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金属有机物气相外延生长InAlGaN薄膜及其性能表征(英文)
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作者 黎大兵 董逊 +2 位作者 刘祥林 王晓晖 王占国 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第4期539-544,共6页
在不同的生长温度和载气的条件下 ,采用低压金属有机物气相外延方法生长了系列的InAlGaN薄膜 ,通过能量色散谱 (EDS) ,高分辨X射线衍射 (HRXRD)和光致发光谱 (PL)对样品进行表征与分析 ,研究了生长工艺对InAlGaN外延层结构和光学性能的... 在不同的生长温度和载气的条件下 ,采用低压金属有机物气相外延方法生长了系列的InAlGaN薄膜 ,通过能量色散谱 (EDS) ,高分辨X射线衍射 (HRXRD)和光致发光谱 (PL)对样品进行表征与分析 ,研究了生长工艺对InAlGaN外延层结构和光学性能的影响。发现当以氮气做载气时 ,样品的发光很弱并且在 5 5 0nm附近存在一个很宽的深能级发光峰 ;当采用氮气和氢气的混合气做载气时 ,样品中的深能级发光峰消失且发光强度明显提高。以混合气做载气 ,InAlGaN薄膜中铟的组分随生长温度的升高而降低 ,而薄膜的结构和光学性能却提高。结合PL和HRXRD的测试结果得到了较佳的生长参数 :即载气为氢气和氮气的混合气以及生长温度在 85 0℃到 870℃。 展开更多
关键词 低压金属有机物气相外延方法 InAlGaN薄膜 能量色散谱 高分辨X射线衍射 光致发光谱 生长工艺
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国产金属有机化合物TMGa、TMAl、TMIn和TMSb的MOVPE鉴定
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作者 陆大成 汪度 +2 位作者 刘祥林 王晓晖 董建荣 《高技术通讯》 CAS CSCD 1994年第8期5-9,共5页
利用我们研制的常压MOVPE设备对国产TMGa、TMAl、TMIn和TMSb进行了鉴定,为此分别生长了GaAs、AlGaAs、InP、GaSb外延层和GaAs/AlAs、GaSb/InGaSb超晶格和GaAs/AlG... 利用我们研制的常压MOVPE设备对国产TMGa、TMAl、TMIn和TMSb进行了鉴定,为此分别生长了GaAs、AlGaAs、InP、GaSb外延层和GaAs/AlAs、GaSb/InGaSb超晶格和GaAs/AlGaAs量子阱结构。表征材料纯度的77K载流予迁移率分别达到GaAs:μ_n=56600cm ̄2/V·s,Al_(0.25)Ga_(0.75)As:μ_n=5160cm ̄2/V·s,InP:μ_n=65300cm ̄2/V·s,GaSb:μ_p=5076cm ̄2/V·s。由10个周期的GaAs/AlAs超晶格结构组成的可见光区布拉格反射器已观测到很好的反射光谱和双晶X射线回摆曲线上高达±20级的卫星峰。GaAs/Al_(0.35)Ga_(0.65)As量子阱最小阱宽为10,在liK下由量子尺寸效应导致的光致发光峰能量移动为390meV,其线宽为12meV。这些结果表明上述金属有机化合物已达到较高质量。 展开更多
关键词 金属有机物 外延 量子阱 晶格
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LP-MOCVD生长InGaAlP外延层In组分控制的动力学分析 被引量:1
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作者 文尚胜 范广涵 +1 位作者 廖常俊 刘颂豪 《量子电子学报》 CAS CSCD 北大核心 2001年第2期175-178,共4页
本文分析了低压转盘MOCVD生长室中气流的流动特征,首次提出了在高温(700℃左右)下生长InGaAlP外延层时,抑制In组分脱吸附的“动压力模型”.解释了托盘转速和生长压力等生长参数对In组分控制的影响.
