低压等离子体处理对蜡质玉米淀粉性质的影响 被引量：2

1

作者 王春玉 张岩 +1 位作者 王世清 姜文利 《粮食与油脂》 北大核心 2016年第12期66-69,共4页

采用低压等离子体对蜡质玉米淀粉进行改性。在等离子体处理时间为4 min,处理功率分别为100、200、300、400 W时,研究了蜡质玉米淀粉的红外光谱特性、交联度、糊化特性和流变学性质。实验结果表明:等离子体处理使蜡质玉米淀粉发生了交联... 采用低压等离子体对蜡质玉米淀粉进行改性。在等离子体处理时间为4 min,处理功率分别为100、200、300、400 W时,研究了蜡质玉米淀粉的红外光谱特性、交联度、糊化特性和流变学性质。实验结果表明:等离子体处理使蜡质玉米淀粉发生了交联反应,淀粉的储能模量增加,损耗模量基本不变,能形成弱凝胶;糊化难度增加,糊化温度升高。 展开更多

关键词 低压等离子体 蜡质玉米淀粉 性质

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低压直流电弧等离子体传热与流动的数值模拟 被引量：1

2

作者 闫星辰 刘敏 +3 位作者 徐国富 文魁 何翔 杨焜 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第5期57-63,共7页

根据低压等离子体喷涂所使用的F4-VB喷枪结构,建立了三维稳态湍流模型,采用Fluent软件对104 Pa低压条件下等离子体喷涂过程中等离子体的温度、速度和压强分布进行了模拟。结果表明:阴极尖端附近的等离子体温度达到最高值29 000K,随后温... 根据低压等离子体喷涂所使用的F4-VB喷枪结构,建立了三维稳态湍流模型,采用Fluent软件对104 Pa低压条件下等离子体喷涂过程中等离子体的温度、速度和压强分布进行了模拟。结果表明:阴极尖端附近的等离子体温度达到最高值29 000K,随后温度降低。等离子体速度在喷枪内急速上升,离开喷枪出口约0.01m时达到最大值6 100m/s,随后速度降低。等离子体在距离喷枪出口附近约0.07m以内经历了膨胀和压缩过程,等离子体的膨胀和压缩对速度和温度的变化有显著影响。 展开更多

关键词 低压等离子体喷涂 三维稳态模型 等离子体射流特性

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低压低温等离子体促进水分蒸发的研究 被引量：3

3

作者 杨菊芳 任雅琳 +2 位作者 陈存社 邱雯雯 董丽艳 《食品工业科技》 CAS CSCD 北大核心 2013年第6期123-125,129,共4页

研究了低压下低温等离子体对水分蒸发的影响,为后续的低温等离子体杀菌及诱变研究提供指导。实验在1.2mbar的低压下,以去离子水、脱脂乳、液体培养基作为实验物料,研究低温等离子体对这三种物料水分蒸发的促进作用。结果表明,低温等离... 研究了低压下低温等离子体对水分蒸发的影响,为后续的低温等离子体杀菌及诱变研究提供指导。实验在1.2mbar的低压下,以去离子水、脱脂乳、液体培养基作为实验物料,研究低温等离子体对这三种物料水分蒸发的促进作用。结果表明,低温等离子体能明显促进水分的蒸发,在不同的物料中水分的蒸发率各不相同(小试管:去离子水>脱脂乳>液体培养基,大试管实验结果刚好相反),且大试管中水分的蒸发率明显低于小试管。此时主要发生两个效应:等离子体的热效应和由低温等离子体激发产生的水蒸气等离子体活化效应。低温等离子体将作为一项新兴的并具有广阔前景的技术应用于食品工业。 展开更多

关键词 低压低温等离子体 水分 蒸发

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奥氏体不锈钢低温渗氮层的组织与耐磨性 被引量：29

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作者 王亮 许晓磊 +2 位作者 许彬 于志伟 黑祖昆 《摩擦学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第1期67-69,共3页

利用低压等离子体弧离子源在350～450℃之间对奥氏体不锈钢进行快速渗氮表面强化,在适当的工艺条件下,处理90min即可得到厚度10μm左右的高硬度的氮过饱和奥氏体固溶体强化层.采用X射线衍射、电子探针及俄歇谱仪等对渗层进行结构分析表... 利用低压等离子体弧离子源在350～450℃之间对奥氏体不锈钢进行快速渗氮表面强化,在适当的工艺条件下,处理90min即可得到厚度10μm左右的高硬度的氮过饱和奥氏体固溶体强化层.采用X射线衍射、电子探针及俄歇谱仪等对渗层进行结构分析表明,在处理温度低于450℃时,渗层为单相氮过饱和奥氏体固溶体层,表面氮可以达到15%,显微硬度达到1200HV,与原基体材料相比。 展开更多

