作者 马胜利 徐可为 介万奇 《真空科学与技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第6期438-443,共6页
本文对气相沉积技术的发展与最新趋势给出了述评 ,重点强调了等离子体辅助化学气相沉积 (PCVD)的优势。
关键词 制备 技术 硬质薄膜 PCVD 等离子体辅助化学
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低温等离子体改性技术制备功能材料的研究进展 被引量:5
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作者 吴建飞 袁红梅 +3 位作者 夏林敏 赵红艳 林金国 李吉庆 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2022年第21期220-228,共9页
低温等离子体改性技术是一种常用的材料改性手段,它是通过电离气体产生大量的带能粒子和各种形式的光辐射作用于材料表面,从而提高材料的疏水性、阻燃性和抗菌性等性能,达到制备具有一种或多种特定功能材料的目的。低温等离子体改性技... 低温等离子体改性技术是一种常用的材料改性手段,它是通过电离气体产生大量的带能粒子和各种形式的光辐射作用于材料表面,从而提高材料的疏水性、阻燃性和抗菌性等性能,达到制备具有一种或多种特定功能材料的目的。低温等离子体改性技术在材料改性中备受青睐得益于四大优势:(1)反应环境所需温度低;(2)处理效率高;(3)适用范围广;(4)不会破坏材料本身的性质。近年来,低温等离子体改性技术在生物质材料、高分子材料、金属材料等领域都有广泛的应用,其在生物质材料领域的研究尤为活跃,经低温等离子体表面处理制备的超疏水性、阻燃性等功能材料被大量报道。在高分子材料领域,低温等离子体改性法常被用于制备超疏水性塑料薄膜材料、医用抗菌性口罩、防污无纺布等。通过低温等离子体化学气相沉积法沉积后的金属具有耐腐蚀、耐磨的作用。此外,低温等离子体改性技术还在三废处理、半导体材料、电子产品、电子电路、超导材料等领域获得丰硕的研究成果。一直以来科学家对低温等离子体改性技术的应用研究远多于机理研究,这限制了其在材料改性中的发展,然而,研究低温等离子体对不同材料的作用机理对于制备所需功能材料具有指导性意义。实际上,等离子体在材料表面会发生解吸、掺杂、刻蚀、溅射和交联、表面接枝、界面聚合等一系列的物理化学反应,具体发生了何种反应与等离子体种类、材料类型、放电方式、工艺参数等密切相关。根据不同的作用机理对低温等离子体改性技术进行归类,有利于精准制备所需的功能材料。本文综述了三种不同的低温等离子体改性方法:(1)低温等离子体表面处理法;(2)低温等离子体化学气相沉积法;(3)低温等离子体接枝聚合法。结合不同材料的性质和不同的改性机理,概述了低温等离子体改性技术在超疏水性、阻燃性和抗菌性功能材料中的应用。在分析低温等离子体改性机理的基础上,总结了如何利用不同气体类型的低温等离子体制备所需的特定功能材料,并指出用低温等离子体改性技术对材料进行改性的不足之处和发展前景。 展开更多
关键词 低温等离子体改性技术 表面处理法 接枝聚合法 化学积法 功能材料
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新疆天业与清华大学开发低温等离子技术
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《石油化工》 CAS CSCD 北大核心 2011年第7期758-758,共1页
新疆天业集团研究院和清华大学将共同开发低温等离子气固相法氯化聚氯乙烯(CPVC)技术。新疆天业集团早在2007年就与清华大学建立合作关系,针对氯碱工艺创新技术、等离子煤制乙炔技术等展开合作,推动企业技术创新。
关键词 低温等离子技术 清华大学 新疆 开发 氯化聚氯乙烯 企业技术创新 合作关系
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《气相沉积应用技术》出版
10
《工具技术》 北大核心 2007年第1期119-119,共1页
由王福贞和马文存编著的《气相沉积应用技术》机械工业出版社出版。王福贞和马文存从事物理气相沉积、化学气相沉积、等离子体化学气相沉积极技术研究和开发有三十年左右的经历。
关键词 物理 出版社 等离子化学 技术 应用 机械工业
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线形同轴耦合式微波等离子体CVD法制备金刚石薄膜 被引量:13
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作者 杨志威 陈立民 +4 位作者 耿春雷 唐伟忠 吕反修 苗晋琦 赵中琴 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第3期432-435,共4页
线形同轴耦合式微波等离子体CVD装置是一种利用微波天线产生轴向分布的等离子体柱的新型微波等离子体CVD装置。由于它产生的等离子体是沿微波天线分布的 ,因而可避免石英管式、石英钟罩式以及不锈钢谐振腔式微波等离子体CVD装置中等离... 线形同轴耦合式微波等离子体CVD装置是一种利用微波天线产生轴向分布的等离子体柱的新型微波等离子体CVD装置。由于它产生的等离子体是沿微波天线分布的 ,因而可避免石英管式、石英钟罩式以及不锈钢谐振腔式微波等离子体CVD装置中等离子体的分布容易受到金属工件位置干扰的缺点。本文将首先讨论线形同轴耦合式微波等离子体CVD装置的工作原理 ,其后介绍利用此装置进行的金刚石薄膜沉积实验的初步结果。实验结果表明 ,利用线形同轴耦合式微波等离子体CVD装置 。 展开更多
