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亮暗衬线法校正邻近效应及其实验研究
被引量：
1
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作者
杜惊雷
粟敬钦
+4 位作者
姚军
张怡霄
高福华
杨丽娟
崔铮
《激光技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2000年第4期213-217,共5页
光学光刻中的邻近效应校正是实现亚微米光刻的必要手段。作者基于波前加工的思想 ,提出亚分辨亮暗衬线结合辅助线条实现邻近效应校正的方法 ,分析了其校正机理 ,采用这种新方法 ,在可加工 0 .7μm光刻图形的I线投影曝光装置上加工出了 0...
光学光刻中的邻近效应校正是实现亚微米光刻的必要手段。作者基于波前加工的思想 ,提出亚分辨亮暗衬线结合辅助线条实现邻近效应校正的方法 ,分析了其校正机理 ,采用这种新方法 ,在可加工 0 .7μm光刻图形的I线投影曝光装置上加工出了 0 .5μm的光刻图形 ,取得了较好的实验结果 ,并与其它邻近效应的校正方法进行了比较。
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关键词
邻近效应
光学邻近校正
亚微米光剂
亮暗补线法
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职称材料
题名
亮暗衬线法校正邻近效应及其实验研究
被引量：
1
1
作者
杜惊雷
粟敬钦
姚军
张怡霄
高福华
杨丽娟
崔铮
机构
四川大学物理系
Central Microstructure Facility
出处
《激光技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2000年第4期213-217,共5页
基金
微细加工光学技术国家重点实验室基金
国家自然科学基金
教育部博士点基金资助
文摘
光学光刻中的邻近效应校正是实现亚微米光刻的必要手段。作者基于波前加工的思想 ,提出亚分辨亮暗衬线结合辅助线条实现邻近效应校正的方法 ,分析了其校正机理 ,采用这种新方法 ,在可加工 0 .7μm光刻图形的I线投影曝光装置上加工出了 0 .5μm的光刻图形 ,取得了较好的实验结果 ,并与其它邻近效应的校正方法进行了比较。
关键词
邻近效应
光学邻近校正
亚微米光剂
亮暗补线法
Keywords
proximity effects OPC submicron photolithography
分类号
TN405.7 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
亮暗衬线法校正邻近效应及其实验研究
杜惊雷
粟敬钦
姚军
张怡霄
高福华
杨丽娟
崔铮
《激光技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2000
1
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