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低压化学气相沉积的B掺杂ZnO薄膜的光电性能
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作者 许亚军 马浩然 +1 位作者 吴珺 沈鸿烈 《功能材料》 北大核心 2025年第7期7217-7222,共6页
研究了LPCVD沉积硼掺杂氧化锌薄膜的生长条件和退火条件对于薄膜性能的影响。分别研究了在FGA、N_(2)和空气退火下对薄膜迁移率和体载流浓度的影响。研究证明了ALD沉积的Al_(2)O_(3)/ZnO:B叠层的钝化特性与Al_(2)O_(3)厚度、界面氧化物... 研究了LPCVD沉积硼掺杂氧化锌薄膜的生长条件和退火条件对于薄膜性能的影响。分别研究了在FGA、N_(2)和空气退火下对薄膜迁移率和体载流浓度的影响。研究证明了ALD沉积的Al_(2)O_(3)/ZnO:B叠层的钝化特性与Al_(2)O_(3)厚度、界面氧化物状态和退火条件密切相关。在最佳退火条件下,当Al_(2)O_(3)厚度仅为2 nm左右时,叠层的iVoc值可达到687 mV。通过测量不同测试结构的接触电阻率,发现ZnO:B与ITO/Ag的接触电阻率最低可至2.9 mΩ·cm^(2)。 展开更多
关键词 氧化锌薄膜 低压化学气相沉积 钝化接触 接触电阻率
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低压化学气相沉积MoSi_2涂层微观结构及氧化性能 被引量:5
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作者 吴恒 李贺军 +3 位作者 王永杰 付前刚 魏建锋 王海鹏 《材料科学与工艺》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第1期26-30,共5页
为了防止Mo合金的高温氧化,本研究采用低压化学气相沉积技术在Mo合金表面制备MoSi2抗氧化涂层,借助X射线衍射仪、扫描电镜及能谱仪等分析手段,对涂层的微观结构进行了研究,测试了涂层的抗氧化和抗热震性.结果表明:MoSi2涂层结构致密,仅... 为了防止Mo合金的高温氧化,本研究采用低压化学气相沉积技术在Mo合金表面制备MoSi2抗氧化涂层,借助X射线衍射仪、扫描电镜及能谱仪等分析手段,对涂层的微观结构进行了研究,测试了涂层的抗氧化和抗热震性.结果表明:MoSi2涂层结构致密,仅有少量微裂纹存在,表现出良好的抗热震和抗氧化性能;经20次1300℃-室温循环热震实验后,涂层未出现开裂与脱落现象;涂层试样在1300℃氧化气氛下氧化180 h,失重率小于0.83%,分析揭示了涂层试样氧化失重的主要原因为氧扩散通过涂层与Mo基体发生反应,生成极易挥发的MoO、MoO2、MoO3,氧在涂层中的扩散速率决定了涂层的失重速率. 展开更多
关键词 低压化学气相沉积 MoSi2涂层 微观结构 抗氧化
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低压化学气相沉积技术制备锗反蛋白石三维光子晶体 被引量:2
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作者 李宇杰 谢凯 +3 位作者 许静 韩喻 涂圣义 李运鹏 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第2期281-284,共4页
采用溶剂蒸发对流自组装法将单分散SiO2微球组装形成三维有序胶体晶体模板,用低压化学气相沉积法填充高折射率材料锗,酸洗去除SiO2模板,获得了锗反蛋白石三维光子晶体.通过扫描电镜、X射线衍射仪和紫外-可见-近红外光谱仪对锗反蛋白石... 采用溶剂蒸发对流自组装法将单分散SiO2微球组装形成三维有序胶体晶体模板,用低压化学气相沉积法填充高折射率材料锗,酸洗去除SiO2模板,获得了锗反蛋白石三维光子晶体.通过扫描电镜、X射线衍射仪和紫外-可见-近红外光谱仪对锗反蛋白石的形貌、成分、结构和光学性能进行了表征.结果表明:锗在SiO2微球空隙内具有较高的结晶质量,填充致密均匀.通过改变沉积工艺,可控制锗的填充率;制备的锗反蛋白三维光子晶体具有明显的光学反射峰,表现出光学带隙效应.测试的光学性能与理论计算基本吻合. 展开更多
