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纳米硅铝介孔分子筛的合成及其催化裂化性能
被引量：
9
1
作者
师希娥
翟尚儒
+5 位作者
戴立益
单永奎
何鸣元
魏伟
吴东
孙予罕
《物理化学学报》
SCIE
CAS
CSCD
北大核心
2004年第3期265-270,共6页
采用低温晶化法一步合成了纳米硅铝介孔分子筛(记为Z-1),并通过XRD、BET、N2吸/脱附曲线和TEM等手段对其结构性质进行了表征.结果表明:所合成的分子筛具有类似MCM-41的六方结构,较好的介孔特征,孔分布狭窄,纳米级晶粒(40～50nm).用氨气...
采用低温晶化法一步合成了纳米硅铝介孔分子筛(记为Z-1),并通过XRD、BET、N2吸/脱附曲线和TEM等手段对其结构性质进行了表征.结果表明:所合成的分子筛具有类似MCM-41的六方结构,较好的介孔特征,孔分布狭窄,纳米级晶粒(40～50nm).用氨气程序升温脱附(NH3-TPD)法测试了其酸强度;并采用脉冲法,以异丙苯和1,3,5-三异丙苯的催化裂化为探针反应,考察了该分子筛的催化裂化性能和水热稳定性.Z-1与后嫁接法制得的AlMCM-41相比,呈现出较高的催化活性、选择性和蒸气稳定性.
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关键词
纳米硅铝介孔分子筛
合成
催
化
裂
化
性能
低温晶化法
水热稳定性
工业催
化
剂
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职称材料
电子束蒸发沉积重掺硅薄膜及其在低辐射玻璃上的应用
被引量：
2
2
作者
刘学丽
黄延伟
+2 位作者
李向明
席俊华
季振国
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第B08期39-42,共4页
采用电子束蒸发法以普通玻璃为基板制备了重掺硅薄膜,通过SEM、EDS、透射光谱对其形貌、成分以及透射率进行了测试表征。进一步采用铝诱导低温晶化法在玻璃基板上沉积Al薄膜,对重掺硅薄膜进行铝诱导晶化。XRD测试、电学性能测试以及可见...
采用电子束蒸发法以普通玻璃为基板制备了重掺硅薄膜,通过SEM、EDS、透射光谱对其形貌、成分以及透射率进行了测试表征。进一步采用铝诱导低温晶化法在玻璃基板上沉积Al薄膜,对重掺硅薄膜进行铝诱导晶化。XRD测试、电学性能测试以及可见-红外光谱透射率测试结果表明,硅薄膜在温度为300℃以上出现了Si(111)的衍射峰,薄膜的导电性得到了提高,且具有较强的红外反射能力,表明在低辐射玻璃上具有一定的应用价值。同时采用电子束蒸发法制备了结构为glass/Si/Ag/Si的Ag基低辐射玻璃,通过光学性质测试和腐蚀情况观察结果表明硅薄膜具有保护低辐射薄膜的作用。
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关键词
电子束蒸发
重掺硅薄膜
低辐射玻璃
硅保护层
铝诱导
低温晶化法
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职称材料
题名
纳米硅铝介孔分子筛的合成及其催化裂化性能
被引量：
9
1
作者
师希娥
翟尚儒
戴立益
单永奎
何鸣元
魏伟
吴东
孙予罕
机构
华东师范大学化学系
中国科学院山西煤炭化学研究所煤转化国家重点实验室
出处
《物理化学学报》
SCIE
CAS
CSCD
北大核心
2004年第3期265-270,共6页
基金
国家自然科学基金(29973057)
国家重点基础研究专项经费(G2000048001)资助项目~~
文摘
采用低温晶化法一步合成了纳米硅铝介孔分子筛(记为Z-1),并通过XRD、BET、N2吸/脱附曲线和TEM等手段对其结构性质进行了表征.结果表明:所合成的分子筛具有类似MCM-41的六方结构,较好的介孔特征,孔分布狭窄,纳米级晶粒(40～50nm).用氨气程序升温脱附(NH3-TPD)法测试了其酸强度;并采用脉冲法,以异丙苯和1,3,5-三异丙苯的催化裂化为探针反应,考察了该分子筛的催化裂化性能和水热稳定性.Z-1与后嫁接法制得的AlMCM-41相比,呈现出较高的催化活性、选择性和蒸气稳定性.
关键词
纳米硅铝介孔分子筛
合成
催
化
裂
化
性能
低温晶化法
水热稳定性
工业催
化
剂
Keywords
mesoporous molecular sieves
acidity
AIMCM-41
catalytic cracking
cumene
1,3,5-triisopropylbenzene
分类号
O643.3 [理学—物理化学]
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职称材料
题名
电子束蒸发沉积重掺硅薄膜及其在低辐射玻璃上的应用
被引量：
2
2
作者
刘学丽
黄延伟
李向明
席俊华
季振国
机构
杭州电子科技大学材料与环境工程学院
出处
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第B08期39-42,共4页
基金
浙江省科技计划基金资助项目(2011C37001)
浙江省自然科学基金资助项目(LQ12E02002)
校级科研启动基金资助项目(KYS205611036)
文摘
采用电子束蒸发法以普通玻璃为基板制备了重掺硅薄膜,通过SEM、EDS、透射光谱对其形貌、成分以及透射率进行了测试表征。进一步采用铝诱导低温晶化法在玻璃基板上沉积Al薄膜,对重掺硅薄膜进行铝诱导晶化。XRD测试、电学性能测试以及可见-红外光谱透射率测试结果表明,硅薄膜在温度为300℃以上出现了Si(111)的衍射峰,薄膜的导电性得到了提高,且具有较强的红外反射能力,表明在低辐射玻璃上具有一定的应用价值。同时采用电子束蒸发法制备了结构为glass/Si/Ag/Si的Ag基低辐射玻璃,通过光学性质测试和腐蚀情况观察结果表明硅薄膜具有保护低辐射薄膜的作用。
关键词
电子束蒸发
重掺硅薄膜
低辐射玻璃
硅保护层
铝诱导
低温晶化法
Keywords
e-beam evaporation
heavily doped Si film
low-e glass
Si protective film
Al-induced crystallization method
分类号
O484.1 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
纳米硅铝介孔分子筛的合成及其催化裂化性能
师希娥
翟尚儒
戴立益
单永奎
何鸣元
魏伟
吴东
孙予罕
《物理化学学报》
SCIE
CAS
CSCD
北大核心
2004
9
在线阅读
下载PDF
职称材料
2
电子束蒸发沉积重掺硅薄膜及其在低辐射玻璃上的应用
刘学丽
黄延伟
李向明
席俊华
季振国
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012
2
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职称材料
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