关键词 低压有机金属化学外延 INGAALP 铟组分 控制 外延层生长 动力学分析
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LP-MOCVD生长InGaAlP外延层中In并入效率的研究
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作者 文尚胜 范广涵 +1 位作者 廖常俊 刘颂豪 《华南理工大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第8期45-48,共4页
分析了In原子在InGaAlP外延生长表面的扩散、并入及脱附过程 ,给出了In并入外延层的效率表达式 .依据该表达式 ,解释了生长速率、生长温度及生长压力等生长参数对LP_MOCVD生长InGaAlP外延层中In组分的影响 .
关键词 低压金属有机化合物外延 并入效率 In组分 LP-MOCVD INGAALP
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切割角蓝宝石基氧化镓薄膜MOCVD外延及日盲紫外光电探测器制备 被引量:3
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作者 汪正鹏 张崇德 +8 位作者 孙新雨 胡天澄 崔梅 张贻俊 巩贺贺 任芳芳 顾书林 张荣 叶建东 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2023年第6期1007-1015,共9页
本文使用金属有机物化学气相沉积(MOCVD)法在不同切割角的c面蓝宝石衬底上外延氧化镓(β-Ga_(2)O_(3))单晶薄膜,揭示了衬底切割角对外延薄膜晶体质量的影响规律。研究表明,当衬底切割角为6°时,β-Ga_(2)O_(3)外延膜具有较小的X射... 本文使用金属有机物化学气相沉积(MOCVD)法在不同切割角的c面蓝宝石衬底上外延氧化镓(β-Ga_(2)O_(3))单晶薄膜,揭示了衬底切割角对外延薄膜晶体质量的影响规律。研究表明,当衬底切割角为6°时,β-Ga_(2)O_(3)外延膜具有较小的X射线摇摆曲线半峰全宽(1.10°)和最小的表面粗糙度(7.7 nm)。在此基础上,采用光刻、显影、电子束蒸发及剥离工艺制备了金属-半导体-金属结构的日盲紫外光电探测器,器件的光暗电流比为6.2×10^(6),248 nm处的峰值响应度为87.12 A/W,比探测率为3.5×10^(15) Jones,带外抑制比为2.36×10^(4),响应时间为226.2μs。 展开更多
关键词 超宽禁带半导体 氧化镓薄膜 金属有机物化学沉积 日盲紫外光电探测器 切割角 外延
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SiC衬底AlN缓冲层的应变对GaN外延层质量的影响
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作者 王丽 房玉龙 +3 位作者 尹甲运 敦少博 刘波 冯志红 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2012年第8期630-633,共4页
在3英寸(1英寸=2.54 cm)SiC衬底上采用金属有机物化学气相沉积(MOCVD)法生长GaN外延材料。研究了AlN缓冲层的应变状态对GaN外延层应变状态和质量的影响。使用原子力显微镜和高分辨率X射线双晶衍射仪观察样品表面形貌,表征外延材料质量... 在3英寸(1英寸=2.54 cm)SiC衬底上采用金属有机物化学气相沉积(MOCVD)法生长GaN外延材料。研究了AlN缓冲层的应变状态对GaN外延层应变状态和质量的影响。使用原子力显微镜和高分辨率X射线双晶衍射仪观察样品表面形貌,表征外延材料质量的变化,使用高分辨喇曼光谱仪观察外延材料应力的变化,提出了基于外延生长的应变变化模型。实验表明,GaN外延层的张应变随着AlN缓冲层应变状态的由压变张逐渐减小,随着GaN张应力的逐渐减小,GaN位错密度也大大减少,表面形貌也逐渐变好。 展开更多
关键词 金属有机物化学沉积(MOCVD) GAN外延 ALN缓冲层 失配 应变 应力
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AlGaInP高亮度发光二极管 被引量:7