关键词 锗反蛋白石 光子晶体 低压化学气相沉积 溶剂蒸发对流自组装
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低压化学气相沉积法生长B掺杂ZnO薄膜及其性能 被引量:2
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作者 徐小科 赵俊亮 +3 位作者 李效民 吴永庆 杨哲 何兵 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第7期7043-7047,共5页
低压化学气相沉积法生长的 B 掺杂 ZnO 薄膜具有良好的光散射特性,可以用作硅基薄膜太阳能电池的前电极.以 Zn (C2 H 5)2和 H 2 O 为前驱体, B2 H 6为掺杂物,通过低压化学气相沉积法在玻璃衬底上生长了 B 掺杂 ZnO 薄膜.通过 XRD、... 低压化学气相沉积法生长的 B 掺杂 ZnO 薄膜具有良好的光散射特性,可以用作硅基薄膜太阳能电池的前电极.以 Zn (C2 H 5)2和 H 2 O 为前驱体, B2 H 6为掺杂物,通过低压化学气相沉积法在玻璃衬底上生长了 B 掺杂 ZnO 薄膜.通过 XRD、FESEM、四探针测试仪等手段对样品的结构特征、微观形貌及导电性能进行表征,着重研究了(110)取向的 BZO 薄膜的生长机理.结果表明,厚度在500 nm 以下的 BZO 薄膜主要表现为(002)取向,随着厚度的增加,薄膜取向开始向(110)转变.所得 BZO 镀膜玻璃在400-1000 nm范围内总透过率>80%,雾度最高可达28%(550 nm),方块电阻最低约7Ω/□,电阻率最低约1.0×10^-3Ω·cm. 展开更多
关键词 透明导电氧化物 生长机理 雾度 低压化学气相沉积(LPCVD)
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低压化学气相沉积法制备单壁碳纳米管
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作者 李燕 李梦轲 +1 位作者 王成伟 力虎林 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第5期538-539,542,共3页
 采用低压化学气相沉积(CVD)技术在MgO载体中的Fe、Co等纳米催化颗粒上制备碳纳米管(CNTs),用高分辨透射电子显微镜(HRTEM)及喇曼光谱仪(Raman)对生长的CNTs结构特性进行了分析研究,结果表明制备的样品中虽含多壁碳纳米管,但单壁碳纳米...  采用低压化学气相沉积(CVD)技术在MgO载体中的Fe、Co等纳米催化颗粒上制备碳纳米管(CNTs),用高分辨透射电子显微镜(HRTEM)及喇曼光谱仪(Raman)对生长的CNTs结构特性进行了分析研究,结果表明制备的样品中虽含多壁碳纳米管,但单壁碳纳米管(SWNTs)居多,直径约为0.6~2nm,分布均匀,且既包含金属型管,也包含半导体型管。低压MgO载体CVD制备技术,大大增加了等量Fe、Co等催化反应颗粒的比表面积和反应活性,制备的单壁管产额大、成本低、CNTs更易于提纯。 展开更多
关键词 单壁碳纳米管 低压化学气相沉积 制备 MgO载体 纳米催化颗粒
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低压热丝化学气相沉积法快速合成1-2层石墨烯薄膜 被引量:1
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作者 刘进 吕媛媛 +4 位作者 张志勇 闫军锋 赵武 贠江妮 翟春雪 《西北大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2017年第2期227-230,236,共5页
利用镍衬底独特的渗碳-析碳机制,分别引入混合气体氢气和乙炔,使用低压热丝化学气相沉积法(LPHFCVD),在镍衬底上生长石墨烯(Graphene)薄膜。通气时长分别为5s,60s,300s,极大地节省了时间和成本。制备的样品分别通过拉曼光谱(Raman),X光... 利用镍衬底独特的渗碳-析碳机制,分别引入混合气体氢气和乙炔,使用低压热丝化学气相沉积法(LPHFCVD),在镍衬底上生长石墨烯(Graphene)薄膜。通气时长分别为5s,60s,300s,极大地节省了时间和成本。制备的样品分别通过拉曼光谱(Raman),X光电子能谱(XPS),扫描电镜(SEM)等分析表征手段对其结构、形貌、缺陷等进行表征。拉曼光谱表明石墨烯薄膜的D,G,2D峰在不同温度、不同反应时间条件下不同的层数、缺陷密度和结晶质量,其中以950℃,5s的条件制备得到的石墨烯薄膜为1-2层,且缺陷极少,结晶质量很高。XPS的结果进一步确认了按照以上条件制备的石墨烯薄膜具有很高的结晶质量和很低的缺陷密度。SEM则显示了在镍衬底上制备石墨烯薄膜的形貌。 展开更多