关键词 金刚石薄膜 制备方法 线形同轴耦合 微波等离子 CVD法 化学技术
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PECVD法低温沉积多晶硅薄膜的研究 被引量:9
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作者 邱春文 石旺舟 黄羽中 《液晶与显示》 CAS CSCD 2003年第3期201-204,共4页
在玻璃衬底上采用常规的PECVD法在低温(≤400℃)条件下制得大颗粒(直径>100nm)、择优取向(220)明显的多晶硅薄膜。选用的反应气体为SiF4和H2混合气体。加入少量的SiH4后,沉积速率提高了近10倍。分析认为,在低温时促使多晶硅结构形成... 在玻璃衬底上采用常规的PECVD法在低温(≤400℃)条件下制得大颗粒(直径>100nm)、择优取向(220)明显的多晶硅薄膜。选用的反应气体为SiF4和H2混合气体。加入少量的SiH4后,沉积速率提高了近10倍。分析认为,在低温时促使多晶硅结构形成的反应基元应是SiFmHn(m+n≤3),而不可能是SiHn(n≤3)基团。 展开更多
关键词 PECVD法 多晶硅薄膜 低温 太阳能电池 等离子体增强化学积法
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纳米α-Al_2O_3化学合成技术研究进展 被引量:1
13
作者 宋晓岚 曲鹏 +2 位作者 王海波 吴雪兰 邱冠周 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第5期14-16,共3页
纳米α-Al_2O_3粉体因其用于高强材料、电子陶瓷以及催化剂等而具有广泛的应用潜力,然而经高温煅烧难于获得真正纳米粒径的α-Al_2O_3粉体。综述了近年来国外合成纳米α-Al_2O_3粉末的2种工艺:一种为高温化学合成工艺。包括气相沉积法... 纳米α-Al_2O_3粉体因其用于高强材料、电子陶瓷以及催化剂等而具有广泛的应用潜力,然而经高温煅烧难于获得真正纳米粒径的α-Al_2O_3粉体。综述了近年来国外合成纳米α-Al_2O_3粉末的2种工艺:一种为高温化学合成工艺。包括气相沉积法、激光烧蚀法、电弧等离子体法和水热法等;另一种为低温化学合成工艺,包括机械球磨法和溶胶-凝胶法等。进一步展望了我国纳米α-Al_2O_3研究发展的趋势。 展开更多
关键词 纳米Α-AL2O3 技术研究进展 化学合成 AL2O3粉体 Al2O3粉末 电弧等离子体法 溶胶一凝胶法 合成工艺 积法 激光烧蚀法 机械球磨法 高强材料 应用潜力 电子陶瓷 高温煅烧 研究发展 催化剂 水热法
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玻璃衬底上低温沉积GaN薄膜研究 被引量:2
14
作者 王文彦 秦福文 +5 位作者 吴爱民 宋世巍 李瑞 姜辛 徐茵 顾彪 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2008年第10期880-884,共5页
采用电子回旋共振-等离子体增强金属有机物化学气相沉积(ECR-PEMOCVD)方法在康宁7101型普通玻璃衬底上沉积了GaN薄膜,利用反射高能电子衍射(RHEED)、X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)和霍尔测量系统对样品进行了检测,研究了... 采用电子回旋共振-等离子体增强金属有机物化学气相沉积(ECR-PEMOCVD)方法在康宁7101型普通玻璃衬底上沉积了GaN薄膜,利用反射高能电子衍射(RHEED)、X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)和霍尔测量系统对样品进行了检测,研究了其结晶性和电学特性随沉积温度的变化。结果表明,当沉积温度为250-430℃时,得到的GaN薄膜都呈现高度的c轴择优取向,结晶性较好;薄膜表面形貌较为平整且呈n型导电。 展开更多
关键词 电子回旋共振-等离子体增强金属有机物化学 氮化镓 低温 玻璃衬底
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MWPCVD低温合成纳米碳管的生长机理 被引量:4
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作者 王升高 汪建华 +2 位作者 满卫东 马志彬 王传新 《无机化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2002年第6期611-614,共4页
The synthesis of carbon nanotubes£¨CNTs £(c)at low temperature has received a gre at deal of attention and be-comes a challenging issue£(r)But few mo del which accounts for the growth of C NTs is suited for th... The synthesis of carbon nanotubes£¨CNTs £(c)at low temperature has received a gre at deal of attention and be-comes a challenging issue£(r)But few mo del which accounts for the growth of C NTs is suited for the synthesis of CNTs by microwave plasma chemical vapor