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作者 李玉璋 王国宏 +3 位作者 马骁宇 曹青 王树堂 陈良惠 《液晶与显示》 CAS CSCD 1999年第2期110-114,共5页
分析了AlGaInP材料的特点和AlGaInP高亮度发光二极管发光效率的决定因素,对目前国际上研究比较成熟的一些典型结构进行了综合分析,从理论上指出AlGaInP发光二极管在橙黄波段的发光效率的最终决定因素是光的提取... 分析了AlGaInP材料的特点和AlGaInP高亮度发光二极管发光效率的决定因素,对目前国际上研究比较成熟的一些典型结构进行了综合分析,从理论上指出AlGaInP发光二极管在橙黄波段的发光效率的最终决定因素是光的提取效率,而在黄绿波段是发光二极管的内量子效率。并利用LP-MOCVD技术制备了cd级橙黄高亮度发光二极管,发光波长峰值在605nm,FWHM为18.3nm,20mA工作电流下,5.08cm(2英寸)外延片管芯平均轴向发光强度为20mcd,最大30mcd,平均工作电压1.9V,透明峰值角度2θ1/2=15°时轴向发光强度达到1000mcd。 展开更多
关键词 发光二极管 低压 有机金属 外延 铝镓铟磷
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用MOCVD法在LiGaO_2(001)上生长GaN的研究 被引量:3
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作者 杨卫桥 干福熹 +3 位作者 邓佩珍 徐军 李抒智 张荣 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2003年第1期215-219,共5页
LiGaO2单晶是目前所知的GaN最为理想的衬底材料,本研究用金属有机物气相沉积法(MOCVD)在LiGaO2(001)衬底上进行了外延生长GaN膜的试验,生长出了表面较为平整的GaN外延膜.应用原子力显微镜(AFM)、X射线粉末衍射(XRD)和高分辨X射线双晶衍... LiGaO2单晶是目前所知的GaN最为理想的衬底材料,本研究用金属有机物气相沉积法(MOCVD)在LiGaO2(001)衬底上进行了外延生长GaN膜的试验,生长出了表面较为平整的GaN外延膜.应用原子力显微镜(AFM)、X射线粉末衍射(XRD)和高分辨X射线双晶衍射分别对衬底对外延膜和衬底材料进行了分析测试.结果表明,用MOCVD法可以在LiGaO2(001)衬底上生长出较高质量的无掺杂GaN(0001)外延膜.但由于MOCVD法是在高温还原气氛中生长GaN外延膜的,LiGaO2在这种气氛中不够稳定,实验发现衬底材料在生长过程中部分样品发生开裂,但没有发生相变. 展开更多
关键词 GAN LiGaO2 MOCVD法 半导体材料 氮化镓 金属有机物沉积 外延薄膜 外延生长
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硅衬底InGaN多量子阱材料生长及LED研制 被引量:9
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作者 莫春兰 方文卿 +2 位作者 刘和初 周毛兴 江风益 《高技术通讯》 CAS CSCD 北大核心 2005年第5期58-61,共4页
利用低压金属有机化学气相沉积(MOCVD)系统在Si(111)衬底上生长了InGaN 多量子阱LED外延片.为克服GaN与Si衬底之间巨大的晶格失配与热失配,引入了AlN低温缓冲层及富镓的GaN高温缓冲层,在Si(111)衬底上获得了无龟裂的InGaN 多量子阱LED... 利用低压金属有机化学气相沉积(MOCVD)系统在Si(111)衬底上生长了InGaN 多量子阱LED外延片.为克服GaN与Si衬底之间巨大的晶格失配与热失配,引入了AlN低温缓冲层及富镓的GaN高温缓冲层,在Si(111)衬底上获得了无龟裂的InGaN 多量子阱LED外延材料.在两英寸外延片内LED管芯的工作电压在3.7~4.1V之间,电致发光波长在465~480nm之间,87%的LED管芯的反向漏电流不大于0.1μA,输出光强为18~30mcd. 展开更多
关键词 INGAN 多量子阱 LED 材料生长 SI(111)衬底 低压金属有机化学沉积 硅衬底 研制 反向漏电流 晶格失配 SI衬底 外延材料 工作电压 发光波长 外延 缓冲层 IED 热失配 AIN 管芯