关键词 低压等离子体 渗氮 奥氏体不锈钢 耐磨性

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α-C∶H膜化学结构对光学性能的影响 被引量：4

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作者 刘兴华 吴卫东 +3 位作者 何智兵 张宝玲 王红斌 蔡从中 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第3期350-354,共5页

选用体积分数为99.9999%的H2及反式-2-丁烯(T2B)为工作气体,利用低压等离子体增强化学气相沉积法制备了α-C∶H薄膜。利用傅里叶变换红外光谱仪和X射线光电子能谱对薄膜化学键和电子结构进行分析,并结合高斯分峰拟合分析了薄膜中sp3/sp... 选用体积分数为99.9999%的H2及反式-2-丁烯(T2B)为工作气体,利用低压等离子体增强化学气相沉积法制备了α-C∶H薄膜。利用傅里叶变换红外光谱仪和X射线光电子能谱对薄膜化学键和电子结构进行分析,并结合高斯分峰拟合分析了薄膜中sp3/sp2杂化键比值和sp3C杂化键分数。结果表明:薄膜中氢含量较高,主要以sp3C—H形式存在;工作气压越高,制备的薄膜中C=C键含量越少,薄膜中sp3/sp2杂化键比值和sp3C杂化键分数增加,薄膜稳定性提高。应用UV-VIS光谱仪,获得了波长在400～1000nm范围内薄膜的光吸收特性,结果显示:α-C∶H薄膜透过率可达98%。光学常数公式计算得到工作压强为4～14Pa时光学带隙在2.66～2.76之间,并均随着工作气压的升高而增大。结果表明,随工作气压的升高,薄膜内sp3键减小,从而促使透过率、光学带隙增大。 展开更多

关键词 α-C∶H薄膜 化学键 透过率 光学带隙 低压等离子体增强化学气相沉积法

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C_xH_(1-x)薄膜制备 被引量：9

6

作者 吴卫东 罗江山 +1 位作者 张占文 黄勇 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第4期319-322,共4页

以反式２丁烯为工作气体，采用低压等离子体化学气相沉积法制备 Ｃｘ Ｈ１－ ｘ薄膜。研究了在不同的 Ｈ２ 与反式２丁烯流量比下制备的 Ｃｘ Ｈ１－ ｘ薄膜的傅里叶变换红外光谱（ Ｆ Ｔ Ｉ Ｒ）及 Ｘ Ｐ Ｓ谱的特性。初步... 以反式２丁烯为工作气体，采用低压等离子体化学气相沉积法制备 Ｃｘ Ｈ１－ ｘ薄膜。研究了在不同的 Ｈ２ 与反式２丁烯流量比下制备的 Ｃｘ Ｈ１－ ｘ薄膜的傅里叶变换红外光谱（ Ｆ Ｔ Ｉ Ｒ）及 Ｘ Ｐ Ｓ谱的特性。初步探讨了 Ｃｘ Ｈ１－ ｘ的生长机理。膜中ｓｐ３ 杂化碳原子和ｓｐ２ 杂化碳原子的数量以及两者的比例与沉积条件有关。 展开更多

关键词 低压等离子体 薄膜 非晶碳氢薄膜 制备

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掺溴非晶碳梯度薄膜的制备与分析 被引量：2

7

作者 马兆侠 吴卫东 +3 位作者 冯建鸿 程新路 唐永建 杨向东 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第1期83-85,共3页

采用低压等离子增强化学气相沉积法用溴乙烷、氢气制备了掺溴的非晶碳梯度薄膜。通过样品的XPS能谱分析研究了薄膜沉积速率与氢气流量、溴元素原子分数与溴乙烷流量以及溴元素原子分数与刻蚀时间之间的关系,得出了溴乙烷流量、刻蚀时间... 采用低压等离子增强化学气相沉积法用溴乙烷、氢气制备了掺溴的非晶碳梯度薄膜。通过样品的XPS能谱分析研究了薄膜沉积速率与氢气流量、溴元素原子分数与溴乙烷流量以及溴元素原子分数与刻蚀时间之间的关系,得出了溴乙烷流量、刻蚀时间对薄膜的主要键态含量、C元素sp2/sp3键态杂化比和薄膜硬度的影响。结果表明:薄膜沉积速率随氢气流量的增加而线性减小,溴元素含量随溴乙烷流量的增加先增加后降低,刻蚀时间越长,溴乙烷流量越小,薄膜越硬。 展开更多

关键词 低压等离子体 化学气相沉积 掺溴梯度薄膜 XPS能谱 非晶碳

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不同气体组分的PS-PVD射流光谱诊断 被引量：2

8

作者 王凯 刘敏 +2 位作者 毛杰 邓子谦 文魁 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2017年第10期2995-2999,共5页