关键词 石墨烯 低压热丝化学气相沉积 拉曼光谱 缺陷
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气相捕获腔对石墨烯低压化学气相沉积形核生长的影响 被引量:1
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作者 史永贵 桑昭君 +1 位作者 王允威 赵高扬 《人工晶体学报》 EI CAS 北大核心 2020年第3期439-445,共7页
基于石墨烯低压化学气相沉积技术,通过调控甲烷流量对比研究了传统生长腔和气相捕获腔中石墨烯在铜箔衬底上的形核生长特点。结果表明,与传统生长腔相比,气相捕获腔能够将石墨烯的形核密度降低3个数量级,并促使石墨烯晶核快速长大。同时... 基于石墨烯低压化学气相沉积技术,通过调控甲烷流量对比研究了传统生长腔和气相捕获腔中石墨烯在铜箔衬底上的形核生长特点。结果表明,与传统生长腔相比,气相捕获腔能够将石墨烯的形核密度降低3个数量级,并促使石墨烯晶核快速长大。同时,气相捕获腔能够为石墨烯提供一个稳定的生长环境,有利于制备晶格完美的石墨烯晶畴,并为石墨烯晶畴的融合提供更多的有效活性碳原子,加速石墨烯晶畴之间的融合,提高石墨烯薄膜的质量。在此基础上分析了气相捕获腔对石墨烯低压化学气相沉积形核生长的影响机理。 展开更多
关键词 石墨烯 低压化学气相沉积 气相捕获腔 铜箔 形核 生长
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Ti_(1-x)AI_xN涂层低压化学气相沉积(CVD)技术
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《工具技术》 2014年第3期I0018-I0018,共1页
随着高速干式切削工艺以及硬质材料切削需求的增加,对切削工具的需求也随之增大。这类材料包括高强度钢、铸造材料以及用于汽车以及航空工程的高强度合金材料。当切削工具高速运转时,
关键词 Ti1-xAlxN涂层 低压化学气相沉积 技术 切削工艺 切削工具 高强度钢 硬质材料 合金材料
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低压CVD氮化硅薄膜的沉积速率和表面形貌 被引量:7
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作者 刘学建 金承钰 +2 位作者 张俊计 黄智勇 黄莉萍 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2004年第2期379-384,共6页
以三氯硅烷(TCS)和氨气分别作为低压化学气相沉积(LPCVD)氮化硅薄膜(SiNx)的硅源和氮源,以高纯氮气为载气,在热壁型管式反应炉中,借助椭圆偏振仪和原子力显微镜,系统考察了工作总压力、反应温度、气体原料组成等工艺因素对SiNx薄膜沉积... 以三氯硅烷(TCS)和氨气分别作为低压化学气相沉积(LPCVD)氮化硅薄膜(SiNx)的硅源和氮源,以高纯氮气为载气,在热壁型管式反应炉中,借助椭圆偏振仪和原子力显微镜,系统考察了工作总压力、反应温度、气体原料组成等工艺因素对SiNx薄膜沉积速率和表面形貌的影响.结果表明:随着工作压力的增大,SiNx薄膜的沉积速率逐渐增加,并产生一个峰值.随着原料气中NH3/TCS流量比值的增大,SiNx薄膜的沉积速率逐渐增加,随后逐步稳定.随着反应温度的升高,沉积速率逐渐增加,在830℃附近达到最大,随着反应温度的进一步升高,由于反应物的热分解反应迅速加剧,使得SiNx薄膜的沉积速率急剧降低.在730-830℃的温度范围内,沉积SiNx薄膜的反应表观活化能约为171kJ/mol.在适当的工艺条件下,制备的SiNx薄膜均匀、平整.较低的薄膜沉积速率有助于提高薄膜的均匀性,降低薄膜的表面粗糙度. 展开更多
