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1
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金属有机化学气相沉积法制备ZnO和ZnO：Ni薄膜及其特性分析 |
王辉
王瑾
赵洋
赵龙
赵旺
史志锋
夏晓川
马艳
杜国同
董鑫
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《高等学校化学学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2011 |
4
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2
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金属有机化学气相沉积法制备SnO_2/MCM-41半导体传感器及其性能研究 |
刘秀丽
高国华
KAWI Sibudjing
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《高等学校化学学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2007 |
2
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3
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光加热低压金属有机化学气相淀积生长AlGaN |
周玉刚
李卫平
沈波
陈鹏
陈志忠
臧岚
张荣
顾书林
施毅
郑有翀
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《高技术通讯》
EI
CAS
CSCD
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2000 |
0 |
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4
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金属有机化学气相沉积生长Zn_(1-x)Mn_xSe薄膜的发光和磁光性质 |
鞠振刚
张吉英
吕有明
申德振
姚斌
赵东旭
张振中
李炳辉
范希武
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《发光学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2006 |
0 |
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5
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温度对GaAs（100）晶面上金属有机化学气相沉积TiO2薄膜生长的影响 |
彭补之
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《材料保护》
CAS
CSCD
北大核心
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2003 |
0 |
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6
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镍的金属有机化学气相沉积 |
赵立峰
谢长生
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《材料导报》
EI
CAS
CSCD
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2002 |
5
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7
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金属有机物化学气相沉积法沉积镍膜的影响因素 |
刘世良
赵立峰
彭冬生
谢长生
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《材料保护》
CAS
CSCD
北大核心
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2004 |
4
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8
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低压化学气相沉积MoSi_2涂层微观结构及氧化性能 |
吴恒
李贺军
王永杰
付前刚
魏建锋
王海鹏
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《材料科学与工艺》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2012 |
5
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9
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金属有机物脉冲化学气相沉积陶瓷薄膜的生长速率及形貌 |
彭补之
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《材料保护》
CAS
CSCD
北大核心
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2002 |
0 |
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10
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液态源金属有机物化学气相沉积设备 |
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《西安工业大学学报》
CAS
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2006 |
0 |
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11
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高温合金低压气相沉积渗铝工艺研究 |
张光业
张华
张厚安
尹何迟
郭建亭
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《材料保护》
CAS
CSCD
北大核心
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2006 |
8
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12
|
化学气相沉积法制备钨管性能研究 |
马捷
魏建忠
王从曾
范爱玲
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《兵工学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2011 |
5
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13
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运用低压热丝状阴极化学气相沉积技术和设置偏压沉积高方向性β—SiC薄膜 |
彭补之
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《材料保护》
CAS
CSCD
北大核心
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2003 |
0 |
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14
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在冷态反应器壁条件下低压化学气相沉积铝红柱石涂层 |
彭补之
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《材料保护》
CAS
CSCD
北大核心
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2002 |
0 |
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15
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金属所大尺寸单晶石墨烯的化学气相沉积法制备及其无损转移取得重要进展 |
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《化工新型材料》
CAS
CSCD
北大核心
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2012 |
0 |
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16
|
等离子化学气相沉积硅-硼-氮复合薄膜的组成和结构 |
于翔
于俊峰
王成彪
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《分析测试学报》
CAS
CSCD
北大核心
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2002 |
0 |
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17
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不同碳源催化化学气相沉积制备自支撑C/Ni-Fiber复合电极材料的电容脱盐性能 |
王喜文
姜芳婷
索全伶
方玉珠
路勇
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《物理化学学报》
SCIE
CAS
CSCD
北大核心
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2011 |
2
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18
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石墨烯纤维材料的化学气相沉积生长方法 |
程熠
王坤
亓月
刘忠范
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《物理化学学报》
SCIE
CAS
CSCD
北大核心
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2022 |
15
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19
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激光化学气相沉积法制备铜膜的性能与形态分析 |
茅敦民
连志睿
金忠
秦启宗
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《量子电子学》
CSCD
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1995 |
0 |
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20
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金属氧化物、硅酸盐，磷酸盐和氧化硅的气相沉积 |
彭补之
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《材料保护》
CAS
CSCD
北大核心
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2003 |
0 |
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