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可见光波段亚波长防伪光栅的实验研究
被引量：
4
1
作者
陈永利
赵达尊
+2 位作者
张静方
朱军
王晓利
《北京理工大学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008年第2期139-142,共4页
研究可见光波段亚波长防伪光栅的制做.给出了用2θ夹角一次光刻、2θ夹角摆动δ角两次光刻和2θ夹角旋转β角两次光刻等干涉光刻工艺设计和构建可见光波段亚波长光栅微结构的基本原理.优化设计的干板表面曝光量分布函数可用于构建特定...
研究可见光波段亚波长防伪光栅的制做.给出了用2θ夹角一次光刻、2θ夹角摆动δ角两次光刻和2θ夹角旋转β角两次光刻等干涉光刻工艺设计和构建可见光波段亚波长光栅微结构的基本原理.优化设计的干板表面曝光量分布函数可用于构建特定面形分布的光栅微结构.制作了可见光波段的1维和2维亚波长光栅微结构,给出了其SEM和AFM实验数据和理论分析图形,检验了微结构的彩色防伪光变效果.实验结果表明:该干涉光刻工艺能够构建出表面光滑、深度较大的复杂光栅微结构,并能展现出一定的彩色光变效果.
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关键词
亚波长光栅微结构
防伪光变图像
高频
光栅
构建
干涉光刻
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职称材料
题名
可见光波段亚波长防伪光栅的实验研究
被引量：
4
1
作者
陈永利
赵达尊
张静方
朱军
王晓利
机构
北京理工大学信息科学技术学院颜色科学与工程国家专业实验室
中钞特种防伪科技有限公司
出处
《北京理工大学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008年第2期139-142,共4页
基金
国家部委预研项目(2006.7.2.3)
文摘
研究可见光波段亚波长防伪光栅的制做.给出了用2θ夹角一次光刻、2θ夹角摆动δ角两次光刻和2θ夹角旋转β角两次光刻等干涉光刻工艺设计和构建可见光波段亚波长光栅微结构的基本原理.优化设计的干板表面曝光量分布函数可用于构建特定面形分布的光栅微结构.制作了可见光波段的1维和2维亚波长光栅微结构,给出了其SEM和AFM实验数据和理论分析图形,检验了微结构的彩色防伪光变效果.实验结果表明:该干涉光刻工艺能够构建出表面光滑、深度较大的复杂光栅微结构,并能展现出一定的彩色光变效果.
关键词
亚波长光栅微结构
防伪光变图像
高频
光栅
构建
干涉光刻
Keywords
subwavelength grating microstructures
security optical variable image devices
fabrication of high frequency gratings
interference lithography
分类号
O436.3 [机械工程—光学工程]
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1
可见光波段亚波长防伪光栅的实验研究
陈永利
赵达尊
张静方
朱军
王晓利
《北京理工大学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008
4
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