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新型半导体纳米材料的主要制备技术 被引量:4
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作者 李华乐 成立 +3 位作者 王振宇 李加元 贺星 瞿烨 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2006年第3期217-221,226,共6页
简要论述了半导体纳米材料的发展历史及其特点,着重讨论了当前国内外主要的几种半导体纳米材料的制备工艺技术,包括溶胶-凝胶法、微乳液法、模板法、基于MBE和MOCVD的纳米材料制备法、激光烧蚀法和应变自组装法等,并分析了以上几种纳米... 简要论述了半导体纳米材料的发展历史及其特点,着重讨论了当前国内外主要的几种半导体纳米材料的制备工艺技术,包括溶胶-凝胶法、微乳液法、模板法、基于MBE和MOCVD的纳米材料制备法、激光烧蚀法和应变自组装法等,并分析了以上几种纳米材料制备技术的优缺点及其应用前景。 展开更多
关键词 纳米材料 溶胶-凝胶法 分子束外延 金属有机物化学淀积 激光烧蚀淀积 应变自组装法
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1.3μm无致冷AlGaInAs/InP应变补偿量子阱激光器设计与制作 被引量:3
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作者 马宏 易新建 +2 位作者 金锦炎 杨新民 李同宁 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第2期191-195,共5页
基于半导体量子阱激光器的基本理论 ,设计了合理的 1 .3 μm无致冷 Al Ga In As/ In P应变补偿量子阱激光器结构 ,通过低压金属有机化学气相外延 ( LP-MOVPE)工艺在国内首次生长出了高质量的 Al Ga In As/ In P应变补偿量子阱结构材料 ... 基于半导体量子阱激光器的基本理论 ,设计了合理的 1 .3 μm无致冷 Al Ga In As/ In P应变补偿量子阱激光器结构 ,通过低压金属有机化学气相外延 ( LP-MOVPE)工艺在国内首次生长出了高质量的 Al Ga In As/ In P应变补偿量子阱结构材料 ,用此材料制作的器件指标为激射波长 :1 2 80 nm≤λ≤ 1 3 2 0 nm,阈值电流 :Ith( 2 5℃ )≤ 1 5m A,Ith( 85℃ )≤ 3 0 m A,量子效率变化 :Δηex( 2 5℃~ 85℃ )≤ 1 .0 d B,线性功率 :P0 ≥ 1 0 m 展开更多
关键词 ALGAINAS 应变补偿 量子阱 低压金属有机化学外延 半导体激光器 设计 制作 致冷器 铝镓铟砷化合物
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HRXRD研究退火时间对Mg掺杂P型GaN薄膜应变状态的影响 被引量:3
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作者 宁宁 熊杰 周勋 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第2期242-245,共4页
采用低压金属有机化学气相外延(LP-MOCVD)法生长Mg掺杂p型GaN薄膜,利用高分辨X射线衍射(HRXRD)技术研究不同退火时间对GaN薄膜中外延应变的影响。研究发现应变状态随退火时间变化而发生改变。退火前水平方向为压应变。在小于最佳退火时... 采用低压金属有机化学气相外延(LP-MOCVD)法生长Mg掺杂p型GaN薄膜,利用高分辨X射线衍射(HRXRD)技术研究不同退火时间对GaN薄膜中外延应变的影响。研究发现应变状态随退火时间变化而发生改变。退火前水平方向为压应变。在小于最佳退火时间(15min)的时间范围内进行退火时,由于受杂质Mg在退火过程中热扩散、替位行为引起的晶格畸变以及受主中心与价带之间的电子跃迁引起的电子效应等多种因素的影响,水平应变状态由压应变向张应变转变且随时间增加应变逐渐增强。退火时间增至30min时,由于N空位增多和复合体MgGa-VN的形成以及热应力等因素的多重影响,应变状态转变为压应变。 展开更多
关键词 低压金属有机化学外延 高分辨X射线衍射 P型GaN外延薄膜 外延应变