deposition£¨MWPCVD£(c)at low temperature because most rese archers conclude that the growth mechanism is determi ned by the catalyst-supporter interaction while ignored the diffusion o f carbon in the catalyst£(r)In this paper,under the catalytic effect of cobalt supported by SiO 2 and Al 2 O 3 ,CNTs are synthe-sized by MWPCVD at about 500℃,and tip-growth,the model which accounts fo r the catalytic growth of CNTs is outlined£(r)It is the temperature difference between the upper and bottom o f the catalytic particle that results in the diffusion of carbon atoms from upper to the bottom,and precipitation of s aturated carbon on the bottom surface to form CNTs£(r) 展开更多
关键词 MWPCVD 低温合成 钠米碳管 生长机理 微波等离子化学积法
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镍基板上低温合成定向纳米碳管 被引量:3
16
作者 王升高 汪建华 +3 位作者 王传新 满卫东 马志斌 张保华 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2003年第7期1163-1165,共3页
In this paper, under the catalytic effect of nickel particles electro-deposited on Ni substrate, self-aligned carbon nanotubes were synthesized by microwave plasma chemical vapor deposition with a mixture of methane a... In this paper, under the catalytic effect of nickel particles electro-deposited on Ni substrate, self-aligned carbon nanotubes were synthesized by microwave plasma chemical vapor deposition with a mixture of methane and hydrogen gases at 510 ℃. During the process of nanotubes growth, the total pressure in the chamber was kept at 3 kPa, the microwave plasma input power was 500 W, and the flow rates of H 2 and CH 4 were 50 and 1 mL/min, respectively. The aligned features and hollow structure have been verified by scanning electron and transmission electron microscopic images. As the nanotubes grow, the nickel cap remains on the tip of the carbon nanotubes. The nanotubes′diameter is about 70 nm and they have bamboo structures. Because of the strong etching ability of hydrogen plasma and the low volume ratio of H 2/CH 4, no carbonaceous particles attached to the carbon nanotubes were found. It demonstrats that MWPCVD is a very efficient process for the synthesis of the aligned carbon nanotubes at a low temperature. The aligned CNTs grown on Ni substrate at such a low temperature are suitable for device fabrication. 展开更多
关键词 定向纳米碳管 低温合成 镍基板 微波等离子化学积法 制备 场效应发射器
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无机-有机复合膜的制备技术进展 被引量:4
17
作者 吴翠明 徐铜文 杨伟华 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2002年第4期641-648,共8页
介绍了近年来发展较快的无机-有机复合膜的研究情况,结合国内外近年来发表的相关论文;对其制备技术进行了综述.