关键词 LPCVD 氮化硅薄膜 沉积速率 表面形貌 低压化学气相沉积 制备工艺
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低压化学气相淀积的模型及模拟 被引量:1
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作者 徐大为 李伟华 周再发 《中国机械工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第z1期207-209,共3页
通过对几个淀积工艺模型的讨论,分析了气体在低压下的传输机理及各部分反应对淀积结果的贡献,在此基础上提出了低压化学气象淀积(LPCVD)的二维淀积模型.这个模型在结构上比较简单,计算方便,模型考虑了中间产物的作用,能得到与实际情况... 通过对几个淀积工艺模型的讨论,分析了气体在低压下的传输机理及各部分反应对淀积结果的贡献,在此基础上提出了低压化学气象淀积(LPCVD)的二维淀积模型.这个模型在结构上比较简单,计算方便,模型考虑了中间产物的作用,能得到与实际情况较为符合的结构.最后使用C语言编程,采用线算法将模型变为程序,计算过程较为简单,计算速度较快. 展开更多
关键词 低压化学气象沉积(LPCVD) 淀积模拟 计算机模拟 线算法
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TOPCon太阳电池单面沉积Poly-Si的工艺研究 被引量:1
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作者 代同光 谭新 +4 位作者 宋志成 郭永刚 袁雅静 倪玉凤 汪梁 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2024年第5期818-823,共6页
目前隧穿氧化层钝化接触(TOPCon)电池制造技术越来越成熟,所耗成本不断降低。行业内普遍采用低压化学气相沉积(LPCVD)方式进行双面沉积或单面沉积。单面沉积存在Poly-Si绕镀问题,严重影响电池片转化效率和外观质量,同时正面绕镀层去除... 目前隧穿氧化层钝化接触(TOPCon)电池制造技术越来越成熟,所耗成本不断降低。行业内普遍采用低压化学气相沉积(LPCVD)方式进行双面沉积或单面沉积。单面沉积存在Poly-Si绕镀问题,严重影响电池片转化效率和外观质量,同时正面绕镀层去除难度较大,在用碱溶液去除绕镀层的同时,存在绕镀层去除不彻底或者非绕镀区域P^(+)层被腐蚀的风险,导致P^(+)发射极受损,严重影响电池片外观质量与性能。双面沉积可避免上述问题,但产能减少一半,制造成本增加。本文对单面沉积Poly-Si工艺及绕镀层去除工艺进行研究,在TOPCon电池正面及背面制作了一层合适厚度的氧化层掩膜,搭配合适的清洗工艺、去绕镀清洗工艺,既可有效地去除P^(+)层绕镀的Poly-Si,也可很好地保护正面P^(+)层及背面掺杂Poly-Si层不受破坏,同时可大幅提升产能。 展开更多
关键词 TOPCon太阳电池 Poly-Si绕镀层 低压化学气相沉积 BSG PSG 腐蚀速率
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镓源温度对LPCVD氧化镓外延温度场影响的仿真研究
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作者 胡继超 赵启阳 +5 位作者 杨志昊 杨莺 彭博 丁雄杰 刘薇 张红 《人工晶体学报》 北大核心 2025年第3期452-461,共10页
低压化学气相沉积(LPCVD)卧式反应炉腔体内的温度高,结构复杂,通入反应气体时容易导致反应室内温度分布不均匀,影响制备薄膜的质量。为了制备出更高质量的薄膜,根据反应炉的设备数据建立反应腔体的物理模型;基于热传导、热对流、热辐射... 低压化学气相沉积(LPCVD)卧式反应炉腔体内的温度高,结构复杂,通入反应气体时容易导致反应室内温度分布不均匀,影响制备薄膜的质量。为了制备出更高质量的薄膜,根据反应炉的设备数据建立反应腔体的物理模型;基于热传导、热对流、热辐射等模型,应用有限元仿真软件对反应过程中涉及的流场、热场、化学反应场和稀物质传递场等多物理场进行仿真模拟。通过改变镓源温度等工艺参数,模拟LPCVD反应腔体内的温度变化对β-Ga_(2)O_(3)薄膜沉积特性的影响。仿真结果表明,制备的薄膜均匀性随镓源温度的升高而降低,薄膜的沉积速率随温度的升高而增加,镓源温度为900~950℃时,可以得到质量较好的薄膜。通过优化工艺参数,LPCVD外延生长的β-Ga_(2)O_(3)薄膜的厚度和均匀度得到提升,可以制备出性能更加良好的Ga_(2)O_(3)器件。 展开更多