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SiC MESFET反向截止漏电流的研究 被引量:4
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作者 崔现锋 潘宏菽 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2010年第8期784-786,共3页
给出了一种减小SiC MESFET栅漏反向截止漏电流的工艺方法,通过采用LPCVD淀积厚SiO2和高温氧化工艺,使器件的性能得到一定的提升。从实验数据看出,器件在S波段工作时,器件的反向截止漏电流大幅度下降,且分散性得到改善,其功率附加效率和... 给出了一种减小SiC MESFET栅漏反向截止漏电流的工艺方法,通过采用LPCVD淀积厚SiO2和高温氧化工艺,使器件的性能得到一定的提升。从实验数据看出,器件在S波段工作时,器件的反向截止漏电流大幅度下降,且分散性得到改善,其功率附加效率和功率增益也分别提高了10%和1.5 dB。该方法充分发挥了SiC材料能形成自身氧化层的优势,结合Si工艺的特点,减小了氧化层的缺陷,并在一定程度上减小了器件的寄生电容。 展开更多
关键词 反向截止漏电流 碳化硅金属外延半导体场效应晶体管 氧化 低压化学淀积
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光电功能材料
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《中国光学》 EI CAS 2000年第3期98-98,共1页
TN304.054 2000032158N型GaN的持续光电导=Persistent photoconductivityin N-GaN[刊,中]/汪连山,刘祥林,岳国珍,王晓晖,汪度,陆大成,王占国(中科院半导体所.北京(100083))//半导体学报.—1999,20(5).—371-377报道了金属有机物... TN304.054 2000032158N型GaN的持续光电导=Persistent photoconductivityin N-GaN[刊,中]/汪连山,刘祥林,岳国珍,王晓晖,汪度,陆大成,王占国(中科院半导体所.北京(100083))//半导体学报.—1999,20(5).—371-377报道了金属有机物化学气相外延(MOCPE)生长的未人为掺杂和掺Si n-GaN的持续光电导。在不同温度下观察了光电导的少生和衰变行为。实验结果表明,未人为掺杂和掺Si n-GaN的持续光电导和黄光发射可能起源于深能级缺陷,这些缺陷可以是V<sub>Ga</sub>空位、N<sub>Gs</sub> 展开更多
关键词 持续光电导 半导体 化学外延 深能级缺陷 黄光发射 金属有机物 掺杂 衰变行为 光电功能材料 实验结果
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半导体激光器
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《中国光学》 EI CAS 2003年第1期26-29,共4页
TN248.4 2003010197激光二极管列阵侧面直接抽运方式的模拟计算和效果评估=Analog calculation and evaluation of LDA direct sidepumping[刊,中]/谌霖(中科院上海光机所.上海(201800)),侯霞…//光学学报.-2002,22(7).-825-828计算模... TN248.4 2003010197激光二极管列阵侧面直接抽运方式的模拟计算和效果评估=Analog calculation and evaluation of LDA direct sidepumping[刊,中]/谌霖(中科院上海光机所.上海(201800)),侯霞…//光学学报.-2002,22(7).-825-828计算模拟了激光二极管侧面直接抽运方式,讨论了抽运距离和介质吸收系数等参数对抽运均匀性的影响,并近似地给出定量结果。证明只要选取适当的抽运参数,采用侧面直接抽运方式也能获得较好的抽运性能和激光输出。图5表2参2(严寒) 展开更多
关键词 光纤光栅外腔半导体激光器 微碟激光器 抽运方式 双波长 模拟计算 低压金属有机化学外延 效果评估 实验研究 激光二极管列阵 应变补偿
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