关键词 无机-有机复合膜 制备 技术进展 溶胶-凝胶 等离子 有机聚合物 化学 部分热解 纳米共聚
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低温多晶硅薄膜的制备评述 被引量:3
18
作者 杨定宇 蒋孟衡 杨军 《材料科学与工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2008年第2期298-301,共4页
低温多晶硅薄膜晶体管(LTPS-TFT)驱动技术是实现大尺寸全彩平板显示的必由之路。然而,传统的低温多晶硅薄膜制作工艺存在着工序复杂、薄膜均匀性差、可能有金属污染且造价昂贵等问题。因此,有必要研发新一代的低温多晶硅薄膜制备工艺以... 低温多晶硅薄膜晶体管(LTPS-TFT)驱动技术是实现大尺寸全彩平板显示的必由之路。然而,传统的低温多晶硅薄膜制作工艺存在着工序复杂、薄膜均匀性差、可能有金属污染且造价昂贵等问题。因此,有必要研发新一代的低温多晶硅薄膜制备工艺以期进一步提高薄膜质量,降低驱动成本。本文首先介绍了金属诱导横向晶化法(MILC)和准分子激光晶化法(ELA)制备低温多晶硅薄膜的原理,分析了两者各自的优缺点。接着,重点阐述了电感耦合等离子体化学气相沉积法(ICP-CVD)的工作原理和特点,并介绍了目前ICP-CVD在低温多晶硅薄膜制备上所取得的进展。 展开更多
关键词 低温多晶硅薄膜 金属诱导横向晶化 准分子激光晶化 电感耦合等离子化学
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纳米粉体材料氮化硅的ICP制备技术和红外光学特性 被引量:2
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作者 赵文锋 陈俊芳 +3 位作者 吴先球 熊予莹 符斯列 樊双莉 《华南师范大学学报(自然科学版)》 CAS 2004年第2期72-76,共5页
采用ICP等离子体化学气相沉积技术,用硅烷和氮气为反应气体合成氮化硅纳米粉体.利用朗缪尔探针诊断了反应室内等离子体参数,得到不同位置、不同功率和不同气压下等离子体密度的变化规律,等离子体密度随着功率的增大而增大,随着气压的升... 采用ICP等离子体化学气相沉积技术,用硅烷和氮气为反应气体合成氮化硅纳米粉体.利用朗缪尔探针诊断了反应室内等离子体参数,得到不同位置、不同功率和不同气压下等离子体密度的变化规律,等离子体密度随着功率的增大而增大,随着气压的升高而减小,由于离子鞘层的存在,提供了局部等离子体密度稳定的区域.利用傅立叶红外光谱仪分析了氮化硅纳米粉体红外光谱和键态结构的特性,结果表明:氮化硅的表面特性和纳米材料的表面效应导致富氧层的存在. 展开更多
关键词 纳米粉体材料 氮化硅 ICP 制备技术 红外光学特性 等离子化学 陶瓷材料
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气体配比对硼掺杂碳纳米管生长特性的影响 被引量:1
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作者 王志 巴德纯 +3 位作者 蔺增 曹培江 刘飞 梁吉 《新型炭材料》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2005年第4期350-354,共5页
采用电子回旋共振微波等离子体化学气相沉积技术(ECR-CVD),以Fe3O4纳米粒子为催化剂,CH4、B2H6和H2为气源,在多孔硅基底上制备出了掺硼碳纳米管。研究了不同B2H6/CH4气体配比对碳纳米管生长特性的影响。使用扫描电子显微镜(SEM)、透射... 采用电子回旋共振微波等离子体化学气相沉积技术(ECR-CVD),以Fe3O4纳米粒子为催化剂,CH4、B2H6和H2为气源,在多孔硅基底上制备出了掺硼碳纳米管。研究了不同B2H6/CH4气体配比对碳纳米管生长特性的影响。使用扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)和X射线光电子谱(XPS)对样品的形貌、结构及组分进行表征。结果表明:B2H6对纳米管的生长具有较大影响。气源中含有少量的B2H6就会破坏纳米管的定向生长,使纳米管变得弯曲;随着气源中B2H6比例的增加,纳米管结构从中空结构转变为类竹节结构,多壁管外径由60nm^90nm增大至200nm^250nm,管壁由10nm^20nm增厚至70nm^100nm,表面变得粗糙,同时纳米管的生长速度降低;纳米管中的B/C原子比随着B2H6比例的增大而增大,当B2H6/CH4体积配比为2∶1时B/C原子比增至28∶72。 展开更多
关键词 碳纳米管 硼掺杂 等离子化学技术 体配比
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