关键词 低压化学气相沉积 Ga_(2)O_(3) 有限元仿真 温场 薄膜均匀性 生长速率
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LPCVD法制备SiC-MoSi_2涂层的形貌及沉积机理研究 被引量:1
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作者 何子博 李贺军 +2 位作者 史小红 付前刚 吴恒 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第20期1-5,共5页
为提高碳/碳复合材料抗氧化性能,以甲基三氯硅烷(MTS)为先驱体,利用低压化学气相沉积(LPCVD)技术在碳/碳复合材料表面制备SiC-MoSi2涂层,通过XRD和SEM分析了不同沉积温度下涂层结构、物相组成及其沉积机理。结果表明,沉积温度对涂层的... 为提高碳/碳复合材料抗氧化性能,以甲基三氯硅烷(MTS)为先驱体,利用低压化学气相沉积(LPCVD)技术在碳/碳复合材料表面制备SiC-MoSi2涂层,通过XRD和SEM分析了不同沉积温度下涂层结构、物相组成及其沉积机理。结果表明,沉积温度对涂层的成分、结构及致密度有较大影响,在1100~1250℃均可成功得到SiC-MoSi2涂层,1100℃所得涂层结构疏松多孔;1250℃制备的涂层中间部位孔隙较多,表层为致密SiC涂层;1150~1200℃之间可得到均匀致密、以MoSi2颗粒为分散相、以CVD-SiC为连续相的SiC-MoSi2双相陶瓷涂层。 展开更多
关键词 低压化学气相沉积SiC-MoSi2双相陶瓷涂层沉积温度沉积机理
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α-C∶H膜化学结构对光学性能的影响 被引量:4
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作者 刘兴华 吴卫东 +3 位作者 何智兵 张宝玲 王红斌 蔡从中 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第3期350-354,共5页
选用体积分数为99.9999%的H2及反式-2-丁烯(T2B)为工作气体,利用低压等离子体增强化学气相沉积法制备了α-C∶H薄膜。利用傅里叶变换红外光谱仪和X射线光电子能谱对薄膜化学键和电子结构进行分析,并结合高斯分峰拟合分析了薄膜中sp3/sp... 选用体积分数为99.9999%的H2及反式-2-丁烯(T2B)为工作气体,利用低压等离子体增强化学气相沉积法制备了α-C∶H薄膜。利用傅里叶变换红外光谱仪和X射线光电子能谱对薄膜化学键和电子结构进行分析,并结合高斯分峰拟合分析了薄膜中sp3/sp2杂化键比值和sp3C杂化键分数。结果表明:薄膜中氢含量较高,主要以sp3C—H形式存在;工作气压越高,制备的薄膜中C=C键含量越少,薄膜中sp3/sp2杂化键比值和sp3C杂化键分数增加,薄膜稳定性提高。应用UV-VIS光谱仪,获得了波长在400~1000nm范围内薄膜的光吸收特性,结果显示:α-C∶H薄膜透过率可达98%。光学常数公式计算得到工作压强为4~14Pa时光学带隙在2.66~2.76之间,并均随着工作气压的升高而增大。结果表明,随工作气压的升高,薄膜内sp3键减小,从而促使透过率、光学带隙增大。 展开更多
关键词 α-C∶H薄膜 化学 透过率 光学带隙 低压等离子体增强化学气相沉积
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p型TOPCon结构的隧穿氧化和钝化工艺研究
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作者 高嘉庆 屈小勇 +5 位作者 吴翔 郭永刚 王永冈 汪梁 谭新 杨鑫泽 《人工晶体学报》 北大核心 2025年第1期133-138,共6页
