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Ar^+刻蚀对MoS_2润滑膜分子结构的影响
被引量：
2
1
作者
齐尚奎
余来贵
+1 位作者
吕晋军
杨生荣
《摩擦学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2001年第1期47-50,共4页
采用 Ar+ 离子溅射源进行 XPS和 AES剖面分析 ,结果发现 ,Ar+ 对 Mo S2 分子中的 S原子产生“择优”选择刻蚀并随之生成非化学计量比的 Mo Sx,Mo原子被还原 ,Mo3d结合能值向低端位移约 1.7e V.应该注意的是 ,采用 Ar+ 溅射进行 XPS剖面...
采用 Ar+ 离子溅射源进行 XPS和 AES剖面分析 ,结果发现 ,Ar+ 对 Mo S2 分子中的 S原子产生“择优”选择刻蚀并随之生成非化学计量比的 Mo Sx,Mo原子被还原 ,Mo3d结合能值向低端位移约 1.7e V.应该注意的是 ,采用 Ar+ 溅射进行 XPS剖面分析时不能确定材料表面和界面元素的化学价态 ,S/ Mo原子比同实验值之间亦存在差异 ,故应采用有关软件对实验结果进行修正 .
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关键词
氩离子溅射
择优刻蚀
XPS
AES
二硫化钼润滑膜
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职称材料
题名
Ar^+刻蚀对MoS_2润滑膜分子结构的影响
被引量：
2
1
作者
齐尚奎
余来贵
吕晋军
杨生荣
机构
中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室
出处
《摩擦学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2001年第1期47-50,共4页
文摘
采用 Ar+ 离子溅射源进行 XPS和 AES剖面分析 ,结果发现 ,Ar+ 对 Mo S2 分子中的 S原子产生“择优”选择刻蚀并随之生成非化学计量比的 Mo Sx,Mo原子被还原 ,Mo3d结合能值向低端位移约 1.7e V.应该注意的是 ,采用 Ar+ 溅射进行 XPS剖面分析时不能确定材料表面和界面元素的化学价态 ,S/ Mo原子比同实验值之间亦存在差异 ,故应采用有关软件对实验结果进行修正 .
关键词
氩离子溅射
择优刻蚀
XPS
AES
二硫化钼润滑膜
Keywords
Argon
Coatings
Crystal structure
Etching
Ion beam lithography
Lubrication
Molybdenum compounds
X ray photoelectron spectroscopy
分类号
TE626.4 [石油与天然气工程—油气加工工程]
O614.612 [理学—无机化学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
Ar^+刻蚀对MoS_2润滑膜分子结构的影响
齐尚奎
余来贵
吕晋军
杨生荣
《摩擦学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2001
2
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职称材料
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