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低压等离子喷涂技术在功能性涂层的应用进展
被引量：
5
1
作者
朱军亮
赵子鹏
+2 位作者
易同斌
何庆兵
王征辉
《表面技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2016年第1期111-117,共7页
与常规等离子喷涂相比,低压等离子喷涂技术在真空或低压下进行等离子喷涂,可制备更低杂质、更高致密度、更高结合强度的涂层。介绍了常规等离子喷涂焰流速度高、工艺稳定性好、沉积效率高、可控性好的特点,详细阐述了低压等离子喷涂技...
与常规等离子喷涂相比,低压等离子喷涂技术在真空或低压下进行等离子喷涂,可制备更低杂质、更高致密度、更高结合强度的涂层。介绍了常规等离子喷涂焰流速度高、工艺稳定性好、沉积效率高、可控性好的特点,详细阐述了低压等离子喷涂技术清洁、高速、长焰流、预热、电清理的工艺优势,说明了低压等离子喷涂技术在热障涂层、抗气蚀涂层、面向等离子体材料等功能性涂层制备上的应用,最后从完善相关理论、与其他技术联用、工艺在线可控、气氛压力更低等方面,以及在航空、航天、电子等领域的运用,对低压等离子喷涂技术的发展进行了展望。
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关键词
低压等离子喷涂技术
热障涂层
抗气蚀涂层
面向
等离子
体材料
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职称材料
题名
低压等离子喷涂技术在功能性涂层的应用进展
被引量：
5
1
作者
朱军亮
赵子鹏
易同斌
何庆兵
王征辉
机构
重庆南开中学
西南技术工程研究所
出处
《表面技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2016年第1期111-117,共7页
文摘
与常规等离子喷涂相比,低压等离子喷涂技术在真空或低压下进行等离子喷涂,可制备更低杂质、更高致密度、更高结合强度的涂层。介绍了常规等离子喷涂焰流速度高、工艺稳定性好、沉积效率高、可控性好的特点,详细阐述了低压等离子喷涂技术清洁、高速、长焰流、预热、电清理的工艺优势,说明了低压等离子喷涂技术在热障涂层、抗气蚀涂层、面向等离子体材料等功能性涂层制备上的应用,最后从完善相关理论、与其他技术联用、工艺在线可控、气氛压力更低等方面,以及在航空、航天、电子等领域的运用,对低压等离子喷涂技术的发展进行了展望。
关键词
低压等离子喷涂技术
热障涂层
抗气蚀涂层
面向
等离子
体材料
Keywords
low pressure plasma spraying technolngy
thermal ban4er coating
anti-cavitation coating
plasma facing material
分类号
TG174.442 [金属学及工艺—金属表面处理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
低压等离子喷涂技术在功能性涂层的应用进展
朱军亮
赵子鹏
易同斌
何庆兵
王征辉
《表面技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2016
5
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