采用发射光谱分析不同气体组分的等离子喷涂-物理气相沉积(PS-PVD)射流,通过Abel转换得出射流径向各点处的光谱强度,比较和分析射流中不同气体的成分分布。采用多谱线斜率法研究不同气体组分的射流在径向距离上电子温度的变化,通过Hβ... 采用发射光谱分析不同气体组分的等离子喷涂-物理气相沉积(PS-PVD)射流,通过Abel转换得出射流径向各点处的光谱强度,比较和分析射流中不同气体的成分分布。采用多谱线斜率法研究不同气体组分的射流在径向距离上电子温度的变化,通过Hβ谱线的stark展宽计算径向上电子密度的分布。结果表明:Ar/H_2气体中,H_2在焰流中心区域(0~30mm)分布较为均匀,但在焰流中心稍靠外的区域(30~60mm)随着径向距离的增加而增加;加入He后,Ar和H_2在焰流中心处浓度较低并在一定范围内随着径向距离的增加而增加,He往焰流中心聚集;不同气体组分的电子温度和电子密度随着径向距离的增加而降低,同时受到H_2和He的影响。 展开更多

关键词 超低压等离子体射流 发射光谱 气体组分 电子温度 电子密度

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硅掺杂辉光放电聚合物薄膜的成分结构分析 被引量：1

9

作者 唐定平 何智兵 +4 位作者 陈志梅 谢征微 李玲 阳志林 闫建成 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第6期667-670,共4页

以H2、反式二丁烯（T2B）和四甲基硅烷（TMS）混合气体为工作气体，在不同TMS流量条件下，用低压等离子体增强化学气相沉积法制备了Si掺杂辉光放电聚合物（GDP）薄膜。采用傅里叶变换红外光谱表征了不同TMS流量下Si掺杂GDP薄膜的化学组... 以H2、反式二丁烯（T2B）和四甲基硅烷（TMS）混合气体为工作气体，在不同TMS流量条件下，用低压等离子体增强化学气相沉积法制备了Si掺杂辉光放电聚合物（GDP）薄膜。采用傅里叶变换红外光谱表征了不同TMS流量下Si掺杂GDP薄膜的化学组成结构。X射线光电子能谱表征了Si掺杂GDP薄膜成分，分析了TMS流量对Si掺杂GDP薄膜化学结构与元素组成的影响。研究表明：薄膜中成功地掺入了Si元素；Si掺杂GDP薄膜中Si元素主要以Si—C，Si—H等键合形式存在；在TMS流量为0．5～2mL／min（标准状态）的范围内，薄膜中Si的原子浓度为0．72％～1．35％；随着TMS流量的逐渐增加，薄膜中Si含量逐渐增大。 展开更多

关键词 低压等离子体增强化学气相沉积 Si掺杂辉光放电聚合物薄膜 X射线光电子能谱 傅里叶变换红外光谱

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α-C_xN_y:H_(1-x-y)薄膜的制备和光学性能分析

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作者 李建根 吴卫东 马婷婷 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第12期1517-1521,共5页

采用外置式电容耦合低压等离子体化学气相沉积法,以高纯CH4/N2/H2作为反应气体,制备非晶α-CxNy:H1-x-y薄膜。研究了薄膜沉积速率和入射功率之间的关系,随着功率增大,薄膜沉积速率先增大后减小;SEM图像表明薄膜无层状、柱状结构;AFM图... 采用外置式电容耦合低压等离子体化学气相沉积法,以高纯CH4/N2/H2作为反应气体,制备非晶α-CxNy:H1-x-y薄膜。研究了薄膜沉积速率和入射功率之间的关系,随着功率增大,薄膜沉积速率先增大后减小;SEM图像表明薄膜无层状、柱状结构;AFM图像表明薄膜粗糙度在0.2～0.3nm之间;傅里叶红外光谱(FTIR)显示了薄膜的成键情况;紫外-可见-近红外光谱表明,随着入射功率的增大,薄膜的光学带隙逐渐减小。 展开更多

关键词 外置式电容耦合低压等离子体化学气相沉积法 α-CxNy:H1-x-y薄膜 沉积速率 形貌 光学特性

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三种改进防火涂料性能的新技术探讨

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作者 宋康 《涂料工业》 CAS CSCD 2005年第11期27-29,共3页

介绍了防火涂料的发展方向。使用低压冷等离子体技术制备防火涂料,可以大大提高涂料的耐火性能, 涂层的热释放速率降低约50％;在防火涂料中添加少量纳米颜填料,可以提高耐火性能,减少阻燃剂用量;使用环保新 材料制造防火涂料,也是防火... 介绍了防火涂料的发展方向。使用低压冷等离子体技术制备防火涂料,可以大大提高涂料的耐火性能, 涂层的热释放速率降低约50％;在防火涂料中添加少量纳米颜填料,可以提高耐火性能,减少阻燃剂用量;使用环保新 材料制造防火涂料,也是防火涂料发展的一个重要方向。 展开更多

关键词 防火涂料 低压冷等离子体 纳米技术 环保新材料

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