为深入研究p型TOPCon结构的制备工艺和钝化性能,本文通过实验研究了隧穿氧化层生长过程中氧气流量、氧化温度和氧化时间对氧化层质量的影响,以及在不同硼扩散温度下p-poly的钝化性能和方块电阻。实验结果表明,氧气流量达到15 slm(标准... 为深入研究p型TOPCon结构的制备工艺和钝化性能,本文通过实验研究了隧穿氧化层生长过程中氧气流量、氧化温度和氧化时间对氧化层质量的影响,以及在不同硼扩散温度下p-poly的钝化性能和方块电阻。实验结果表明,氧气流量达到15 slm(标准升每分钟)以上,p-poly的隐开路电压平均值达到730 mV,暗饱和电流密度低至3.5 fA/cm^(2)。氧化温度和时间分别达到620℃和30 min时,p-poly的隐开路电压可提升至735 mV;随着氧化温度的提高或者氧化时间的延长,p-poly的隐开路电压趋于稳定。硼扩散温度为960℃时,p-poly的方块电阻保持在132Ω/,硅基体中的掺杂结深为0.25μm,获得了良好的钝化性能。本文所确定的工艺参数可制备出具有良好钝化性能的p-poly结构,对未来p型TOPCon结构在高效晶硅电池上的产业化应用提供了一定的数据支撑。 展开更多
关键词 p型TOPCon结构 低压化学气相沉积 钝化质量 隐开路电压 暗饱和电流密度 太阳能电池
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沉积位置对LPCVD SiC涂层微观结构的影响
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作者 张渭阳 郭领军 +2 位作者 王少龙 景伟 付前刚 《固体火箭技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第5期724-728,733,共6页
采用低压化学气相沉积法( LPCVD)在炭纤维表面制备了SiC涂层,借助扫描电镜、X射线衍射仪和拉曼光谱仪对不同沉积位置SiC涂层的微观形貌和晶体结构进行了表征。 SEM结果表明,沿气流方向,涂层表面逐渐致密和均匀;SiC涂层为多层结构... 采用低压化学气相沉积法( LPCVD)在炭纤维表面制备了SiC涂层,借助扫描电镜、X射线衍射仪和拉曼光谱仪对不同沉积位置SiC涂层的微观形貌和晶体结构进行了表征。 SEM结果表明,沿气流方向,涂层表面逐渐致密和均匀;SiC涂层为多层结构,这种多层结构的形成可能是由于反应中产生的HCl气体吸附在表面反应活性点,从而通过活性点的阻塞机制来阻止SiC晶粒的生长。 XRD结果表明,制备的涂层中存在自由碳,各位置处的SiC晶体在(111)晶面存在择优取向,且沿气流方向(111)晶面的取向性逐渐减弱,(220)和(311)晶面的取向性逐渐增加。拉曼光谱低段频谱(200~600 cm-1)的出现表明CVD涂层中存在一定的缺陷。 展开更多
关键词 低压化学气相沉积 沉积位置 SIC涂层 微观结构
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8英寸晶圆低损耗厚氮化硅波导的工艺开发 被引量:1
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作者 丛庆宇 李赵一 +3 位作者 周敬杰 范作文 贾连希 胡挺 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第9期93-103,共11页
在8英寸晶圆上制备氮化硅膜厚度超过400 nm时,产生的拉伸应力会使薄膜产生裂纹,为此,采用大马士革工艺,通过低压化学气相沉积分两步沉积、抛光氮化硅薄膜,同时结合棋盘格结构,减小应力,降低薄膜出现裂纹的风险。使用此方法成功在8英寸... 在8英寸晶圆上制备氮化硅膜厚度超过400 nm时,产生的拉伸应力会使薄膜产生裂纹,为此,采用大马士革工艺,通过低压化学气相沉积分两步沉积、抛光氮化硅薄膜,同时结合棋盘格结构,减小应力,降低薄膜出现裂纹的风险。使用此方法成功在8英寸晶片上制造了截面尺寸为800 nm×0.8µm的氮化硅波导。两步沉积过后进行两次退火处理,可以进一步降低波导损耗,通过采用cut-back的方式测试波导传输损耗在1550 nm处为0.087 dB/cm,在1580 nm处为0.062 dB/cm。波导的弯曲损耗在半径为50µm时为0.0065 dB,在半径为80µm时仅为0.006 dB。 展开更多
关键词 光电子学 光波导 8英寸 氮化硅 低压化学气相沉积 工艺优化 低损耗
