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亚稳态氦原子束在纳米结构制作中的应用
被引量：
3
1
作者
陈献忠
姚汉民
陈旭南
《强激光与粒子束》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2003年第9期919-922,共4页
介绍两种用亚稳态氦原子束制作纳米结构的新方法。亚稳态原子束从原子源喷出后首先对其进行横向激光冷却,准直后的原子束穿过与之垂直的激光驻波场时发生淬火过程,原子的密度分布出现沟道化效应,给出基于光掩模制作纳米图形的基本原...
介绍两种用亚稳态氦原子束制作纳米结构的新方法。亚稳态原子束从原子源喷出后首先对其进行横向激光冷却,准直后的原子束穿过与之垂直的激光驻波场时发生淬火过程,原子的密度分布出现沟道化效应,给出基于光掩模制作纳米图形的基本原理、理论分析及模拟结果。介绍基于物理掩模制作纳米图形的原理和SAM抗蚀剂,利用沉积在基底上的亚稳态原子破坏基底上的SAM膜,结合刻蚀技术可制作出纳米量级的图形。
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关键词
亚稳态原子束
纳米结构制作
光掩模
光驻波淬火
自组装单分子膜抗蚀剂
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职称材料
题名
亚稳态氦原子束在纳米结构制作中的应用
被引量：
3
1
作者
陈献忠
姚汉民
陈旭南
机构
中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室
出处
《强激光与粒子束》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2003年第9期919-922,共4页
基金
中科院知识工程创新课题(A2K0009)
中科院开放基金资助课题
文摘
介绍两种用亚稳态氦原子束制作纳米结构的新方法。亚稳态原子束从原子源喷出后首先对其进行横向激光冷却,准直后的原子束穿过与之垂直的激光驻波场时发生淬火过程,原子的密度分布出现沟道化效应,给出基于光掩模制作纳米图形的基本原理、理论分析及模拟结果。介绍基于物理掩模制作纳米图形的原理和SAM抗蚀剂,利用沉积在基底上的亚稳态原子破坏基底上的SAM膜,结合刻蚀技术可制作出纳米量级的图形。
关键词
亚稳态原子束
纳米结构制作
光掩模
光驻波淬火
自组装单分子膜抗蚀剂
Keywords
Metastable atomic beam
Nanostructures Fabrication
Mask made of light
Light standing-wave quenching
SAM resist
分类号
TN305 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
亚稳态氦原子束在纳米结构制作中的应用
陈献忠
姚汉民
陈旭南
《强激光与粒子束》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2003
3
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