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MEMS微热板结构设计与仿真 被引量:1
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作者 王玫 王旭丹 姜利英 《传感器与微系统》 CSCD 北大核心 2024年第10期100-104,共5页
微热板作为很多微机电系统(MEMS)传感器和执行器的基础结构,对器件性能影响极大,在气体传感器、燃料电池等领域都有着重要的应用。本文提出了几种悬浮式结构的微热板设计,并利用有限元分析方法(FEA),在气体传感器常用的工作温度400℃下... 微热板作为很多微机电系统(MEMS)传感器和执行器的基础结构,对器件性能影响极大,在气体传感器、燃料电池等领域都有着重要的应用。本文提出了几种悬浮式结构的微热板设计,并利用有限元分析方法(FEA),在气体传感器常用的工作温度400℃下,从热稳定性、机械稳定性、功耗和效率多方面对微热板进行了仿真,结果表明:螺旋形微热板的综合性能更好。进一步对可能影响微热板性能的多个因素,如电极电压、支撑层厚度、微加热器线宽间距比等进行了优化,获得了综合性能最优的微热板图形及参数设计。 展开更多
关键词 微热板 有限元分析方法 MEMS传感器 气体传感器 低压化学气相沉积
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腔体材料对氧化铜箔衬底上制备石墨烯的影响
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作者 沈曦 史永贵 +4 位作者 万玉慧 付影 马嘉恒 杨浩东 王艺佳 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2024年第9期1648-1654,共7页
传统的化学气相沉积法制备的石墨烯普遍存在晶畴面积小、晶界缺陷多的问题,严重制约了大面积石墨烯的性能及应用。本文采用低压化学气相沉积技术在受限生长腔中的氧化铜箔衬底上制备石墨烯,对比研究了石英和刚玉两种材质的受限生长腔中... 传统的化学气相沉积法制备的石墨烯普遍存在晶畴面积小、晶界缺陷多的问题,严重制约了大面积石墨烯的性能及应用。本文采用低压化学气相沉积技术在受限生长腔中的氧化铜箔衬底上制备石墨烯,对比研究了石英和刚玉两种材质的受限生长腔中,不同甲烷流量和生长时间条件下氧化铜箔衬底上石墨烯的形核生长状况。结果表明,相同生长条件下,相较于石英受限生长腔,虽然刚玉受限生长腔中石墨烯的晶畴尺寸较小,但是氧化铜箔衬底表面沉积的杂质颗粒较少,因而石墨烯的形核密度较低,晶体质量较高,更有利于大尺寸、高质量石墨烯的制备。 展开更多
关键词 石墨烯 低压化学气相沉积 受限生长腔 氧化铜箔 衬底 形核
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ITO/BZO复合薄膜制备及在非晶硅薄膜太阳能电池的应用 被引量:6
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作者 黄建华 刘怀周 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第2期515-519,共5页
采用低压化学气相沉积(LPCVD)法在沉积ITO薄膜的玻璃衬底上制备了硼掺杂氧化锌(BZO)薄膜,研究了ITO缓冲层对ITO/BZO复合薄膜表观形貌、导电性能和光学性能的影响;并研究了ITO/BZO薄膜在非晶硅薄膜太阳能电池的应用。结果表明,以ITO作为... 采用低压化学气相沉积(LPCVD)法在沉积ITO薄膜的玻璃衬底上制备了硼掺杂氧化锌(BZO)薄膜,研究了ITO缓冲层对ITO/BZO复合薄膜表观形貌、导电性能和光学性能的影响;并研究了ITO/BZO薄膜在非晶硅薄膜太阳能电池的应用。结果表明,以ITO作为缓冲层来沉积BZO薄膜,有利于BZO晶粒尺寸的长大,并可以显著提高BZO薄膜的导电能力。ITO/BZO复合薄膜具有相对较高的导电能力和光学透光率,应用在非晶硅薄膜太阳能电池时转化效率提高0.20%。 展开更多
关键词 透明导电氧化物 硼掺杂氧化锌 复合薄膜 低压化学沉积 非晶硅薄膜太阳能电池
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